具有曝光、檢測、清洗和干燥功能的一體機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種具有曝光、檢測、清洗和干燥功能的一體機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體元件或太陽能元件的制程中，需多次使用光刻技術(shù)將光罩板上的圖案轉(zhuǎn)移到加工元件上。目前，在LED芯片曝光中，光罩板在使用過程中，容易受到各種污染離子對(duì)其的污染，尤其是接觸式曝光機(jī)，由于曝光時(shí)光罩板和涂覆有光刻膠的晶片之間的間距較小，導(dǎo)致光罩板與光刻膠接觸而被污染。
[0003]而曝光后，通常采用手動(dòng)更換光罩板，操作人員從曝光機(jī)的光罩載臺(tái)上手動(dòng)取下光罩板并轉(zhuǎn)移到清洗裝置和干燥裝置內(nèi)進(jìn)行清洗、干燥。操作人員手動(dòng)取放和轉(zhuǎn)移光罩板，容易對(duì)其造成污染和刮傷。并且，手動(dòng)操作，浪費(fèi)人力，生產(chǎn)效率低，不能實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化。
[0004]另外，為了降低光罩板的使用成本，通常反復(fù)使用。當(dāng)光罩板下一次使用時(shí)，為了保證光刻圖案的準(zhǔn)確性，通常需采用自動(dòng)光學(xué)檢測裝置(英文為Automatic OpticInspect1n，簡稱AOI)對(duì)其外觀進(jìn)行檢測。光罩板包括進(jìn)行曝光的中心區(qū)域和非曝光的邊緣區(qū)域。通常AOI檢測整個(gè)光罩板的外觀，當(dāng)檢測到光罩板的邊緣區(qū)域具有缺陷時(shí)，即報(bào)廢該光罩板，但是光罩板邊緣區(qū)域的缺陷并不影響光刻圖案的準(zhǔn)確性，如此導(dǎo)致了部分光罩板的浪費(fèi)。
[0005]針對(duì)上述現(xiàn)有曝光過程中，光罩板人工轉(zhuǎn)運(yùn)和AOI檢測過程的不足，有必要提出一種自動(dòng)轉(zhuǎn)運(yùn)光罩板并對(duì)光罩板曝光中心區(qū)域針對(duì)性檢測，并且具有清洗和干燥光罩板功能的一體機(jī)，提高生產(chǎn)作業(yè)效率，降低人力成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本實(shí)用新型為解決上述不足，提供的技術(shù)方案如下:
[0007]具有曝光、檢測、清洗和干燥功能的一體機(jī)，包括光罩存儲(chǔ)區(qū)、曝光-檢測單元、光罩暫存區(qū)、清洗-干燥單元，其特征在于:所述曝光-檢測單元包括曝光機(jī)和檢測光罩板外觀的檢測裝置，所述檢測裝置位于曝光機(jī)的承載所述光罩板的光罩載臺(tái)側(cè)邊；所述光罩存儲(chǔ)區(qū)、曝光機(jī)、光罩暫存區(qū)、清洗-干燥單元依次通過傳輸件連接，實(shí)現(xiàn)光罩板的自動(dòng)循環(huán)使用。
[0008]進(jìn)一步地，所述光罩存儲(chǔ)區(qū)和光罩暫存區(qū)包括多個(gè)存放光罩板的存放格，并且所述光罩儲(chǔ)存區(qū)和光罩暫存區(qū)的存放格至少一側(cè)面開口相對(duì)。
[0009]進(jìn)一步地，所述檢測裝置為自動(dòng)光學(xué)檢測裝置，所述自動(dòng)光學(xué)檢測裝置包括可移動(dòng)的電荷親合元件(英文為Charge Coupled Device，簡稱CCD)及與所述電荷親合元件連接的控制系統(tǒng)。
[0010]進(jìn)一步地，所述曝光機(jī)的承載晶片用的晶片載臺(tái)為升降式晶片載臺(tái)。
[0011]進(jìn)一步地，所述一體機(jī)還包括用于記錄光罩板位置信息的掃碼機(jī)。
[0012]進(jìn)一步地，所述光罩暫存區(qū)包括存放待清洗光罩板的第一光罩暫存區(qū)。
[0013]進(jìn)一步地，所述光罩暫存區(qū)包括存放待清洗光罩板的第一光罩暫存區(qū)及存放干燥后光罩板的第二光罩暫存區(qū)。
[0014]進(jìn)一步地，所述清洗-干燥單元包括清洗裝置和干燥裝置。
[0015]進(jìn)一步地，所述傳輸件為機(jī)械手。
[0016]本實(shí)用新型至少具有以下有益效果:
[0017](I)將曝光機(jī)、AO1、清洗裝置和干燥裝置組合形成一體機(jī)，減少了機(jī)臺(tái)的占地面積；
[0018](2)使用傳輸件在曝光機(jī)、AO1、清洗裝置和干燥裝置中間轉(zhuǎn)運(yùn)光罩板，降低了人力消耗，實(shí)現(xiàn)了一體機(jī)的自動(dòng)化；
[0019](3)AOI僅對(duì)光罩板曝光的中心區(qū)域進(jìn)行檢測，降低了僅在外緣區(qū)域具有缺陷的光罩板的報(bào)廢率；
[0020](4)使用掃碼機(jī)記錄光罩存儲(chǔ)區(qū)中光罩板的位置，提高了一體機(jī)的自動(dòng)化程度。
【附圖說明】
[0021]附圖用來提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與本實(shí)用新型的實(shí)施例一起用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。此外，附圖數(shù)據(jù)是描述概要，不是按比例繪制。
[0022]圖1為本實(shí)用新型之實(shí)施例1之側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖2為本實(shí)用新型之實(shí)施例1之俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]圖3為本實(shí)用新型之實(shí)施例1中曝光-檢測單元部分結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。
[0025]圖4為本實(shí)用新型之實(shí)施例2之俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖5為本實(shí)用新型之實(shí)施例3之俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]附圖標(biāo)注:1:光罩存儲(chǔ)區(qū)；11:存放格；12:光罩板；2:曝光-檢測單兀；21:光罩載臺(tái)；22:晶片；23:晶片載臺(tái)；24:AOI檢測裝置；241:CCD ；242:控制系統(tǒng)；3:光罩暫存區(qū)；31:第一光罩暫存區(qū)；32:第二光罩暫存區(qū)；4:清洗-干燥單元；41:清洗裝置；42:干燥裝置；5 (51、52、53、54):傳輸件/機(jī)械手；6:掃碼機(jī)。
【具體實(shí)施方式】
[0028]實(shí)施例1
[0029]參看附圖1，本實(shí)用新型將曝光機(jī)、AO1、清洗裝置和干燥裝置組合形成一體機(jī)，實(shí)現(xiàn)光罩板的使用、檢測、清洗和干燥的自動(dòng)化。該一體機(jī)包括光罩存儲(chǔ)區(qū)1、曝光-檢測單元
2、光罩暫存區(qū)3以及清洗-干燥單元4，并且光罩存儲(chǔ)區(qū)1，曝光-檢測單元2、光罩暫存區(qū)
3、清洗-干燥單元4依次通過傳輸件5連接，以實(shí)現(xiàn)光罩板12的自動(dòng)循環(huán)使用，其中傳輸件5包括傳輸件51、52、53，分別位于光罩存儲(chǔ)區(qū)I和曝光-檢測單元2之間、曝光-檢測單元2和光罩暫存區(qū)3之間、以及光罩暫存區(qū)3和清洗-干燥單元4之間，本實(shí)施例優(yōu)選傳輸件5為機(jī)械手。
[0030]繼續(xù)參看附圖1，光罩存儲(chǔ)區(qū)I和光罩暫存區(qū)3均由多個(gè)放置光罩板12的存放格11組成，并且光罩存儲(chǔ)區(qū)I和光罩暫存區(qū)3的存放格11的至少一側(cè)面開口相對(duì)，即均朝向曝光-檢測單元2的方向，便于傳輸件51從光罩存儲(chǔ)區(qū)I取出光罩板12并轉(zhuǎn)移至曝光-檢測單元2，以及便于傳輸件53將光罩板12從曝光-檢測單元2取出并轉(zhuǎn)移至光罩暫存區(qū)
3。光罩暫存區(qū)3包括存放待清洗光罩板12的第一光罩暫存區(qū)31和存放清洗干燥后光罩板12的第二光罩暫存區(qū)32，并且為了便于實(shí)際生產(chǎn)過程中的使用以及減小機(jī)臺(tái)的占地面積，以及避免待清洗臟污光罩板對(duì)清洗干燥后的潔凈光罩板的污染，將第二光罩暫存區(qū)32設(shè)置在第一光罩暫存區(qū)31的上方。清洗-干燥單元4包括清洗裝置41和干燥裝置42，并且清洗裝置41、干燥裝置42分別與第一光罩暫存區(qū)31、第二光罩暫存區(qū)32對(duì)應(yīng)設(shè)置，即將干燥裝置42設(shè)置在清洗裝置41的上方，但其放置位置并不局限于此。干燥裝置42通過烘干的方式干燥光罩板12，但其干燥方式并不限于烘干，其他任何可干燥光罩板12的方式均包含在內(nèi)。
[0031]請參看附圖2，本實(shí)施例中，光罩存儲(chǔ)區(qū)1，曝光-檢測單元2、光罩暫存區(qū)3、清洗-干燥單