通過(guò)移動(dòng)透鏡進(jìn)行光刻的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種通過(guò)移動(dòng)透鏡進(jìn)行光刻的方法，具體包括：光刻所用的光垂直向下入射，直至達(dá)到第一分光鏡；第一分光光路沿水平方向發(fā)射，直至其到達(dá)第一折射鏡；第一分光光路經(jīng)過(guò)第一折射鏡折射，沿垂直方向發(fā)射，直至其到達(dá)準(zhǔn)直裝置3；第一分光光路到達(dá)第三折射鏡，被第三折射鏡折射，沿水平方向發(fā)射，直至其到達(dá)凹面折射鏡；第一分光光路第二次被凹面折射鏡折射后，到達(dá)第四折射鏡，被第四折射鏡折射之后，沿垂直方向打入位于工作臺(tái)上的晶圓；運(yùn)行移動(dòng)裝置，依次對(duì)晶圓上的每個(gè)晶粒進(jìn)行光刻。使用本發(fā)明所述的方法，只移動(dòng)折射鏡，移動(dòng)路程短，則所需的操作空間減小，有利于減小光刻機(jī)的體積。
【專利說(shuō)明】
通過(guò)移動(dòng)透鏡進(jìn)行光刻的方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)，具體涉及一種通過(guò)移動(dòng)透鏡進(jìn)行光刻的方法。【背景技術(shù)】
[0002]光刻是半導(dǎo)體制造的重要流程之一，具體是利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。
[0003]由于光刻要在整個(gè)晶圓(wafer)上進(jìn)行，而一個(gè)晶圓包括多個(gè)晶粒(die)，所以光刻技術(shù)要重復(fù)多次，保證在每個(gè)晶粒上都刻蝕了所需要的圖案。如何進(jìn)行此種重復(fù)過(guò)程，在現(xiàn)有技術(shù)中，一般有兩種方法，一是光刻鏡頭固定，移動(dòng)放置晶圓的工作臺(tái)，依次刻蝕每個(gè)晶粒，二是移動(dòng)光刻鏡頭，而放置晶圓的工作臺(tái)固定。此兩種方法的缺點(diǎn)是移動(dòng)距離大，則操作所需要的空間大。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明公開(kāi)了一種通過(guò)移動(dòng)透鏡進(jìn)行光刻的方法。
[0005]本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
[0006]—種通過(guò)移動(dòng)透鏡進(jìn)行光刻的方法，包括以下步驟:
[0007]步驟1、光刻所用的光垂直向下入射，直至達(dá)到第一分光鏡；
[0008]步驟2、第一分光光路沿水平方向發(fā)射，直至其到達(dá)第一折射鏡；同時(shí)第二分光光路沿垂直方向發(fā)射，直至其到達(dá)第二折射鏡；
[0009]步驟3、第一分光光路經(jīng)過(guò)第一折射鏡折射，沿垂直方向發(fā)射，直至其到達(dá)準(zhǔn)直裝置3，進(jìn)行準(zhǔn)直過(guò)程;同時(shí)，第二分光光路經(jīng)過(guò)第二折射鏡折射，到達(dá)觀測(cè)目鏡被觀測(cè)者所觀測(cè)；
[0010]步驟4、第一分光光路在被準(zhǔn)直之后，到達(dá)第三折射鏡，被第三折射鏡折射，沿水平方向發(fā)射，直至其到達(dá)凹面折射鏡；
[0011]步驟5、第一分光光路被凹面折射鏡折射之后，到達(dá)凹面折射鏡的焦點(diǎn)之處的凸面折射鏡，又被折射回凹面折射鏡；
[0012]步驟6、第一分光光路第二次被凹面折射鏡折射后，到達(dá)第四折射鏡，被第四折射鏡折射之后，沿垂直方向打入位于工作臺(tái)上的晶圓；[〇〇13]步驟7、運(yùn)行移動(dòng)裝置，固定在移動(dòng)裝置之上的第四折射鏡的隨之移動(dòng)，則第一分光光路的出射位置隨之移動(dòng)，依次對(duì)晶圓上的每個(gè)晶粒進(jìn)行光刻。
[0014]本發(fā)明的有益技術(shù)效果是:
[0015]使用本發(fā)明所述的方法，可以通過(guò)移動(dòng)固定在移動(dòng)裝置上的第四折射鏡的位置， 即可移動(dòng)光刻機(jī)所發(fā)出的光線的位置，依次對(duì)一個(gè)晶圓上的所有晶粒進(jìn)行光刻流程。由于只移動(dòng)折射鏡，移動(dòng)路程短，則所需的操作空間減小，有利于減小光刻機(jī)的體積?！靖綀D說(shuō)明】
[0016]圖1是本發(fā)明的光路原理圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0017]圖1是本發(fā)明的光路原理圖。如圖1所示，本發(fā)明的光路包括成45°角放置的第一分光鏡1。第一分光鏡1的水平光出射方向放置有與第一分光鏡1垂直的第一折射鏡2。第一分光鏡2的垂直光出射方向放置有與第一分光鏡2平行的第二折射鏡9，第二折射鏡9的光出射方向放置有觀測(cè)目鏡10。第一折射鏡2的光出射方向放置有準(zhǔn)直裝置3。準(zhǔn)直裝置3的光出射方向放置有第三折射鏡4。第三折射鏡4的對(duì)稱方向放置有第四折射鏡7。第三折射鏡4的光出射方向放置有凹面折射鏡6。凹面折射鏡6的焦點(diǎn)之處放置有凸面折射鏡5。第四折射鏡7 固定在移動(dòng)裝置8之上。[〇〇18]本發(fā)明的工作原理為:
[0019]步驟1、光刻所用的光垂直向下入射，直至達(dá)到第一分光鏡1;
[0020]步驟2、第一分光光路沿水平方向發(fā)射，直至其到達(dá)第一折射鏡2;同時(shí)第二分光光路沿垂直方向發(fā)射，直至其到達(dá)第二折射鏡9;[〇〇21]步驟3、第一分光光路經(jīng)過(guò)第一折射鏡2折射，沿垂直方向發(fā)射，直至其到達(dá)準(zhǔn)直裝置3，進(jìn)行準(zhǔn)直過(guò)程；同時(shí)，第二分光光路經(jīng)過(guò)第二折射鏡9折射，到達(dá)觀測(cè)目鏡10被觀測(cè)者所觀測(cè)；[〇〇22]步驟4、第一分光光路在被準(zhǔn)直之后，到達(dá)第三折射鏡4,被第三折射鏡4折射，沿水平方向發(fā)射，直至其到達(dá)凹面折射鏡6;
[0023]步驟5、第一分光光路被凹面折射鏡6折射之后，到達(dá)凹面折射鏡6的焦點(diǎn)之處的凸面折射鏡5，又被折射回凹面折射鏡6;[〇〇24]步驟6、第一分光光路第二次被凹面折射鏡6折射后，到達(dá)第四折射鏡7,被第四折射鏡7折射之后，沿垂直方向打入位于工作臺(tái)上的晶圓；
[0025]步驟7、運(yùn)行移動(dòng)裝置8,固定在移動(dòng)裝置8之上的第四折射鏡7的隨之移動(dòng)，則第一分光光路的出射位置隨之移動(dòng)，依次對(duì)晶圓上的每個(gè)晶粒進(jìn)行光刻。
[0026]以上所述的僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，本發(fā)明不限于以上實(shí)施例。可以理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和構(gòu)思的前提下直接導(dǎo)出或聯(lián)想到的其他改進(jìn)和變化，均應(yīng)認(rèn)為包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種通過(guò)移動(dòng)透鏡進(jìn)行光刻的方法，其特征在于，包括以下步驟:步驟1、光刻所用的光垂直向下入射，直至達(dá)到第一分光鏡(1);步驟2、第一分光光路沿水平方向發(fā)射，直至其到達(dá)第一折射鏡(2);同時(shí)第二分光光路 沿垂直方向發(fā)射，直至其到達(dá)第二折射鏡(9);步驟3、第一分光光路經(jīng)過(guò)第一折射鏡(2)折射，沿垂直方向發(fā)射，直至其到達(dá)準(zhǔn)直裝置 3,進(jìn)行準(zhǔn)直過(guò)程；同時(shí)，第二分光光路經(jīng)過(guò)第二折射鏡(9)折射，到達(dá)觀測(cè)目鏡(10)被觀測(cè) 者所觀測(cè)；步驟4、第一分光光路在被準(zhǔn)直之后，到達(dá)第三折射鏡(4)，被第三折射鏡(4)折射，沿水 平方向發(fā)射，直至其到達(dá)凹面折射鏡(6);步驟5、第一分光光路被凹面折射鏡(6)折射之后，到達(dá)凹面折射鏡(6)的焦點(diǎn)之處的凸 面折射鏡(5)，又被折射回凹面折射鏡(6);步驟6、第一分光光路第二次被凹面折射鏡(6)折射后，到達(dá)第四折射鏡(7)，被第四折 射鏡(7)折射之后，沿垂直方向打入位于工作臺(tái)上的晶圓；步驟7、運(yùn)行移動(dòng)裝置(8)，固定在移動(dòng)裝置(8)之上的第四折射鏡(7)的隨之移動(dòng)，則第 一分光光路的出射位置隨之移動(dòng)，依次對(duì)晶圓上的每個(gè)晶粒進(jìn)行光刻。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK105954979SQ201610551761
【公開(kāi)日】2016年9月21日
【申請(qǐng)日】2016年7月13日
【發(fā)明人】呂耀安
【申請(qǐng)人】無(wú)錫宏納科技有限公司