感放射線性樹脂組合物、紅外線遮蔽膜及其形成方法、固體攝像元件以及照度傳感器的制造方法

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感放射線性樹脂組合物、紅外線遮蔽膜及其形成方法、固體攝像元件以及照度傳感器的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種感放射線性樹脂組合物、紅外線遮蔽膜及其形成方法、固體攝像元件以及照度傳感器。利用本發(fā)明所涉及的感放射線性樹脂組合物，可形成具有高的紅外線遮蔽性的膜。該紅外線遮蔽膜可用于固體攝像元件、照度傳感器中。該感放射線性樹脂組合物含有[A]在同一或不同聚合物分子中具有含有酸解離性基的結構單元與含有交聯(lián)性基的結構單元的聚合物、[B]感放射線性產酸體、以及[C]紅外線遮蔽材。
【專利說明】
感放射線性樹脂組合物、紅外線廬蔽膜及其形成方法、固體攝像元件從及照度傳感器
技術領域
[0001] 本發(fā)明設及一種感放射線性樹脂組合物、紅外線遮蔽膜、其形成方法、及固體攝像元件、照度傳感器。
【背景技術】
[0002] 在智能手機、攝像機等中使用作為彩色圖像固體攝像元件的互補金屬氧化物半導體(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)圖像傳感器忍片。運些固體攝像元件在其受光部中使用對近紅外線具有靈敏度的娃光電二極管，因此要求對可見度進行校正，因而使用紅外線截止濾光片(例如參照專利文獻1)。
[0003] 而且，在智能手機等中搭載有照度傳感器，在室內、室外的畫面亮度調整等中使用，因而使用紅外線截止濾光片(例如參照專利文獻2)。
[0004] 然而存在如下問題:如果如上所述地使固體攝像元件基板等的表面與紅外線截止濾光片隔著空間相對，則固體攝像元件對所接收的光的入射角依存性變大，此成為運轉失常(malfunction)的原因。
[0005] 為了降低紅外線截止濾光片的入射角依存性，進行了在基板上形成硬化性樹脂組合物膜的嘗試(例如參照專利文獻3)。
[0006] 然而，運些硬化性樹脂組合物難W高靈敏度、圖案化性良好地形成紅外線遮蔽膜的圖案。
[0007] 因此，自固體攝像元件或照度傳感器的生產性提高的觀點考慮，要求可高靈敏度地形成紅外線遮蔽膜的圖案，圖案化性優(yōu)異的感放射線性樹脂組合物。
[000引[現(xiàn)有技術文獻]
[0009] [專利文獻]
[0010] [專利文獻1]日本專利特開2012-28620號公報
[0011] [專利文獻2]日本專利特開2011-60788號公報
[0012] [專利文獻3]日本專利特開2012-189632號公報

【發(fā)明內容】

[001引[發(fā)明所要解決的問題]
[0014]本發(fā)明是基于如上所述的事實而成的，其目的在于提供可高靈敏度地形成紅外線遮蔽膜的圖案，遮蔽性、耐化學品性、折射率優(yōu)異的感放射線性樹脂組合物，提供包含由該感放射線性樹脂組合物而形成的紅外線遮蔽膜的固體攝像元件、照度傳感器、W及紅外線遮蔽膜的形成方法。
[001引[解決問題的技術手段]
[0016]為了解決所述課題而成的發(fā)明可通過含有：[A]在同一或不同聚合物分子中具有含有酸解離性基的結構單元與含有交聯(lián)性基的結構單元的聚合物、[B]感放射線性產酸體、 W及[c]紅外線遮蔽材的感放射線性樹脂組合物而達成;進一步通過所述酸解離性基是下述式（1)所表示的基及下述式(2)所表示的基中的至少一個的根據技術方案1所述的感放射線性樹脂組合物而達成。
[0017][化1]
[001 引
[0019] 試（1)中，Ri及R2分別獨立為氨原子、碳數1~30的控基、或碳數1~30的控基所具有的氨原子的一部分被徑基、面素原子或氯基取代的基。其中，并無 Ri及R2均為氨原子的情況。R3是碳數1~30的氧基控基、碳數1~30的控基、或碳數1~30的控基所具有的氨原子的一部分被徑基、面素原子或氯基取代的基。式(2)中，R4~rW分別獨立為氨原子或碳數1~12 的控基。η是1或2。*表示鍵結位）
[0020] 而且，為了解決所述課題而成的另一發(fā)明可通過由該感放射線性樹脂組合物而形成的紅外線遮蔽膜、包含該紅外線遮蔽膜的固體攝像元件或照度傳感器而達成。
[0021] 另外可通過如下的紅外線遮蔽膜的形成方法而達成:其包含在基板上形成涂膜的步驟、對所述涂膜的至少一部分照射放射線的步驟、對所述照射了放射線的涂膜進行顯影的步驟、及對所述進行了顯影的涂膜進行加熱的步驟，使用本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物而形成所述涂膜。
[0022] [發(fā)明的效果]
[0023] 本發(fā)明是基于如上所述的事實而成的，其目的在于提供可高靈敏度地形成紅外線遮蔽膜的圖案，紅外線遮蔽性、耐化學品性、折射率優(yōu)異的感放射線性樹脂組合物，而且提供包含由該感放射線性樹脂組合物而形成的紅外線遮蔽膜的固體攝像元件、照度傳感器、 W及紅外線遮蔽膜的形成方法。
[0024] 可提供由該感放射線性樹脂組合物而形成的紅外線遮蔽膜及其形成方法、W及包含該紅外線遮蔽膜的固體攝像元件。
[0025] 因此，該感放射線性樹脂組合物、該紅外線遮蔽膜及其形成方法可在固體攝像元件、照度傳感器等的制造工藝中適宜地使用。
【附圖說明】
[0026] 圖1是表示包含本發(fā)明的實施方式的固體攝像元件的相機模塊的構成的概略圖。
[0027] 圖2是表示本發(fā)明的實施方式的照度傳感器的構成的概略圖。
[002引附圖標記說明：
[0029] 1:照度傳感器
[0030] 2:照度傳感器部
[0031] 4:玻璃環(huán)氧樹脂基板(基板）
[0032] 6:照度傳感器受光元件
[0033] 8:距離檢測用受光元件
[0034] 10:紅外線發(fā)光元件(發(fā)光元件）
[003引 12:金線
[0036] 16:樹脂
[0037] 18:紅外線遮蔽膜 [003引 30:玻璃基板
[0039] 40:攝像透鏡
[0040] 42:紅外線遮蔽膜/近紅外線截止濾光片
[0041] 44:遮光兼電磁屏蔽材
[0042] 50:透鏡支架
[0043] 60:焊球
[0044] 70:電路基板
[0045] 100:固體攝像元件基板
[0046] 200:相機模塊
【具體實施方式】
[0047] <感放射線性樹脂組合物〉
[0048] 本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物是含有[A]在同一或不同聚合物分子中具有含有酸解離性基的結構單元與含有交聯(lián)性基的結構單元的聚合物、[B]感放射線性產酸體、W及 [C]紅外線遮蔽材的感放射線性樹脂組合物。另外，該感放射線性樹脂組合物還可W在不損及本發(fā)明的效果的范圍內含有其他任意成分。W下，關于各成分加 W詳述。
[0049] <[A]聚合物成分〉
[0050] 聚合物成分具有含有酸解離性基的第1結構單元與含有交聯(lián)性基的第2結構單元。
[0051] [A]聚合物成分具有所述結構單元，因此該感放射線性樹脂組合物的靈敏度優(yōu)異，且可抑制顯影步驟后、后烘烤步驟后的未曝光部的膜厚變化。而且，[A]聚合物成分還可W 在不損及本發(fā)明的效果的范圍內具有其他結構單元。另外，[A]聚合物成分還可W具有兩種 W上各結構單元。
[0052] [A]聚合物成分例如可列舉：
[0053] (1)含有具有第1結構單元及第2結構單元的聚合物的聚合物成分、
[0054] (2)含有具有第1結構單元的第1聚合物與具有第2結構單元的第2聚合物的聚合物成分等。
[0055] W下，關于第1結構單元、第2結構單元及其他結構單元而加 W詳述。
[0056] [第1結構單元]
[0057] 第1結構單元具有酸解離性基。該酸解離性基作為在聚合物中保護簇基或酪性徑基等的保護基而起作用。具有此種保護基的聚合物通常不溶或難溶于堿性水溶液。該聚合物由于保護基是酸解離性基，因此保護基由于酸的作用而裂解，由此變得可溶于堿性水溶液中。
[0058] 該感放射線性樹脂組合物通過使[A]聚合物成分具有第1結構單元而實現(xiàn)高的放射線靈敏度，變得可提高由顯影等所得的圖案形狀的穩(wěn)定性。
[0059] 作為含有酸解離性基的第1結構單元，優(yōu)選為含有下述式（1)或下述式(2)所表示的基的結構單元。
[0060] [化2]
[0061]
[0062] 式（1)中，Ri及R2分別獨立為氨原子、碳數1~30的控基、或碳數1~30的控基所具有的氨原子的一部分被徑基、面素原子或氯基取代的基。其中，并無 Ri及R2均為氨原子的情況。 R3是碳數1~30的氧基控基、碳數1~30的控基、或碳數1~30的控基所具有的氨原子的一部分被徑基、面素原子或氯基取代的基。
[0063] 式(2)中，R4~rW分別獨立為氨原子或碳數1~12的控基。η是1或2。*表示鍵結位。
[0064] 作為具有所述式（1)所表示的基的結構單元，例如可列舉下述式（1-1)~式（1-10) 所表示的結構單元等。
[0065] [化引
[0066]
[0067] 所述式(1-1)~式(1-10)中，RU表示氨原子或甲基。
[0068] 作為提供第1結構單元的式（1-1)~式（1-10)所表示的結構單元的單體，例如可列舉甲基丙締酸-1-乙氧基乙醋、甲基丙締酸-1-下氧基乙醋、甲基丙締酸-1-(Ξ環(huán)癸基氧基）乙醋、甲基丙締酸-1-(五環(huán)十五烷基甲基氧基）乙醋、甲基丙締酸-1-(五環(huán)十五烷基氧基）乙醋、甲基丙締酸-1-(四環(huán)十二烷基甲基氧基）乙醋、甲基丙締酸-1-(金剛烷基氧基）乙醋等。
[0069] 作為具有所述式(2)所表示的基的結構單元，例如可列舉下述式(2-1)~式(2-5) 所表示的結構單元等。
[0070] [化4]
[0071]
[0072] 所述式(2-1)~式(2-5)中，RU表示氨原子或甲基。
[0073] 作為提供所述式(2)所表示的結構單元的單體，優(yōu)選甲基丙締酸四氨-2H-化喃-2- 基醋(2-3)。
[0074] 作為第1結構單元的含有比例，相對于構成[A]聚合物成分的所有結構單元而言優(yōu) 選為0.1摩爾％ W上、80摩爾％ ^下，更優(yōu)選為1摩爾％ W上、60摩爾％ ^下，進一步更優(yōu)選為10摩爾％ W上、40摩爾％ w下。
[00對[第2結構單元]
[0076] 第2結構單元含有交聯(lián)性基。由該感放射線性樹脂組合物所形成的紅外線遮蔽膜由于[A]聚合物具有含有交聯(lián)性基的結構單元，可通過構成[A]聚合物的聚合物彼此交聯(lián)或構成[A]聚合物的聚合物與后述的[D]具有環(huán)狀酸基的化合物等交聯(lián)而提高紅外線遮蔽膜的膜強度。
[0077] 所述交聯(lián)性基優(yōu)選為選自由環(huán)氧基(氧雜環(huán)丙基、氧雜環(huán)下基）、脂環(huán)環(huán)氧基、（甲基)丙締酷基、乙締基所構成的群組的至少一種。通過具有此種交聯(lián)基，可進一步提高由該感放射線性樹脂組合物所形成的紅外線遮蔽膜的強度。
[0078] 作為含有交聯(lián)性基的結構單元，例如可列舉下述式所表示的結構單元。
[0079] [化5]
[0080]
[OOW] 所述式中，Ri堪氨原子或甲基。
[0082] 作為提供含有交聯(lián)性基的結構單元的單體，優(yōu)選含有（甲基）丙締酷基、氧雜環(huán)丙基或氧雜環(huán)下基的單體，更優(yōu)選含有氧雜環(huán)丙基或氧雜環(huán)下基的單體，進一步更優(yōu)選甲基丙締酸縮水甘油醋、3-甲基丙締酷基氧基甲基-3-乙基氧雜環(huán)下燒、甲基丙締酸-3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲醋、丙締酸-3,4-環(huán)氧Ξ環(huán)[5.2.1.02'6]癸醋。
[0083] 作為含有交聯(lián)性基的結構單元的含有比例，相對于構成[A]聚合物的所有結構單元而言優(yōu)選為0.1摩爾％ W上、80摩爾％ ^下，更優(yōu)選為1摩爾％ W上、60摩爾％ ^下。通過將含有交聯(lián)性基的結構單元的含有比例設為所述范圍，可有效地提高紅外線遮蔽膜的強度。
[0084] [其他結構單元]
[0085] [A]聚合物還可W在不損及本發(fā)明的效果的范圍內具有第1結構單元、第2結構單元及其W外的其他結構單元。
[0086] 作為提供其他結構單元的單體，例如可列舉（甲基)丙締酸、具有簇基的（甲基)丙締酸醋、具有醇性徑基的（甲基)丙締酸醋、（甲基)丙締酸鏈狀烷基醋、（甲基)丙締酸環(huán)狀燒基醋、（甲基)丙締酸芳基醋、不飽和芳香族化合物等。
[0087] 具有簇基的（甲基)丙締酸醋可列舉2-甲基丙締酷氧基乙基班巧酸醋、2-丙締酷氧基乙基班巧酸醋、2-甲基丙締酷氧基乙基六氨鄰苯二甲酸醋、2-丙締酷氧基乙基六氨鄰苯二甲酸醋等。
[0088] 具有醇性徑基的（甲基)丙締酸醋例如可列舉丙締酸-2-徑基乙醋、丙締酸-3-徑基丙醋、丙締酸-4-徑基下醋、丙締酸-5-徑基戊醋、丙締酸-6-徑基己醋、甲基丙締酸-2-徑基乙醋、甲基丙締酸-3-徑基丙醋、甲基丙締酸-4-徑基下醋、甲基丙締酸-5-徑基戊醋、甲基丙締酸-6-徑基己醋等。
[0089] (甲基）丙締酸鏈狀烷基脂例如可列舉甲基丙締酸甲醋、甲基丙締酸乙醋、甲基丙締酸正下醋、甲基丙締酸仲下醋、甲基丙締酸叔下醋、甲基丙締酸-2-乙基己醋、甲基丙締酸異癸醋、甲基丙締酸正月桂醋、甲基丙締酸十Ξ烷基醋、甲基丙締酸正硬脂醋、丙締酸甲醋、丙締酸乙醋、丙締酸正下醋、丙締酸仲下醋、丙締酸叔下醋、丙締酸-2-乙基己醋、丙締酸異癸醋、丙締酸正月桂醋、丙締酸十Ξ烷基醋、丙締酸正硬脂醋等。
[0090] (甲基）丙締酸環(huán)狀烷基醋例如可列舉甲基丙締酸環(huán)己醋、甲基丙締酸-2-甲基環(huán) 己醋、甲基丙締酸Ξ環(huán)[5.2.1.02'6]癸燒-8-基醋、甲基丙締酸Ξ環(huán)[5.2.1.0 2'6]癸燒-8-基氧基乙醋、甲基丙締酸異冰片醋、丙締酸環(huán)己醋、丙締酸-2-甲基環(huán)己醋、丙締酸Ξ環(huán) [5.2.1.02'6]癸燒-8-基醋、丙締酸Ξ環(huán)[5.2.1.02' 6]癸燒-8-基氧基乙脂、丙締酸異冰片醋等。
[0091] (甲基)丙締酸芳基醋例如可列舉甲基丙締酸苯醋、甲基丙締酸節(jié)醋、丙締酸苯醋、丙締酸節(jié)醋等。
[0092] 不飽和芳香族化合物例如可列舉苯乙締、α-甲基苯乙締、鄰甲基苯乙締、間甲基苯乙締、對甲基苯乙締、對甲氧基苯乙締、Ν-苯基馬來酷亞胺、Ν-環(huán)己基馬來酷亞胺、Ν-甲苯基馬來酷亞胺、Ν-糞基馬來酷亞胺、Ν-乙基馬來酷亞胺、Ν-己基馬來酷亞胺、Ν-芐基馬來酷亞胺等。
[0093] 作為其他結構單元的含有比例，相對于構成[Α]聚合物的所有結構單元而言，優(yōu)選為5摩爾％~30摩爾％，更優(yōu)選為10摩爾％~25摩爾％。通過將其他結構單元的含有比例設為5摩爾％~30摩爾％，可獲得使對于堿性水溶液的溶解性最優(yōu)化且放射線靈敏度優(yōu)異的感放射線性樹脂組合物。
[0094] <[Α]聚合物的合成方法〉
[0095] [Α]聚合物例如可通過如下方式而合成:使用自由基聚合引發(fā)劑，在適當的溶媒中使與規(guī)定的結構單元對應的單體聚合。作為[Α]聚合物的合成方法，優(yōu)選將含有單體及自由基引發(fā)劑的溶液滴加于含有反應溶媒的溶液中而使其進行聚合反應的方法;將含有單體的溶液與含有自由基引發(fā)劑的溶液分別滴加于含有反應溶媒的溶液中而使其進行聚合反應的方法;將含有各個單體的多種溶液與含有自由基引發(fā)劑的溶液分別滴加至含有反應溶媒的溶液中而使其進行聚合反應的方法。
[0096] 作為[Α]聚合物的聚合反應中所使用的溶媒，例如可列舉后述的該感放射線性樹脂組合物的制備的項中所例示的溶媒等。
[0097] 作為[Α]聚合物的聚合反應中所使用的聚合引發(fā)劑，可使用一般作為自由基聚合引發(fā)劑而已知的化合物，例如可列舉2,2/-偶氮雙異下臘、2,2/-偶氮雙(2,4-二甲基戊臘）、 2,2/-偶氮雙-(4-甲氧基-2,4-二甲基戊臘）、2,2/-偶氮雙（2-甲基丙酸甲醋）等偶氮化合物;過氧化苯甲酯、過氧化月桂酷、過氧化特戊酸叔下醋、1,1/-雙-(叔下基過氧基)環(huán)己燒等有機過氧化物;過氧化氨等。
[0098] 在[Α]聚合物的聚合反應中，為了調整分子量還可W使用分子量調整劑。分子量調整劑例如可列舉氯仿、四漠化碳等面代控類;正己基硫醇、正辛基硫醇、正十二烷基硫醇、叔十二烷基硫醇、琉基乙酸等硫醇類;硫化二甲基黃原酸醋、二硫化二異丙基黃原酸醋等黃原酸醋類;異松油締、α-甲基苯乙締二聚物等。
[0099] 構成[Α]聚合物的聚合物的利用凝膠滲透色譜法（Gel Permeation C虹omatography，GPC)的聚苯乙締換算重量平均分子量(Mw)優(yōu)選為2.0X 103w上、1 .ox 1〇5 W下，更優(yōu)選為5.0X 10?上、5.0X 10?下。通過使構成[A]聚合物的聚合物的Mw為所述范圍，可提高該感放射線性樹脂組合物的放射線靈敏度及堿顯影性。
[0100] 構成[A]聚合物的聚合物的利用GPC的聚苯乙締換算數量平均分子量(Μη)優(yōu)選為 2.0X103?上、1.0X105?下，更優(yōu)選為5.0X103?上、5.0X104?下。通過使構成[A]聚合物的聚合物的Μη為所述范圍，可使該感放射線性樹脂組合物的涂膜硬化時的硬化反應性提局。
[0101] 作為構成[Α]聚合物的聚合物的分子量分布(Mw/Mn)，優(yōu)選為3.0W下，更優(yōu)選為 2.6W下。通過使構成[A]聚合物的聚合物的Mw/Mn為3.0W下，可提高涂膜的顯影性。
[0102] <[B]感放射線性產酸體〉
[0103] [B]感放射線性產酸體是通過照射放射線而產生酸的化合物。放射線例如可使用可見光線、紫外線、遠紫外線、電子束、X射線等。通過使該感放射線性樹脂組合物含有[B]感放射線性產酸體，該感放射線性樹脂組合物可發(fā)揮感放射線特性，且可具有良好的靈敏度。作為[B]感放射線性產酸體在該感放射線性樹脂組合物中的含有形態(tài)，可W是作為后述的化合物的感放射線性產酸體下也適宜稱為?Β]感放射線性產酸體"）的形態(tài)，也可W是作為構成[A]聚合物成分的聚合物的一部分而并入的光產酸基的形態(tài)，還可W是所述兩種形態(tài)。
[0104] [B]感放射線性產酸體例如可列舉朽橫酸鹽化合物、鐵鹽、橫酷亞胺化合物、含有面素的化合物、重氮甲燒化合物、諷化合物、橫酸醋化合物、簇酸醋化合物等。特別優(yōu)選為月虧橫酸鹽化合物、橫酷亞胺化合物。另外，運些[B]感放射線性產酸體可W單獨使用或者將兩種W上組合使用。
[0105] [朽橫酸鹽化合物]
[0106] 朽橫酸鹽化合物優(yōu)選為含有下述式(3)所表示的目虧橫酸鹽基的化合物。
[0107] 「化 101
[010 引
[0109] 所述式(3)中，RBI是烷基、環(huán)烷基或芳基，運些基的氨原子的一部分或全部也可W 被取代基所取代。*表示鍵結位。
[0110] 所述烷基優(yōu)選為碳數1~12的直鏈狀或分支狀的烷基。該碳數1~12的直鏈狀或分支狀的烷基也可W被取代基取代，所述取代基例如可列舉碳數1~10的烷氧基、7,7-二甲基-2-氧代降冰片基等含有有橋式脂環(huán)基的脂環(huán)式基等。碳數1~12的氣烷基可列舉Ξ氣甲基、五氣乙基、屯氣丙基等。
[0111] 所述環(huán)烷基優(yōu)選為碳數4~12的脂環(huán)式控基。該碳數4~12的脂環(huán)式控基也可W被取代基所取代，所述取代基例如可列舉碳數1~5的烷基、烷氧基、面素原子等。
[0112] 所述芳基優(yōu)選為碳數6~20的芳基，更優(yōu)選為苯基、糞基、甲苯基、二甲苯基。所述芳基也可W被取代基取代，所述取代基例如可列舉碳數1~5的烷基、烷氧基、面素原子等。
[0113] 含有所述式(3)所表示的目虧橫酸鹽基的化合物是(5-丙基橫酷基氧基亞氨基-5H- 嚷吩-2-亞基)-(2-甲基苯基）乙臘、（5-辛基橫酷基氧基亞氨基-5H-嚷吩-2-亞基)-(2-甲基苯基）乙臘、（精腦橫酷基氧基亞氨基-5H-嚷吩-2-亞基)-(2-甲基苯基）乙臘、（5-對甲苯橫酷基氧基亞氨基-5H-嚷吩-2-亞基)-(2-甲基苯基）乙臘、（5-辛基橫酷基氧基亞氨基)-(4- 甲氧基苯基)乙臘，可作為市售品而獲得。
[0114] [橫酷亞胺化合物]
[0115] 橫酷亞胺化合物例如可列舉Ν-(Ξ氣甲基橫酷氧基)班巧酷亞胺、N-(精腦橫酷氧基)班巧酷亞胺、Ν-(4-甲基苯基橫酷氧基)班巧酷亞胺、Ν-(2-Ξ氣甲基苯基橫酷氧基)班巧酷亞胺、Ν-(4-氣苯基橫酷氧基）班巧酷亞胺、Ν-(Ξ氣甲基橫酷氧基）鄰苯二甲酯亞胺、Ν- (精腦橫酷氧基)鄰苯二甲酯亞胺、Ν-(2-Ξ氣甲基苯基橫酷氧基)鄰苯二甲酯亞胺、Ν-(2-氣苯基橫酷氧基)鄰苯二甲酯亞胺、Ν-(Ξ氣甲基橫酷氧基)二苯基馬來酷亞胺、Ν-(精腦橫酷氧基)二苯基馬來酷亞胺、4-(甲基苯基橫酷氧基)二苯基馬來酷亞胺、Ν-(2-Ξ氣甲基苯基橫酷氧基)二苯基馬來酷亞胺、Ν-(4-氣苯基橫酷氧基)二苯基馬來酷亞胺、Ν-(4-氣苯基橫酷氧基)二苯基馬來酷亞胺、Ν-(苯基橫酷氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-締-2,3-二簇基酷亞胺、 Ν-(4-甲基苯基橫酷氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-締-2,3-二簇基酷亞胺、Ν-(4-氣苯基橫酷氧基)糞基二簇基酷亞胺、Ν-(五氣乙基橫酷氧基)糞基二簇基酷亞胺、Ν-(屯氣丙基橫酷氧基）糞基二簇基酷亞胺、Ν-(九氣下基橫酷氧基)糞基二簇基酷亞胺、Ν-(乙基橫酷基氧基）糞基二簇基酷亞胺、Ν-(丙基橫酷氧基)糞基二簇基酷亞胺、Ν-(庚基橫酷氧基)糞基二簇基酷亞胺、Ν-(辛基橫酷氧基)糞基二簇基酷亞胺、Ν-(壬基橫酷氧基)糞基二簇基酷亞胺等。
[0116] 作為[Β]感放射線性產酸體，除了所述W外，還優(yōu)選鐵鹽、橫酷亞胺化合物、Ν-徑基糞二甲酯亞胺-Ξ氣甲橫酸醋。
[0117] 日本專利特開2012-189632號公報中所記載的由于照射光化射線或放射線而產生酸的化合物也可W作為本發(fā)明的感放射線性產酸體而使用。
[0118] 作為[Β]感放射線性產酸體的含量，相對于100質量份[Α]聚合物成分而言優(yōu)選為 0.1質量份~10質量份，更優(yōu)選為1質量份~5質量份。通過使[Β]感放射線性產酸體的含量為所述范圍，可使該感放射線性樹脂組合物的靈敏度最優(yōu)化，且可形成紅外線遮蔽膜的硬度高的紅外線遮蔽膜。
[0119] [C]紅外線遮蔽材
[0120] 作為本發(fā)明中所使用的紅外線遮蔽材，如果是吸收波長800nm~1200nm的光的化合物，則可并無特別限制地使用，可為金屬氧化物、銅化合物、紅外線吸收染料、紅外線吸收顏料的任意者。所謂"遮蔽"是指將空間的某部分自電場/磁場等外部力場的影響遮斷，所謂 "紅外線遮蔽材"是指具有遮斷紅外線的影響的效果的化合物。
[0121] 在本發(fā)明中所使用的金屬氧化物中，自對紅外光具有高的遮蔽性，W及使用波長 SOOnmW下的光源的圖案形成中的解析性、靈敏度的觀點考慮，紅外線遮蔽材更優(yōu)選W下所記載的鶴化合物或金屬棚化物，最優(yōu)選鶴化合物。
[0122] 鶴化合物是對紅外線(波長約8(K)nm~1200nm的光）的吸收高（亦即，對紅外線的遮蔽性高）、對可見光的吸收低的紅外線遮蔽材。因此，本發(fā)明的固體攝像元件用硬化性組合物由于含有鶴化合物，不僅僅在紅外區(qū)域的遮蔽性高，而且可W高靈敏度形成圖案。
[0123] 鶴化合物可列舉氧化鶴系化合物、棚化鶴系化合物、硫化鶴系化合物等，更優(yōu)選為下述通式(I)(組成式)所表示的氧化鶴系化合物。
[0124] MxWy0z...(I)
[01巧]Μ表示金屬，W表示鶴，0表示氧。
[0126] 0.001 <x/y< 1.1
[0127] 2.2<z/y<3.0
[0128] 作為Μ的金屬，可列舉堿金屬、堿±金屬、Mg、化、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、 Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Sn、Pb、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi，優(yōu)選為堿金屬。Μ的金屬可W是一種，也可W是兩種W上。
[0129] 優(yōu)選Μ為堿金屬，優(yōu)選為肺或Cs，更優(yōu)選為Cs。
[0130] 通過使X/V為0.001W上，可充分遮蔽紅外線，通過使其為1.1W下，可更確實地避免在鶴化合物中生成雜質相的現(xiàn)象。
[0131] 通過使Z/V為2.2W上，可進一步使作為材料的化學穩(wěn)定性提高，通過使其為3.0W 下，可充分遮蔽紅外線。
[01創(chuàng)作為所述通式（I)所表示的氧化鶴系化合物的具體例，可列舉Cs0.33W03、Rb0.33W03、 Κο. 33WO3、化0. 33WO3 等，優(yōu)選為 Cso. 33WO3 或肺 0.33WO3，更優(yōu)選為 Cso. 33WO3。
[0133] 鶴化合物優(yōu)選為微粒子。鶴微粒子的平均粒徑優(yōu)選為SOOnmW下，更優(yōu)選為400nm W下，進一步更優(yōu)選為2(K)nmW下。通過使平均粒徑為此種范圍，鶴微粒子由于光散射而變得難W遮斷可見光，因此可使可見光區(qū)域的透光性更可靠。自避免光散射的觀點考慮，平均粒徑越小越優(yōu)選，但自制造時的操作容易性等理由考慮，鶴微粒子的平均粒徑通常為InmW 上。
[0134] 鶴化合物可作為市售品而獲得，但在鶴化合物為例如氧化鶴系化合物的情況下，氧化鶴系化合物可通過如下方法而獲得:在惰性氣體環(huán)境或還原性氣體環(huán)境中對鶴化合物進行熱處理的方法(參照日本專利4096205號）。
[0135] 而且，氧化鶴系化合物例如還可W作為住友金屬礦山股份有限公司制造的YMF-02 等鶴微粒子的分散物而獲得。
[0136] 與鶴化合物同樣，金屬棚化物也對紅外線(波長約800nm~1200nm的光）的吸收高，對可見光的吸收低，對在圖像形成中所使用的高壓水銀燈、KrF、ArF等的曝光中所使用的波長比可見區(qū)域更短的光的吸收也小。因此，本發(fā)明的固體攝像元件用硬化性組合物如果含有金屬棚化物，則與含有鶴化合物的情況同樣地可獲得紅外區(qū)域的遮蔽性高、可見光區(qū)域的透光性高、解析性及靈敏度優(yōu)異的圖案。
[0137] 作為金屬棚化物，可列舉棚化銅化aBs)、棚化錯（PrBs)、棚化欽（MBs)、棚化姉 (CeBs)、棚化錠(YB6)、棚化鐵（TiB2)、棚化錯（ZrB2)、棚化給化f B2)、棚化饑(VB2)、棚化粗 (化82)、棚化銘（吐8、吐82)、棚化鋼(1〇82、1〇285、1〇6)、棚化鶴(胖285)等的一種或兩種^上，更優(yōu)選為棚化銅(LaBs)。
[0138] 金屬棚化物優(yōu)選為微粒子。金屬棚化物微粒子的平均粒徑優(yōu)選為SOOnmW下，更優(yōu) 選為300nmW下，進一步更優(yōu)選為lOOnmW下。通過使平均粒徑為此種范圍，金屬棚化物微粒子由于光散射而變得難W遮斷可見光，因此可使可見光區(qū)域的透光性更可靠。自避免光散射的觀點考慮，平均粒徑越小越優(yōu)選，但自制造時的操作容易性等理由考慮，金屬棚化物微粒子的平均粒徑通常為InmW上。
[0139] 金屬棚化物可作為市售品而獲得，且例如還可W作為住友金屬礦山股份有限公司制造的KHF-7等金屬棚化物微粒子的分散物而獲得。
[0140] 本發(fā)明中所使用的銅化合物如果是在波長為700nm~1200nm的范圍內（近紅外線區(qū)域)具有最大吸收波長的銅化合物，則并無特別限制。
[0141] 本發(fā)明中所使用的銅化合物可W是銅絡合物也可W不是銅絡合物，優(yōu)選為銅絡合物。
[0142] 在本發(fā)明中所使用的銅化合物為銅絡合物的情況下，作為配位于銅上的配體L，如果可與銅離子形成配位鍵則并無特別限定，可列舉具有橫酸、憐酸、憐酸醋、麟酸、麟酸脂、次麟酸、次麟酸醋、簇酸、幾基(醋、酬）、胺、酷胺、橫酷胺、氨基甲酸醋、脈、醇、硫醇等的化合物。運些化合物中優(yōu)選橫酸、憐酸、憐酸醋、麟酸、麟酸醋、次麟酸、次麟酸脂，更優(yōu)選橫酸、憐酸醋、麟酸醋、次麟酸醋。
[0143] 作為本發(fā)明中所使用的銅化合物的具體例，更優(yōu)選含有憐的銅化合物、橫酸銅化合物、簇酸銅化合物或下述通式(A)所表示的銅化合物。作為含憐化合物，具體而言可參照 W02005/030898號公報中所記載的化合物，運些內容并入至本說明書中。
[0144] W下，關于本發(fā)明中所使用的憐酸醋銅化合物而加 W詳細說明。
[0145] 本發(fā)明的組合物優(yōu)選含有憐酸醋銅化合物及抗氧化劑。本發(fā)明的組合物含有憐酸醋銅化合物，優(yōu)選相對于組合物的固體成分而含有20質量％~95質量％，更優(yōu)選含有30質量％~80質量％。憐酸醋銅化合物可W是一種也可W是兩種W上，在兩種W上的情況下，合計量成為所述范圍。
[0146] 本發(fā)明中所使用的憐酸醋銅化合物優(yōu)選使用憐酸醋化合物而形成，更優(yōu)選使用下述式（1)所表示的化合物而形成。
[0147] 式(1)
[014 引（冊）n-P(=0)-(0Ra2)3-n
[0149] (式中，Ra2表示碳數1~18的烷基、碳數6~18的芳基、碳數1~18的芳烷基、或碳數 1~18的締基，-ORa2表示碳數4~100的聚氧基烷基、碳數4~100的（甲基)丙締酷基氧基燒基、或碳數4~100的（甲基）丙締酷基聚氧基烷基，η表示1或2。在η為1時，Ra2可分別相同也可W不同）
[0150] 在所述式中，優(yōu)選-ORa2的至少一個表示碳數4~100的（甲基)丙締酷基氧基烷基、或碳數4~100的（甲基)丙締酷基聚氧基烷基，更優(yōu)選表示碳數4~100的（甲基)丙締酷基氧基烷基。
[0151] 碳數4~100的聚氧基烷基、碳數4~100的（甲基）丙締酷基氧基烷基、或碳數4~ 100的（甲基)丙締酷基聚氧基烷基的碳數分別優(yōu)選為4~20,更優(yōu)選為4~10。
[0152] 在式（1)中，Ra2優(yōu)選為碳數1~18的烷基、碳數6~18的芳基，更優(yōu)選為碳數1~10 的烷基、碳數6~10的芳基，進一步更優(yōu)選為碳數6~10的芳基，特別優(yōu)選為苯基。
[0153] 在本發(fā)明中，在η為1時，Ra2的其中一個是-ORa2，優(yōu)選表示碳數4~100的（甲基）丙締酷基氧基烷基、或碳數4~100的（甲基)丙締酷基聚氧基烷基，Ra2的另一個為所述-ORa2、或優(yōu)選為烷基。
[0154] 而且，作為本發(fā)明的憐酸醋化合物，可列舉憐酸單醋(所述式（1)中的n = 2)、憐酸二醋(所述式(1)中的n = l)，但自近紅外線遮蔽性與溶解性的觀點考慮，優(yōu)選為憐酸二醋。
[0155] 憐酸醋銅絡合物成為在作為中屯、金屬的銅上配位有憐酸醋的銅絡合物（銅化合物）的形態(tài)。憐酸醋銅絡合物中的銅是2價銅，例如可使銅鹽與憐酸醋反應而生成。因此，如果是含有銅與憐酸醋化合物的近紅外線吸收組合物，則可預知在組合物中形成憐酸醋銅絡合物。
[0156] 本發(fā)明中所使用的憐酸醋銅化合物的分子量優(yōu)選為300~1500,更優(yōu)選為320~ 900。
[0157] 作為憐酸醋化合物的具體例，可參考日本專利特開2001-354945公報的記載，運些內容并入至本說明書中。而且，關于本發(fā)明中所使用的憐酸醋銅化合物的合成方法、優(yōu)選例等，可參考國際公開W099/26952號說明書的記載，該說明書的內容并入至本說明書中。
[0158] 而且，在憐酸醋銅化合物的合成中，市售品例如還可W使用佛思瑪(Phosmer)M、佛思瑪（Pho smer) PE、佛思瑪（Pho smer) PP (聯(lián)合化學（Un i -Qiemi ca 1)股份有限公司制造）等麟酸。
[0159] 可在本發(fā)明中作為紅外線遮蔽材而使用的紅外線吸收染料是選自由花青色素、獻菁色素、糞獻菁色素、亞錠色素、錠色素、哇嘟鐵色素、化喃鐵色素、Ni絡合物色素、化咯并化咯色素、銅絡合物、四糞嵌Ξ苯系色素、偶氮系色素、蔥釀系色素、二亞錠系色素、方酸菁系色素及化嘟系色素所構成的群組的至少一種。
[0160] 可在本發(fā)明中作為紅外線遮蔽材而使用的色素也可W作為市售品而獲得，例如可適宜列舉W下的市售色素。
[0161 ] FEW化學（FEW 化emicals)公司制造的S0：M5、S0389、S0450、S0253、S0322、S0585、 S0402、S0337、S0391、S0094、S0325、S0260、S0229、S0447、S0378、S0306、S0484
[0162] 美國染料源有限公司（American Dye Source,Inc.)制造的ADS795WS、ADS80抓S、 ADS819WS、ADS820WS、ADS823WS、ADS830WS、ADS850WS、ADS845MC、ADS870MC、ADS880MC、 ADS890MC、ADS920MC、ADS990MC、ADS805PI、ADSW805PP、ADS810C0、ADS813MT、ADS815EI、 ADS81犯I、ADS818HT、ADS819MT、ADS819MT、ADS821NH、ADS822MT、ADS838MT、ADS840MT、 ADS905AM、ADS956BP、ADS1040P、ADS1040T、ADS1045P、ADS1040P、ADS1050P、ADS1065A、 ADS1065P、ADS1100T、ADS1120F
[0163] 山本化成股份有限公司制造的 YKR-4010、YKR-3030、YKR-3070、MIR-327、MIR-371、 SIR-159、PA-1005、MIR-369、MIR-379、SIR-128、PA-1006、YKR-2080、MIR-370、YKR-3040、 YKR-3081、SIR-130、MIR-362、YKR-3080、SIR-132、PA-1001
[0164] 林原生物化學研究所制造的麗-123、瓶-124、麗-1144、麗-2204、麗-2268、麗- 3027、NKX-113、NKX-1199、NK-2674、NK-3508、NKX-114、NK-2545、NK-3555、NK-3509、NK-3519
[0165] 作為花青系染料、四糞嵌Ξ苯系色素的具體例，可列舉日本專利特開2012-215806 號公報、日本專利特開2008-009206號公報等中所記載的化合物。
[0166] 作為獻菁化合物的具體例，可列舉日本專利特開昭60-224589號公報、日本專利特表2005-537319號公報、日本專利特開平4-23868號公報、日本專利特開平4-39361號公報、日本專利特開平5-78364號公報、日本專利特開平5-222047號公報、日本專利特開平5- 222301號公報、日本專利特開平5-222302號公報、日本專利特開平5-345861號公報、日本專利特開平6-25548號公報、日本專利特開平6-107663號公報、日本專利特開平6-192584號公報、日本專利特開平6-228533號公報、日本專利特開平7-118551號公報、日本專利特開平Τ? ι 18552 號公報、日本專利特開平 8-120186 號公報、日本專利特開平 8-225751 號公報、日本專利特開平9-202860號公報、日本專利特開平10-120927號公報、日本專利特開平10-182995 號公報、日本專利特開平11-35838號公報、日本專利特開2000-26748號公報、日本專利特開 2000-63691號公報、日本專利特開2001-106689號公報、日本專利特開2004-18561號公報、日本專利特開2005-220060號公報、日本專利特開2007-169343號公報中所記載的化合物。
[0167] W下，作為偶氮色素、蔥釀色素(蔥釀化合物）、方酸菁系色素(方酸菁化合物)的具體例，可列舉日本專利特開2012-215806號公報等中所記載的化合物。
[0168] 所述色素也可W作為市售品而獲得，例如可列舉路摩根化umogen)IR765、路摩根化 umogen)IR788(己斯夫（BASF)公司制造）；ABS643、ABS654、ABS667、ABS670T、IRA693N、 IRA735(激子化xciton)公司制造）；SDA3598、SDA6075、SDA8030、SDA8303、SDA8470、 SDA3039、SDA3040、SDA3922、SDA7257 化W.金沙化.W. SANDS)公司制造）；TAP-15、IR-706 (山田化學工業(yè)公司制造)等，特別是花青色素可列舉大東化學(Daito chmix)1371F(大東化學 (Daito化emix)公司制造），獻菁色素可列舉極致化xcolor)系列、極致化xcolo;r)TX-EX 720、極致化xcolor)708K(日本觸媒公司制造)等，但并不限定于此。
[0169] 運些色素可W單獨使用，也可W為了表現(xiàn)出良好的遮蔽性，將運些色素中的與目的對應的兩種W上混合使用。
[0170] 作為可在本發(fā)明中作為紅外線遮蔽材而使用的紅外線吸收顏料，例如可列舉鋒白、鉛白、鋒領白、氧化鐵、氧化銘、氧化鐵、沉降性硫酸領及重晶石粉、鉛丹、氧化鐵紅、銘黃、鋒黃(銘酸鋒鐘、四氧銘酸鋒）、群青藍、普魯±藍(亞鐵氯化鐵）、錯灰(zircon gray)、錯黃、銘鐵黃、銘綠、孔雀藍、維多利亞綠、鐵藍（與普魯±藍無關）、饑錯藍、銘錫紅、儘紅、澄紅、鐵黑、鶴化合物、金屬棚化物等，另外，黑色顏料可使用含有選自由Co、吐、化、Mn、Ru、Fe、 Ni、Sn、Ti及Ag所構成的群組的一種或兩種W上金屬元素的金屬氧化物、金屬氮化物或運些的混合物等。
[0171] 相對于本發(fā)明的固體攝像元件用硬化性組合物的所有固體成分質量而言，紅外線遮蔽材的含量優(yōu)選為0.1質量％ W上、50質量％ ^下，更優(yōu)選為1質量％ W上、45質量％ W 下，進一步更優(yōu)選為5質量％ W上、40質量％ ^下，最優(yōu)選為5質量％ W上、20質量％ ^下。而且，紅外線遮蔽材可W使用兩種W上。
[0172] <其他任意成分〉
[0173] 該感放射線性樹脂組合物還可W在不損及本發(fā)明的效果的范圍內視需要含有抗氧化劑、多官能丙締酸醋、表面活性劑、密接助劑、無機氧化物粒子、具有環(huán)狀酸基的化合物、酸擴散控制劑、溶媒等其他任意成分。其他任意成分可分別單獨使用也可W并用兩種W 上。
[0174] 抗氧化劑可列舉酪系抗氧化劑、硫系抗氧化劑、胺系抗氧化劑等，特別優(yōu)選酪系抗氧化劑。抗氧化劑可W單獨使用或者將兩種W上組合使用。作為抗氧化劑的含量，相對于本實施方式的感放射線性樹脂組合物中所含有的[A]聚合物成分的合計100質量份而言，優(yōu)選為0.1質量份~10質量份，特別優(yōu)選為0.2質量份~5質量份。通過在該范圍內使用，可進一步提高由該感放射線性樹脂組合物而形成的層間絕緣膜的耐熱性。
[0175] 作為抗氧化劑，可使用日本專利特開2011-227106號公報等中所記載的抗氧化劑。
[0176] 相對于100質量份[A]聚合物成分而言，多官能丙締酸醋為100質量份W下，優(yōu)選為 0.1質量份W上、80質量份W下，更優(yōu)選為0.5質量份W上、50質量份W下，進一步更優(yōu)選為1 質量份W上、25質量份W下。通過在該范圍內使用，可進一步提高由該感放射線性樹脂組合物所形成的層間絕緣膜的耐熱性、耐溶劑性。
[0177] 作為多官能丙締酸醋，可使用日本專利特開2005-227525號公報等中所記載的多官能丙締酸醋。
[0178] 表面活性劑是提高該感放射線性樹脂組合物的涂膜形成性的成分。該感放射線性樹脂組合物由于含有表面活性劑，可提高涂膜的表面平滑性，其結果可進一步提高由該感放射線性樹脂組合物所形成的紅外線遮蔽膜的膜厚均一性。
[0179] 密接助劑是使基板等膜形成對象物與紅外線遮蔽膜的粘著性提高的成分。密接助劑特別是用于使無機物基板與紅外線遮蔽膜的粘著性提高。
[0180] 密接助劑優(yōu)選官能性硅烷偶聯(lián)劑。
[0181] 無機氧化物粒子可使用如下的無機氧化物粒子，該無機氧化物粒子是含有選自由娃、侶、錯、鐵、鋒、銅、錫、錬、鎖、領、姉及給所構成的群組的至少一種元素的氧化物。可使用日本專利特開2011-128385公報中所記載的無機氧化物粒子。
[0182] 具有環(huán)狀酸基的化合物是具有環(huán)狀酸基、且與[A]聚合物成分所具有的聚合物不同的化合物。該感放射線性樹脂組合物由于含有具有環(huán)狀酸基的化合物，可利用具有環(huán)狀酸基的化合物的熱反應性而促進[A]聚合物成分等的交聯(lián)，進一步提高由該感放射線性樹脂組合物所形成的紅外線遮蔽膜的硬度，且可提高該感放射線性樹脂組合物的放射線靈敏度。
[0183] 作為具有環(huán)狀酸基的化合物，優(yōu)選在分子內具有兩個W上環(huán)氧基(氧雜環(huán)丙基、氧雜環(huán)下基）的化合物。作為具有環(huán)狀酸基的化合物的具有環(huán)氧基的化合物可使用日本專利特開2011-257537號公報中所記載的化合物。
[0184] 運些化合物中，具有環(huán)狀酸基的化合物優(yōu)選為在分子內具有兩個W上氧雜環(huán)下燒基的化合物，更優(yōu)選為間苯二甲酸雙[(3-乙基氧雜環(huán)下燒-3-基）甲基]醋、1,4-雙[(3-乙基氧雜環(huán)下燒-3-基）甲氧基甲基]苯、2,2-雙巧圣基甲基)-1-下醇的1,2-環(huán)氧-4-(2-氧雜環(huán)丙基)環(huán)己燒加成物化HPE3150(大賽踰(Daicel)化學股份有限公司制造））。
[0185] 作為具有環(huán)狀酸基的化合物的含量，相對于100質量份[A]聚合物成分而言通常為 150質量份W下，優(yōu)選為0.5質量份W上、100質量份W下，更優(yōu)選為1質量份W上、50質量份 W下，進一步更優(yōu)選為10質量份W上25質量份W下。通過使具有環(huán)狀酸基的化合物的含量為所述范圍，可進一步提高由該感放射線性樹脂組合物所形成的紅外線遮蔽膜的硬度。
[0186] 作為酸擴散控制劑，可自在化學增幅抗蝕劑中所使用者中任意選擇而使用。該感放射線性樹脂組合物由于含有酸擴散控制劑，可適度地控制由于曝光而自感放射線性產酸體中產生的酸的擴散長度，可使圖案顯影性良好。酸擴散控制劑可使用日本專利特開2011- 232632號公報中所記載的酸擴散控制劑。
[0187] 作為酸擴散控制劑的含量，相對于100質量份[A]聚合物成分而言通常為2質量份 W下，優(yōu)選為0.001質量份W上、1質量份W下，更優(yōu)選為0.005質量份W上、0.2質量份W下。通過使酸擴散控制劑的含量為所述范圍，可使圖案顯影性進一步提高。
[0188] <感放射線性樹脂組合物的制備方法〉
[0189] 該感放射線性樹脂組合物可通過在溶媒中將[A]聚合物成分、[B]感放射線性產酸體及[C]紅外線遮蔽材與視需要的適宜成分、其他任意成分加 W混合而制備為溶解或分散的狀態(tài)。例如，通過在溶媒中w規(guī)定比例混合各成分，可制備該感放射線性樹脂組合物。
[0190] < 溶媒〉
[0191] 溶媒可適宜使用使該感放射線性樹脂組合物中的其他成分均一地溶解或分散，且不與所述其他成分反應的溶媒。此種溶媒例如可列舉醇類、酸類、二醇酸、乙二醇烷基酸乙酸醋、二乙二醇烷基酸、丙二醇單烷基酸、丙二醇單烷基酸乙酸醋、丙二醇單烷基酸丙酸脂、芳香族控類、酬類、其他醋類等。溶媒可使用日本專利特開2011-232632號公報中所記載的溶媒。
[0192] <聚合物組合物〉
[0193] 本發(fā)明的聚合物組合物含有如下聚合物成分，所述聚合物成分具有含有酸解離性基的第1結構單元、含有交聯(lián)性基的第2結構單元與選自由其他結構單元所構成的群組的至少一種。該聚合物成分與該感放射線性樹脂組合物的[A]聚合物成分相同。
[0194] 所述聚合物成分可W是在同一聚合物中含有第1結構單元、第2結構單元和/或其他結構單元的成分，也可W是在不同聚合物中含有第1結構單元、第2結構單元、W及其他結構單元的成分。該聚合物組合物含有與[A]聚合物成分同樣的聚合物成分，因此可在該感放射線性樹脂組合物的制備中適宜地使用。
[01巧] <紅外線遮蔽膜〉
[0196] 本發(fā)明的紅外線遮蔽膜由該感放射線性樹脂組合物而形成。該紅外線遮蔽膜由該感放射線性樹脂組合物而形成，因此具有優(yōu)異的拒水性、涂膜的外觀特性及膜厚的均一性。具有此種特性的該紅外線遮蔽膜可作為固體攝像元件、照度傳感器、接近傳感器 (proximity sensor)等的紅外線遮蔽膜而適宜地使用。另外，該紅外線遮蔽膜的形成方法并無特別限定，優(yōu)選應用如下所說明的紅外線遮蔽膜的形成方法。
[0197] <紅外線遮蔽膜的形成方法〉
[0198] 該感放射線性樹脂組合物可在紅外線遮蔽膜的形成中適宜地使用。
[0199] 本發(fā)明的紅外線遮蔽膜的形成方法包含如下步驟:使用該感放射線性樹脂組合物而在基板上形成涂膜的步驟（W下也稱為"步驟（1 η、對所述涂膜的至少一部分照射放射線的步驟下也稱為"步驟(2)")、對照射了放射線的涂膜進行顯影的步驟下也稱為 "步驟(3Γ )、及對進行了顯影的涂膜進行加熱的步驟（W下也稱為"步驟(4Γ )。
[0200] 利用該紅外線遮蔽膜的形成方法可形成圖案形狀的穩(wěn)定性高的紅外線遮蔽膜。而且，可抑制未曝光部的膜厚變化量，因此其結果可提高生產工序裕量(process margin)，可達成產率的提高。另外，通過利用感光性的曝光、顯影、加熱而形成圖案，由此可容易地形成具有微細且精巧的圖案的紅外線遮蔽膜。
[0201] [步驟(1)]
[0202] 在本步驟中，使用該感放射線性樹脂組合物，涂布于基板上而形成涂膜。在該感放射線性樹脂組合物含有溶媒的情況下，優(yōu)選通過對涂布面進行預烘烤(prebake)而將溶媒除去。
[0203] 所述基板例如可列舉玻璃、石英、娃酬、樹脂等。所述樹脂例如可列舉聚對苯二甲酸乙二醋、聚對苯二甲酸下二醋、聚酸諷、聚碳酸醋、聚酷亞胺、環(huán)狀締控的開環(huán)聚合物及其氨化物等。預烘烤的條件因各成分的種類、調配比例等而異，通常為70°C~120°C、1分鐘~ 10分鐘左右。
[0204] [步驟（2)]
[0205] 在本步驟中，對涂膜的至少一部分照射放射線而進行曝光。在曝光時，通常經由具有規(guī)定圖案的光掩模而進行曝光。作為曝光所使用的放射線，優(yōu)選波長處于190nm~450nm 的范圍的放射線，更優(yōu)選包含365nm的紫外線的放射線。曝光量優(yōu)選為500J/m2~6，OOOJ/m2，更優(yōu)選為l，500J/m2~l，800J/m2。該曝光量是利用照度計（光學同仁公司（Optical Associates Inc.，0AI)的"0AI型號(model)35護）測定放射線的波長365nm的強度的值。
[0206] [步驟（3)]
[0207] 在本步驟中，對照射了放射線的涂膜進行顯影。通過對曝光后的涂膜進行顯影，可將不需要的部分(放射線的照射部分)除去而形成規(guī)定的圖案。
[0208] 作為在該步驟中所使用的顯影液，優(yōu)選堿性水溶液。堿例如可列舉氨氧化鋼、氨氧化鐘、碳酸鋼、娃酸鋼、偏娃酸鋼、氨等無機堿；四甲基氨氧化錠、四乙基氨氧化錠等季錠鹽等。
[0209] 而且，作為含有有機溶劑的顯影液，還可W使用酬系有機溶媒、醇系有機溶媒等有機溶媒。通過使用此種含有有機溶劑的顯影液，可形成負、正反轉的圖案(例如參照日本專利特開2014-199272號公報）。
[0210] 還可W在堿性水溶液中添加適當量的甲醇、乙醇等水溶性有機溶媒或表面活性劑而使用。作為堿性水溶液中的堿的濃度，自獲得適宜的顯影性的觀點考慮，優(yōu)選為0.1質量％ W上、5質量％ W下。
[0211] 顯影方法例如可列舉覆液法、浸潰法、振蕩浸潰法、噴淋法等。顯影時因該感放射線性樹脂組合物的組成而異，通常為10秒~180秒左右。
[0212] 繼此種顯影處理之后，例如進行30秒~90秒的流水清洗，然后用例如壓縮空氣或壓縮氮氣使其風干，由此可形成所期望的圖案。
[0213] 顯影后的膜厚相對于顯影前的涂膜的膜厚的膜厚變化率優(yōu)選為90% W上。如果如上所述地利用使用該感放射線性樹脂組合物的該形成方法，則可抑制相對于顯影時間而言的未曝光部的膜厚變化量，可將顯影后的膜厚維持為顯影前的膜厚的90% W上。
[0214] [步驟(4)]
[0215] 在本步驟中，對進行了顯影的涂膜進行加熱。在加熱中使用加熱板、烘箱等加熱裝置，通過對圖案化的薄膜進行加熱，可促進[A]聚合物成分的硬化反應，形成紅外線遮蔽膜。加熱溫度例如為120°C~250°C左右。加熱時間因加熱機器的種類而異，例如如果是加熱板則為5分鐘~30分鐘左右，如果是烘箱則為30分鐘~90分鐘左右。而且，還可W使用進行2次 W上加熱步驟的分步烘烤法等。如上所述地進行，可在基板的表面上形成與目標紅外線遮蔽膜對應的圖案狀薄膜。該紅外線遮蔽膜的膜厚優(yōu)選為0.1WI1~祉m，更優(yōu)選為0.1M1~6WI1。
[0216] 姻體攝像元件〉
[0217] 圖1是表示包含固體攝像元件的相機模塊的構成的概略剖面圖。
[0218] 圖1所示的相機模塊200經由作為連接構件的焊球60而連接于作為封裝基板的電路基板70上。
[0219] 詳細而言，相機模塊200包含如下構件而構成:在娃基板的第1主表面具有攝像元件部的固體攝像元件基板100、設于固體攝像元件基板100的第1主表面?zhèn)?受光側）的平坦化層(在圖1中未圖示、42之下所具有的膜）、配置于設于平坦化層上的紅外線遮蔽膜的上方的玻璃基板30(透光性基板）、在配置于玻璃基板30上方的內部空間具有攝像透鏡40的透鏡支架50、W包圍固體攝像元件基板100及玻璃基板30的周圍的方式配置的遮光兼電磁屏蔽材44。各構件利用粘著劑(在圖1中并未圖示)而粘著。
[0220] 本發(fā)明是一種包含固體攝像元件基板、配置于所述固體攝像元件基板的受光側的紅外線遮蔽膜的相機模塊的制造方法，通過在固體攝像元件基板的受光側，應用所述本發(fā) 明的感放射線性樹脂組合物而形成紅外線遮蔽膜。
[0221] 因此，在本實施方式的相機模塊中，例如通過在平坦化層上應用本發(fā)明的感放射線性樹脂組合物而形成紅外線遮蔽膜。紅外線遮蔽膜的形成方法如上所述。
[0222] 在相機模塊200中，來自外部的入射光hv依序透過攝像透鏡40、玻璃基板30、近紅外線截止濾光片42、平坦化層后，到達固體攝像元件基板100的攝像元件部。
[0223] 而且，相機模塊200在固體攝像元件基板100的第2主表面?zhèn)龋浻珊盖?0(連接材料)而與電路基板70連接。
[0224] <照度傳感器〉
[0225] 關于本實施方式的照度傳感器的構成，參照圖2而加 W說明。圖2是表示照度傳感器的構成的剖面圖。如該圖所示，照度傳感器包含玻璃環(huán)氧樹脂基板4、照度傳感器受光元件6、距離檢測用受光元件8、紅外線發(fā)光元件10、金線12、樹脂16、及紅外線遮蔽膜18。在照度傳感器1中，通過將自紅外線發(fā)光元件10射出、反射至對象物的紅外線射入至距離檢測用受光元件8中而檢測距離。另外，照度傳感器部2包含玻璃環(huán)氧樹脂基板4、照度傳感器受光元件6、金線12、樹脂16、及紅外線遮蔽膜18。
[0226] [實施例]
[0227] W下，基于實施例對本發(fā)明加 W具體的說明，但本發(fā)明并不限定于運些實施例。另外，[A]聚合物成分的重量平均分子量(Mw)可利用W下方法而測定。
[022引[重量平均分子量(Mw)]
[02巧]在下述條件下，利用凝膠滲透色譜法（Gel Permeation化romatogra地y，GPC)而測定。
[0230] 裝置:昭和電工公司的"GPC-lOr
[0231 ]管柱：組合有 GPC-KF-801、GPC-KF-802、GPC-KF-803及 GPC-KF-804
[0232] 流動相：四氨巧喃
[0233] 管柱溫度:40°C
[0234] 流速：1.0mL/min
[0235] 試樣濃度:1.0質量％
[0236] 試樣注入量:100μΙ
[0237] 檢測器:示差折射儀
[0238] 標準物質:單分散聚苯乙締
[0239] <[Α]聚合物成分的合成〉
[0240] [合成例1](聚合物(Α-1)的合成）
[0241] 在具有冷凝管及攬拌機的燒瓶中裝入5質量份2,2/-偶氮雙（2,4-二甲基戊臘）、 200質量份3-甲氧基丙酸甲醋。接著裝入10質量份作為提供結構單元(I)的單體的甲基丙締酸、20質量份作為提高結構單元（II)的單體的甲基丙締酸縮水甘油醋、50質量份作為提供結構單元（III)的單體的甲基丙締酸-四氨-2H-化喃-2-基醋、及20質量份作為提供其他結構單元的單體的甲基丙締酸節(jié)醋而進行氮氣置換后，開始緩緩地攬拌。使溶液的溫度上升至70°C，將該溫度保持5小時而獲得含有聚合物(A-1)的聚合物溶液。聚合物(A-1)的聚苯乙締換算重量平均分子量(Mw)為10,000。此處所得的聚合物溶液的固體成分濃度為31.4質量％。
[0242] [合成例2](聚合物(A-2)的合成）
[0243] 在具有冷凝管及攬拌機的燒瓶中裝入5質量份2,2/-偶氮雙（2,4-二甲基戊臘）、 200質量份3-甲氧基丙酸甲醋。接著裝入20質量份作為提供結構單元（II)的單體的甲基丙締酸-3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲醋、55質量份作為提供結構單元（III)的單體的甲基丙締酸四氨- 2H-化喃-2-基醋、及25質量份作為提供其他結構單元的單體的甲基丙締酸乙醋而進行氮氣置換后，開始緩緩地攬拌。使溶液的溫度上升至70°C，將該溫度保持5小時而獲得含有聚合物(A-2)的聚合物溶液。聚合物(A-2)的聚苯乙締換算重量平均分子量(Mw)為12,000。此處所得的聚合物溶液的固體成分濃度為32.8質量％。
[0244] [合成例3](聚合物(A-3)的合成）
[0245] 在具有冷凝管及攬拌機的燒瓶中裝入5質量份2,2/-偶氮雙（2,4-二甲基戊臘）、 200質量份3-甲氧基丙酸甲醋。接著裝入30質量份作為提供結構單元(I)的單體的甲基丙締酸、及70質量份作為提供其他結構單元的單體的甲基丙締酸節(jié)醋而進行氮氣置換后，開始緩緩地攬拌。使溶液的溫度上升至70°C，將該溫度保持5小時而獲得含有聚合物(A-3)的聚合物溶液。聚合物(A-3)的聚苯乙締換算重量平均分子量(Mw)為13,000。此處所得的聚合物溶液的固體成分濃度為33.1質量％。
[0246] [合成例4](聚合物(A-4)的合成）
[0247] 在帶有攬拌機的容器內裝入20質量份丙二醇單甲酸。接著裝入50質量份甲基Ξ甲氧基硅烷、30質量份苯基二甲氧基硅烷、及20質量份丫-縮水甘油氧基丙基二甲氧基硅烷，進行加熱直至溶液溫度成為60°C。在溶液溫度到達60°C后，裝入0.15質量份憐酸、19質量份離子交換水，進行加熱直至成為75°C，保持4小時。進一步使溶液溫度成為40°C，一面保持該溫度一面進行蒸發(fā)，由此將離子交換水及由于水解縮合而產生的甲醇除去。通過W上操作而獲得作為水解縮合物的聚硅氧烷來作為聚合物(A-4)。作為聚硅氧烷的聚合物(A-4)的Mw 為5,000。
[0248] <憐酸醋銅絡合物的合成例〉
[0249] 在50g(0.38mol)甲基丙締酸-2-徑基乙醋（和光純藥股份有限公司制造）、73.6g (0.42mol)憐酸苯醋（東京化成工業(yè)股份有限公司制造)的化晚溶液（180mL和光純藥股份有限公司制造）中，在5°CW下加入116g(0.38mol)l，3,5-S異丙基橫酷氯(東京化成工業(yè)股份有限公司制造)的化晚溶液(400mL)。添加后，在室溫下進行6小時攬拌，由此使反應結束。W 溫度并不上升至30°CW上的方式添加2.化的10%碳酸氨鋼水溶液后，進行利用乙酸乙醋的清洗。通過在水層中加入濃鹽酸使pH成為1，用乙酸乙醋進行目標物的萃取。將溶劑蒸饋除去后，為了將反應中所副產的1，3,5-Ξ異丙基橫酸除去而進行氯仿/水分液。最后添加 lOmg 對甲氧基苯酪(和光純藥股份有限公司制造），將有機層的溶劑蒸饋除去，由此獲得憐酸醋化合物(22g、產率為20%)。
[0250] 將所述憐酸醋(3.15g、11.0mmol)與甲醇（16.6g)加 W混合而制備憐酸醋的甲醇溶液。在該憐酸醋的甲醇溶液中加入乙酸銅（lg、5.5mmol，和光純藥股份有限公司制造），升溫至50°C而進行2小時的反應。在反應結束后，利用蒸發(fā)器將所產生的乙酸及溶劑蒸饋除去，由此獲得憐酸醋銅絡合物1 (3.5g)。
[0251] [感放射線性樹脂組合物的制備]
[0252] W下表示感放射線性樹脂組合物的制備中所使用的[B]感放射線性產酸體、[C]紅外線遮蔽材、其他任意化合物。
[0253] ([B]感放射線性產酸體）
[0254] B-l:5-丙基橫酷基氧基亞氨基-5H-嚷吩-2-亞基）-(2-甲基苯基）乙臘（己斯夫 (BAS巧公司的"艷佳固（IRGACURE)PAG 103")
[0255] B-2: N-(;氣甲基橫酷氧基)糞二甲酯亞胺
[0256] ([口紅外線遮蔽材）
[0257] C-1: YMF-02 (住友金屬礦山股份有限公司制造的飽鶴氧化物(Cso. 33W03 (平均分散粒徑為800nm W下））的18.5質量％分散液）
[0巧引 C-2:花青系色素（大東化學（Daito Chemix)公司制造的大東化學（Daito chmix) 1371F、最大吸收波長amax = 805nm))
[0259] C-3:所述憐酸醋銅絡合物的合成中所得的憐酸醋銅絡合物1
[0260] ([D]具有環(huán)狀酸基的化合物）
[0261] D-1:下述式(D-1)所表示的間苯二甲酸雙[(3-乙基氧雜環(huán)下燒-3-基）甲基]醋
[0262] D-2:下述式(D-2)所表示的1，4-雙[(3-乙基氧雜環(huán)下燒-3-基）甲氧基甲基]苯 [0%3][化6]
[0264]
[0265] ([E]酸擴散控制劑）
[0%6] E-l:4-二甲基氨基化晚 [0267] ([F]抗氧化劑）
[0%引 F-1:季戊四醇四[3-(3,5-二-叔下基-4-徑基苯基）丙酸醋](艾迪科(Adeka)公司的"艾迪科斯塔波(Adekastab)A0-60")
[0269] [感放射線性樹脂組合物1的制備]
[0270] 在含有作為[A]聚合物成分的(A-1)的聚合物溶液(相當于100質量份（固體成分）聚合物(A-1)的量）中，混合3質量份作為[B]感放射線性產酸體的(B-l)、18質量份作為[C] 紅外線遮蔽材的(C-l)、5質量份作為[D]具有環(huán)狀酸基的化合物的(D-1)、及0.1質量份作為 [E]酸擴散控制劑的化-1)，制備感放射線性樹脂組合物1 (W下也稱為"組合物Γ )。
[0271] [感放射線性樹脂組合物2的制備]
[0272] 在含有作為[A]聚合物成分的聚合物(A-2)及聚合物(A-3)的聚合物溶液(相當于 80質量份聚合物(A-2)及20質量份聚合物(A-3K分別為固體成分)的量）中，混合3質量份作為[B]感放射線性產酸體的（B-2)、30質量份作為[C]紅外線遮蔽材的（C-2)、5質量份作為 [D]具有環(huán)狀酸基的化合物的(D-2)、及0.1質量份作為[E]酸擴散控制劑的化-1)，制備感放射線性樹脂組合物2(W下也稱為"組合物2")。
[0273] [感放射線性樹脂組合物3的制備]
[0274] 在含有作為[A]聚合物成分的聚合物(A-4)的聚合物溶液(相當于100質量份(固體成分)聚合物(A-4)的量）中，混合3質量份作為[B]感放射線性產酸體的(B-1K20質量份作為[C]紅外線遮蔽材的(C-3)、1質量份作為抗氧化劑的(F-1)，制備感放射線性樹脂組合物3 (W下也稱為"組合物3")。
[0275] [感放射線性樹脂組合物4的制備]
[0276] 在含有作為[A]聚合物成分的(A-1)的聚合物溶液(相當于100質量份（固體成分）聚合物(A-1)的量）中，混合3質量份作為[B]感放射線性產酸體的(B-1)、作為[C]紅外線遮蔽材的10質量份(C-l)、15質量份(C-2)、5質量份作為[D]具有環(huán)狀酸基的化合物的(D-1)、及0.1質量份作為[E]酸擴散控制劑的化-1 )，制備感放射線性樹脂組合物4( W下也稱為"組合物4")。
[0277] 在比較例中，在感放射線性樹脂組合物1的制備中不含(C-1)化合物，除此W外同樣地進行制備（W下也稱為"比較組合物Γ )。
[027引 < 評價〉
[0279] 使用感放射線性樹脂組合物1~感放射線性樹脂組合物4、比較例的感放射線性樹脂組合物，實施放射線靈敏度、紅外線遮蔽性、紅外線遮蔽膜的耐化學品性的評價。
[0280] 實施例5除了使用感放射線性樹脂組合物1，在顯影液中使用乙酸下醋W外，同樣地進行評價。在實施例5的情況下，用乙酸下醋對未曝光部進行顯影，在曝光部獲得圖案。將評價結果表示于表1中。
[0281] [放射線靈敏度的評價]
[0282] 使用旋轉器將感放射線性樹脂組合物涂布于娃基板上，然后在9(TC下、加熱板上進行2分鐘的預烘烤而形成膜厚25.0皿的涂膜。接著使用曝光機(佳能(化non)公司的"MPA- 600FA" (ghi射線混合）），經由具有200WI1的正方形島狀圖案的光掩模進行曝光，將曝光量設為變量而對涂膜照射放射線。其后，在2.38質量％的四甲基氨氧化錠水溶液中、23°C下，用覆液法進行80秒的顯影。其次，用超純水進行1分鐘的流水清洗，其后進行干燥，由此形成圖案。此時，調查200皿的正方形島狀圖案完全溶解所需的曝光量。在該曝光量的值為200mJ/ cm2W下的情況下，可判斷放射線靈敏度良好。
[0283] W下表示評價基準。
[0284] A:不足 200mJ/cm2
[02 化]B:200mJ/cm2W 上、不足300mJ/cm2
[0286] [紅外線遮蔽性的評價]
[0287] 在所述條件下使用旋轉器將感放射線性樹脂組合物涂布于玻璃基板上后，形成膜厚為25WI1的感光層(硬化性組合物層)涂膜，使用分光光度計（日立制作所公司制造的"150- 20型雙光束"），測定涂膜的波長1200nm下的透過率。數值越低評價為紅外線遮蔽性越優(yōu)異。如果透過性為2% W下，則可W說顯示在實用上良好的紅外線遮蔽性。
[0288] [紅外線遮蔽膜的耐化學品性的評價]
[0289] 紅外線遮蔽膜的耐化學品性評價為剝離液所致的膨潤。使用旋轉器將感放射線性樹脂組合物涂布在娃基板上，然后在9(TC下、加熱板上進行2分鐘的預烘烤而形成膜厚為 25.Own的涂膜。接著使用加溫至230°C的烘箱而進行30分鐘般燒，形成紅外線遮蔽膜。將該膜在加溫為40°C的N-甲基化咯燒酬溶劑中浸潰3分鐘，求出浸潰前后的膜厚變化率（％)作為耐化學品性的指標。將膜厚變化率設為A:膜厚變化率不足5%、B:膜厚變化率為5% W上、不足10%、C:膜厚變化率為10% W上、不足15%，在A或B的情況下，將耐化學品性評價為良好。使用光干設式膜厚測定裝置(蘭布達艾斯(Lambda ACE)VM-1010)而在25°C下測定膜厚。
[0290] [折射率(光折射性)的評價]
[0291] 關于具有在耐化學品性的評價中所形成的紅外線遮蔽膜的基板，利用美特康 (Metricon)公司的"棱鏡禪合器型號2010"測定折射率。W408皿、633皿、828皿運3個波長測定折射率。關于折射率，將63化m下的測定值為1.60W上的情況評價為"A"，將不足1.600的情況評價為"B"。在折射率高的情況下，自光學特性的觀點考慮，可W說良好。
[0 巧 2][表 1]
[0293]
[0294] 根據表1的結果可知：實施例1~實施例4的感放射線性樹脂組合物的放射線靈敏度優(yōu)異，且紅外線遮蔽性、耐化學品性、折射率優(yōu)異。
[02%]相對于此，可知比較例的感放射線性樹脂組合物雖然放射線靈敏度、耐化學品性優(yōu)異，但紅外線遮蔽性、折射率差。
【主權項】
1. 一種感放射線性樹脂組合物，其特征在于，含有： [A] 在同一或不同聚合物分子中具有含有酸解離性基的結構單元與含有交聯(lián)性基的結構單元的聚合物、 [B] 感放射線性產酸體、以及 [C] 紅外線遮蔽材。2. 根據權利要求1所述的感放射線性樹脂組合物，其特征在于，所述酸解離性基是下述式(1)所表示的基及下述式(2)所表示的基中的至少一個；式（1)中，R1及R2分別獨立為氫原子、碳數1~30的烴基、或碳數1~30的烴基所具有的氫原子的一部分被羥基、鹵素原子或氰基取代的基;其中，并無R1及R2均為氫原子的情況;R 3是碳數1~30的氧基烴基、碳數1~30的烴基、或碳數1~30的烴基所具有的氫原子的一部分被羥基、鹵素原子或氰基取代的基;式(2)中，R 4~R1()分別獨立為氫原子或碳數1~12的烴基;η 是1或2;*表示鍵結位。3. 根據權利要求1或2所述的感放射線性樹脂組合物，其特征在于，所述交聯(lián)性基是選自由環(huán)氧基、脂環(huán)環(huán)氧基、（甲基)丙烯?；耙蚁┗鶚嫵傻娜航M的至少一種。4. 根據權利要求1或2所述的感放射線性樹脂組合物，其特征在于，[Β]感放射線性產酸體包含下述式(3)所表示的肟磺酸鹽基；式(3)中，RB1是烷基、環(huán)烷基或芳基，這些基的氫原子的一部分或全部也可以被取代基所取代;*表示鍵結位。5. 根據權利要求1或2所述的感放射線性樹脂組合物，其特征在于，所述[C]紅外線遮蔽材是選自金屬氧化物、銅化合物及色素的至少一種。6. 根據權利要求5所述的感放射線性樹脂組合物，其特征在于，所述金屬氧化物是氧化鎢銫。7. 根據權利要求5所述的感放射線性樹脂組合物，其特征在于，所述銅化合物是含磷化合物。8. 根據權利要求5所述的感放射線性樹脂組合物，其特征在于，所述色素是花青色素、酞菁色素、四萘嵌三苯色素、銨色素、亞銨色素、偶氮色素、蒽醌色素、二亞銨色素、方酸菁色素、或卟啉色素。9. 根據權利要求5所述的感放射線性樹脂組合物，其特征在于，所述金屬氧化物或銅化合物的至少一個的含量是相對于所述感放射線性樹脂組合物的所有固體成分質量而言為5 質量％以上、70質量％以下。10. 根據權利要求5所述的感放射線性樹脂組合物，其特征在于，所述色素的含量是相對于所述感放射線性樹脂組合物的所有固體成分質量而言為1質量％以上、30質量％以下。11. 一種紅外線遮蔽膜，其特征在于，使用根據權利要求1至10中任一項所述的感放射線性樹脂組合物而形成。12. -種固體攝像元件，其特征在于，包含根據權利要求11所述的紅外線遮蔽膜。13. -種照度傳感器，其特征在于，包含根據權利要求11所述的紅外線遮蔽膜。14. 一種紅外線遮蔽膜的形成方法，其特征在于，包含： (1) 在基板上形成根據權利要求1至10中任一項所述的感放射線性樹脂組合物的涂膜的步驟、 (2) 對步驟(1)中所形成的涂膜的至少一部分照射放射線的步驟、 (3) 對在步驟(2)中照射了放射線的涂膜進行顯影的步驟、及 (4) 對在步驟(3)中進行了顯影的涂膜進行加熱的步驟。15. 根據權利要求14所述的紅外線遮蔽膜的形成方法，其特征在于，在所述步驟(2)中，使用含有有機溶劑的顯影液。
【文檔編號】G03F7/004GK106066579SQ201610247635
【公開日】2016年11月2日
【申請日】2016年4月20日公開號201610247635.0, CN 106066579 A, CN 106066579A, CN 201610247635, CN-A-106066579, CN106066579 A, CN106066579A, CN201610247635, CN201610247635.0
【發(fā)明人】一戸大吾, 河合孝広
【申請人】Jsr株式會社

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