曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型是涉及一種曝光機(jī),尤其涉及一種曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]曝光機(jī)在半導(dǎo)體的生產(chǎn)制程中應(yīng)用領(lǐng)域相當(dāng)廣泛,例如:平面顯示器、內(nèi)存或芯片等,皆需利用曝光的方式將光罩上的布線轉(zhuǎn)錄至基材上,且近年來由于電子產(chǎn)品朝向輕薄化以及多功能化發(fā)展,產(chǎn)品內(nèi)部的組件密集度大幅增加,因此各內(nèi)部組件必須更進(jìn)一步微型化,以符合產(chǎn)品的需求,而隨著組件的微型化,曝光制程的質(zhì)量更成為影響產(chǎn)品良率的關(guān)鍵因素之一。
[0003]一般進(jìn)行曝光制程時,先在被加工物表面上涂上一層光阻,再借由光源的照射將原稿上的電路布線圖案映像至被加工物表面的光阻層上,使其產(chǎn)生變化后從表面移除,以形成對應(yīng)于原稿的線路布局,而一般此制程乃使待加工物停滯在曝光室內(nèi),且光源組必須具有大量燈泡,以形成足夠的光源強(qiáng)度。
[0004]有時為了增加制程上的速度,需提高曝光機(jī)的光源強(qiáng)度,這樣連帶的也需提高功率裝置的最大輸出功率。然而,曝光機(jī)的功率裝置的最大輸出功率于出場時往往已被設(shè)定為一定值,使用者無法借由設(shè)定的方式加以改變。為了獲取更大的輸出功率,使用者只能購買新的曝光機(jī),這無疑增加了使用者的成本。
[0005]因此,如何以較低成本的方式增加曝光機(jī)的最大輸出功率,從而提高曝光機(jī)的光源強(qiáng)度,是值得本領(lǐng)域的技術(shù)人員去詳加思量。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006]為了解決上述的問題,本實(shí)用新型其中一目的在于提供一種曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)。
[0007]基于上述目的與其他目的,本實(shí)用新型提供一種曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu),其包括一控制主機(jī)、一微處理器、一演算裝置、一功率裝置、與一光源裝置。其中,微處理器是與控制主機(jī)電性連接,而演算裝置則是與控制主機(jī)及微處理器電性連接。另外,功率裝置包括一第一功率裝置與一第二功率裝置,第一功率裝置是直接電性連接到控制主機(jī),而第二功率裝置是電性連接到演算裝置。光源裝置是電性連接到第一功率裝置與第二功率裝置,該第一功率裝置與該第二功率裝置輸出電源給光源裝置。其中,控制主機(jī)會將一與光源裝置輸出功率訊息相關(guān)的信號輸出到第一功率裝置與演算裝置,借由演算裝置能使第二功率裝置的輸出功率與第一功率裝置的輸出功率相連動。
[0008]在上述的曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)中,第二功率裝置的輸出功率與第一功率裝置的輸出功率是成一比例關(guān)系。此外,該比例關(guān)系例如為1: 9。
[0009]在上述的曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)中,更包括一輸入設(shè)備,該輸入設(shè)備電性連接于控制主機(jī)與演算裝置間,該輸入設(shè)備是用于轉(zhuǎn)換電壓。此外,曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)中更包括一啟動裝置,該啟動裝置電性連接于輸入設(shè)備與微處理器間,當(dāng)啟動裝置接收輸入設(shè)備的一輸出信號時啟動該微處理器。
[0010]在上述的曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)中,更包括一輸出裝置,該輸出裝置電性連接于演算裝置及功率裝置間,該輸出裝置是用于放大信號。
[0011]在上述的曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)中,更包括一感測裝置,該感測裝置電性連接于第二功率裝置與微處理器間,該感測裝置感測到第二功率裝置故障時,微處理器發(fā)出一第一信號至演算裝置以停止該演算裝置的運(yùn)作,同時微處理器還會發(fā)出一第二信號至控制主機(jī)以停止該控制主機(jī)的運(yùn)作。
[0012]在上述的曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)中,更包括一信號放大裝置,其中信號放大裝置電性連接于控制主機(jī)與微處理器間,該信號放大裝置是用于放大第二信號。
[0013]在上述的曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)中,控制主機(jī)更包括一控制界面,該控制界面是供設(shè)定光源裝置的功率。
[0014]在本實(shí)用新型的曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)中,縱使第一功率裝置的最大輸出功率被曝光機(jī)原制造廠所限制,借由第二功率裝置與演算裝置,也能使光源裝置的光照強(qiáng)度(亦即:輸出功率)變大,從而增加半導(dǎo)體制程上的制造速度。
[0015]為讓本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)更能明顯易懂,下文將以實(shí)施例并配合所附圖式,作詳細(xì)說明如下。需注意的是,所附圖式中的各組件僅是示意,并未按照各組件的實(shí)際比例進(jìn)行繪示。
【附圖說明】
[0016]圖1所繪示為本實(shí)用新型的曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)的方塊圖。
[0017]圖2所繪示為本實(shí)用新型的曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)的運(yùn)作流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]請參照圖1,圖1所繪示為本實(shí)用新型的曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)的方塊圖。在本實(shí)施例中,曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)100包括一控制主機(jī)110、一微處理器120、一演算裝置130、一功率裝置140、與一光源裝置150。其中,控制主機(jī)110是電性連接到微處理器120,而演算裝置130則是與微處理器120及控制主機(jī)110電性連接。在本實(shí)施例中,控制主機(jī)110更包括一控制界面(未繪示),該控制界面例如是觸控面板或者是屏幕與鍵盤的組合,該控制界面是供操作者設(shè)定光源裝置150的功率。
[0019]于演算裝置130與控制主機(jī)110間,還設(shè)置有一輸入設(shè)備160,此輸入設(shè)備160是用于轉(zhuǎn)換電壓,主要是將從控制主機(jī)110所輸入的較高壓的信號轉(zhuǎn)變?yōu)檩^低壓的信號,以供演算裝置130所用,輸入到演算裝置130的信號是與光源裝置輸出功率訊息相關(guān)的信號。另外,在本實(shí)施例中,曝光機(jī)改良結(jié)構(gòu)100還包括一啟動裝置170,此啟動裝置170電性連接于輸入設(shè)備160與微處理器120間,當(dāng)啟動裝置170接收到輸入設(shè)備160之一輸出信號時啟動微處理器120,接著微處理器120再傳遞一信號至演算裝置130,使演算裝置130啟動。演算裝置130主要是由多個邏輯IC所組成,接受從輸入設(shè)備160所輸出的信號后,演算裝置130會進(jìn)行演算并輸出一演算后信號至一輸出裝置180。在本實(shí)施例中,輸出裝置180是將演算裝置130所輸出的演算后信號放大后輸出至功率裝置140。
[0020]在本實(shí)施例中,功率裝置140包括一第一功率裝置142與第二功率裝置144,其中第一功率裝置142是直接電性連接到控制主機(jī)110,此控制主機(jī)110會將一與光源裝置輸出功率訊息相關(guān)的信號輸出到第一功率裝置142,而使第一功率裝置142啟動并輸出功率至光源裝置150。另外,第二功率裝置144是借由輸出裝置180電性連接到演算裝置130,第二功率裝置144再接收到演算裝置1