專利名稱：具有改進(jìn)的陰罩的彩色顯示管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種彩色顯示管，它包括一個電子槍、具有屏幕的一個顯示窗及具有陰罩的一個色彩選擇電極，陰罩布置在電子槍和屏幕之間，具有一個電子槍側(cè)和一個屏幕側(cè)的陰罩上布置有由孔構(gòu)成的圖案，至少處于電子槍側(cè)的孔具有象熔穴一樣的形狀，在陰罩的電子槍側(cè)具有一個反向散射系數(shù)較高的覆層，而在陰罩的屏幕側(cè)具有一個反向散射系數(shù)較低的覆層。
本發(fā)明還涉及一種陰罩和在這種彩色顯示管中應(yīng)用的一個色彩選擇電極。
本發(fā)明還涉及一種在所述彩色顯示管的色彩選擇電極中應(yīng)用的一種陰罩的制造方法。
在日本專利申請JP62-123635所披露內(nèi)容的開始段中描述了一種彩色顯示管。根據(jù)該申請的彩色顯示管具有一個陰罩，該陰罩包括在其電子槍側(cè)由重金屬或重金屬氧化物構(gòu)成的一個覆層及在其屏幕側(cè)由無機(jī)材料制作的一個覆層。該陰罩的制造方法即為如下所述將包含有水玻璃和精制Bi2O3粉末的液態(tài)溶液的混合液體噴射到陰罩的電子槍側(cè)，水玻璃是一種無機(jī)材料，而Bi2O3是一種重金屬氧化物。該混合液體的表面張力使Bi2O3保持在其噴射的側(cè)面上，而毛細(xì)作用則可保證水玻璃流到陰罩的屏幕側(cè)。
但是，根據(jù)JP62-123635的陰罩具有下述的缺點(diǎn)即所述孔的壁上也覆蓋了包含重金屬的覆層。射擊到孔壁上的電子產(chǎn)生散射，而這些電子中的一部分將到達(dá)屏幕。它們沖擊的熒光物質(zhì)發(fā)出偏離光線，這樣就消弱了對比性能而破壞了整個畫面的質(zhì)量。
本發(fā)明的一個目的是提供一種具有改進(jìn)的陰罩的彩色顯示管，所述陰罩可克服上述的缺陷而使彩色顯示管具有改進(jìn)的畫面質(zhì)量。
根據(jù)本發(fā)明，該目的是通過這樣一個彩色顯示管來實(shí)現(xiàn)的，該彩色顯示管的特征在于在陰罩電子槍側(cè)上的具有高電子反向散射系數(shù)的覆層不覆蓋孔的熔穴。
本發(fā)明是基于這樣的認(rèn)識，即當(dāng)陰罩的電子槍側(cè)上的覆層只在表面上存在而不在熔穴形孔的壁上存在時，電子就可在該表面上而不是在熔穴形孔的壁上進(jìn)行高度散射。通常情況下，陰罩中的孔是通過光化學(xué)蝕刻處理得到的，該處理過程對于熔穴形孔來說是常用的。
在該內(nèi)容中，高電子反向散射系數(shù)最小為0.35，這就意味著所產(chǎn)生的電子的35％被反射。較低的電子反向散射系數(shù)小于0.20。復(fù)合的反向散射系數(shù)是通過將各個元素的散射系數(shù)加權(quán)其在復(fù)合物中的質(zhì)量百分比進(jìn)行平均計算而得到的。參見H.Niedrig，“薄膜中的電子反向散射”(應(yīng)用物理期刊53(4)，1982年4月)。一方面，當(dāng)將孔中的電子散射保持在較低水平時可改進(jìn)畫面質(zhì)量、更具體地說是對比性能。在熔穴形孔的壁上散射的至少一部分電子將到達(dá)屏幕上的熒光元素而在所述孔的附近區(qū)域中產(chǎn)生偏離光線，所述電子是從所述孔處進(jìn)行定向的。另一方面，為阻止由于受到電子沖擊而使陰罩變熱，使陰罩電子槍側(cè)具有整體較高的反向散射系數(shù)是很重要的。陰罩溫度的升高會使它產(chǎn)生變形而導(dǎo)致電子束位置不正，出現(xiàn)了通常稱為隆起的現(xiàn)象。因此，由于畫面的色彩不純而使畫面質(zhì)量降低。通過利用具有高反向散射系數(shù)的材料只覆蓋電子槍側(cè)的陰罩表面且不覆蓋熔穴形孔的壁就可得到很好的畫面質(zhì)量即在隆起和對比性能之間的一種折衷情況。
在一個優(yōu)選實(shí)施例中，電子槍側(cè)的覆層包含重金屬或重金屬氧化物，該重金屬的原子量Z最少為70。
陰罩電子槍側(cè)上的重金屬或重金屬氧化物的覆層可滿足在隆起和對比性能之間進(jìn)行良好折衷的需要，這是因?yàn)橛捎谥亟饘倬哂休^高的原子量而使其具有較高的反向散射系數(shù)。
在另一優(yōu)選實(shí)施例中，屏幕側(cè)的覆層包括一種輕金屬或輕金屬的氧化物，輕金屬的原子量Z不超過20。通過在陰罩的屏幕側(cè)上施加包含輕金屬或輕金屬氧化物的覆層還可進(jìn)一步提高對比性能。這種覆層具有較強(qiáng)的電子吸收性能，因此，這樣就可明顯減少由屏幕反射的電子附近區(qū)域中的偏離線。
在另一個實(shí)施例中，電子槍側(cè)的高散射覆層包括由Bi2O3、WO3、WC組形成的材料。
在實(shí)際應(yīng)用中，已發(fā)現(xiàn)這些材料產(chǎn)生了良好的效果，并且優(yōu)選使用Bi2O3。
在另一個實(shí)施例中，在屏幕側(cè)進(jìn)行稍微反向散射的覆層包括由Al2O3、SiO2、BN組形成的材料。在實(shí)際應(yīng)用中，已發(fā)現(xiàn)這些材料可產(chǎn)生良好的效果；優(yōu)選使用Al2O3。
在另一個實(shí)施例中，在陰罩電子槍側(cè)的孔的熔穴覆蓋有布置在陰罩屏幕側(cè)上的覆層。當(dāng)陰罩電子槍側(cè)的熔穴壁也噴覆與陰罩屏幕側(cè)相同的材料時，就減少了由這些壁所散射的電子的數(shù)目，由于來自孔壁的電子很少能到達(dá)屏幕上的熒光物質(zhì)，這樣就減少了偏離光線的數(shù)量，從而提高了對比性能。
此外，本發(fā)明涉及在這種彩色顯示管中應(yīng)用的一種陰罩。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種在這種彩色顯示管中應(yīng)用的陰罩的制造方法。由金屬片形成的陰罩的制造方法的特征在于所述方法包括如下步驟即利用重金屬層覆蓋金屬片，然后，將孔的圖案施加到所述金屬片上。在已覆蓋用于制造陰罩的材料情況下—即在制作孔的圖案之前利用重金屬覆層至少覆蓋將成為電子槍側(cè)的一側(cè)，此時可清楚地認(rèn)識到該覆層不施加到孔的熔穴上。在這種方式中可得到只在陰罩的電子槍側(cè)的表面上具有高電子反向散射系數(shù)的一個陰罩以改進(jìn)隆起，而熔穴形孔的壁上不噴覆這種覆層對對比度性能有益。
在一個優(yōu)選實(shí)施例中，這種方法的特征在于重金屬層是通過蒸發(fā)、噴濺或電化學(xué)鍍覆的方式施加的。在施加重金屬層的多種可能的方式中選擇蒸發(fā)、噴濺或電化學(xué)鍍覆，這是因?yàn)樗鼈兛墒顾玫降母矊拥暮穸染鶆?。這一點(diǎn)是很重要的，因?yàn)楫?dāng)利用標(biāo)準(zhǔn)的處理工藝形成孔的圖案時，在其他的特征中，重金屬層的厚度決定著孔尺寸的均勻度。
在另一個實(shí)施例中，孔的圖案是通過電化學(xué)蝕刻工藝來實(shí)現(xiàn)的。對于在陰罩上形成孔的圖案來說，電化學(xué)蝕刻工藝是一種良好的標(biāo)準(zhǔn)處理工藝。
在另一個實(shí)施例中，所述方法的特征在于重金屬層中包含鎢(W)。
利用鎢(W)的優(yōu)勢在于它具有較高的熔點(diǎn)。在進(jìn)行施加孔的圖案的處理之后，通常情況下，在約700℃的溫度下對陰罩進(jìn)行退火，為了使陰罩形成為所需要的彎曲形狀，因此，該溫度是必須的。這就要求重金屬覆層的熔點(diǎn)高于退火溫度。
在另一個實(shí)施例中，所述方法的特征在于所述層包含厚度約為0.5μm的鎢。
從H.Nirdrig的“薄膜中的電子反向散射”(應(yīng)用物理期刊53(4)，1982年4月)中可得到當(dāng)重金屬層的厚度大于0.5μm時，其反向散射系數(shù)不再增大。
在該方法的另一個實(shí)施例中，陰罩的屏幕側(cè)覆蓋有一個具有較低反向散射系數(shù)的層，該層最好是從由Al2O3、SiO2、BN形成的材料中選取的。為了減少可到達(dá)屏幕且能產(chǎn)生不想要的偏離光線的反射電子的數(shù)目，通過在陰罩的屏幕側(cè)施加具有較低電子反射系數(shù)的覆層來改進(jìn)對比性能，特別是彩色顯示管的短距離對比度。
參考將在下文中描述的實(shí)施例可明確本發(fā)明的這些和其他方面的特征。
在附圖中

圖1所示為根據(jù)本發(fā)明的一個彩色顯示管的剖視圖；圖2所示為陰罩的一小部分的剖視圖；圖3所示為指示三個不同電子偏離路徑的彩色顯示管的剖視圖；圖4A-4D所示為制造根據(jù)本發(fā)明的陰罩的不同階段的例子。
圖1中所示的彩色顯示管1包括一個真空的玻璃罩2，玻璃罩2具有顯示窗3、漏斗形部分4和頸部5。在顯示窗3的內(nèi)部可布置一個屏幕6，屏幕6具有由可發(fā)出不同顏色(例如，紅色和藍(lán)色)的熒光物質(zhì)組成的如線性或點(diǎn)式圖案。熒光物質(zhì)的圖案由電子槍10產(chǎn)生的三個電子束7、8和9來激發(fā)。在它們射往屏幕的路途上，電子束7、8和9在偏轉(zhuǎn)單元11的作用下產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)以保證電子束7、8和9對稱性的掃描屏幕6。在電子射到屏幕6之前，它們穿過一個色彩選擇電極12。色彩選擇電極12包括一個陰罩13，陰罩13是真正的色彩選擇部分，它攔截電子束，這樣，電子就只射到適當(dāng)色彩的熒光物質(zhì)上。陰罩13可以是一個具有圓形或較長孔的罩子或是一個線罩。此外，色彩選擇電極12包括用于支撐陰罩的支架14。色彩選擇電極12相對于顯示窗3的懸吊方式與本發(fā)明的內(nèi)容無關(guān)。作為一個例子，圖1所示的支撐系統(tǒng)稱為拐角支撐。支架14布置有拐角部分16及與拐角部分相連的隔膜件15。通過與拐角部分16相配合的支撐元件19就可利用支撐元件17將色彩選擇部分12懸吊在顯示窗3上，支撐元件17固定在顯示窗3的拐角區(qū)域18的直角邊緣上。
圖2顯示了陰罩13的一小部分的剖視圖。該圖顯示了陰罩13的中心處的詳細(xì)情況且足以說明本發(fā)明的內(nèi)容。在圖2中，陰罩13具有一個電子槍側(cè)20和一個屏幕側(cè)21，所述孔由參考符號22指示而陰罩材料由參考符號23指示。在陰罩的生產(chǎn)過程的一種技術(shù)狀態(tài)中，孔的圖案是通過在經(jīng)照相處理之后再經(jīng)蝕刻處理而形成的。通常情況下，蝕刻處理決定了熔穴形的孔。由于在陰罩13的兩側(cè)上施加了感光層，且是從兩側(cè)對陰罩13進(jìn)行蝕刻的，這樣通過壁24、25就得到了特殊的雙熔穴形狀的孔。電子槍側(cè)20和屏幕側(cè)21的蝕刻區(qū)的交點(diǎn)27決定了陰罩13對電子束28的傳輸情況?？?2的形狀與具有屏幕6的彩色顯示管的形狀基本相同，屏幕6具有點(diǎn)式結(jié)構(gòu)或條帶式結(jié)構(gòu)。彩色顯示管1雖然具有孔型陰罩13，但孔22的垂直尺寸明顯大于其水平尺寸。在孔徑柵型陰罩13中，只有孔的水平截面重要。應(yīng)注意到水平和垂直通常分別是指線的方向和支架的方向。
圖3顯示了三個不同的電子反射路徑。由電子槍10產(chǎn)生的電子束7、8和9部分受到陰罩13的攔截。沖擊陰罩13的金屬的電子的一部分被反射入錐形空間40中。在經(jīng)多次反射之后，來自內(nèi)磁屏蔽39的電子可到達(dá)屏幕6而在一定的路徑中形成偏離光線，所述偏離光線在整個屏幕6上基本均勻分布。在圖3中該路徑由A來代表。
由B所代表的第二個過程是由穿過陰罩13且由屏幕6反射的電子引起的。在陰罩13和屏幕6之間進(jìn)行一次或多次反射后，這些電子就可到達(dá)屏幕6而由熒光物質(zhì)吸收，然后也形成偏離光線。過程C描述了由陰罩13的孔22的壁反射的電子，這些電子也將到達(dá)屏幕上不同位置中的熒光物質(zhì)而產(chǎn)生偏離光線。這些過程之間的基本差別是偏離光線形成的距離不同。過程A使偏離光線經(jīng)過整個屏幕6，而過程B和C使偏離光線處于主電子束位置附近區(qū)域中，主電子束為由未受到任何反射而到達(dá)屏幕且沖擊屏幕6的電子形成的電子束。這三種過程將偏離光線大致等分入熒光物質(zhì)的三種顏色中而使偏離光線帶有白色。這種偏離光線對彩色顯示管1的畫面質(zhì)量是有害的，因?yàn)樗趿藢Ρ刃阅堋Ρ榷仁怯闪涟讌^(qū)域上的彩色顯示管1產(chǎn)生的光線的量與來自黑色無電流區(qū)域的光線的量的比率決定的。偏離光線除了影響對比度之外，它還對彩色重現(xiàn)有害，因?yàn)閷⒘涟咨饩€添加到主色彩上就減小了彩色色域。
由于由過程A產(chǎn)生的偏離光線分配的整個屏幕上，它也影響整個屏幕的對比度，為此原因，就將其作為長距離對比度。過程B和C只影響沖擊屏幕的主電子所處位置的附近區(qū)域，因此，這些過程就影響短距離對比度。
可認(rèn)識到可通過考慮由陰罩13吸收全部電子來優(yōu)化對比性能。在這種情況下，不存在進(jìn)行二次反射的電子且不產(chǎn)生偏離光線。但是，這種選擇具有一個嚴(yán)重的缺陷。如果沖擊陰罩13的金屬的所有電子均被捕獲，陰罩13的溫度將升高而會導(dǎo)致陰罩13產(chǎn)生變形。這種變形會產(chǎn)生一種現(xiàn)象即通常稱為隆起的現(xiàn)象而使電子束在屏幕上不能對準(zhǔn)位置。這樣，將使彩色顯示管1上的畫面退色。
為此原因，通常需要在隆起性能和彩色顯示管1的對比性能之間選擇一種折衷情況。
通常情況下，當(dāng)短距離對比性能良好時，觀眾就可欣賞彩色顯示管1的畫面。為達(dá)到該目的，希望在陰罩13上具有與過程B和C相關(guān)的低數(shù)量的電子反射，并需要與過程A相關(guān)的一定數(shù)量的反射以得到彩色顯示管1的良好隆起性能。
該目的可通過在電子槍側(cè)20為陰罩13提供包括重金屬或重金屬氧化物的覆層就可實(shí)現(xiàn)。所述重金屬，特指那些原子量超過70的重金屬，它們具有較高的電子反向散射系數(shù)，這樣就使陰罩的溫度低于沒有該覆層時的溫度。彩色顯示管1的隆起性能可通過該措施來改進(jìn)。在實(shí)際應(yīng)用中，已證明氧化鉍(Bi2O3)覆層非常有效且可廣泛適用以實(shí)現(xiàn)該目的。為此目的而可在陰罩13的電子槍側(cè)應(yīng)用的其他材料為氧化鎢(WO3)或碳化鎢(WC)。
為在過程B和C中實(shí)現(xiàn)較低的電子散射，需要為陰罩13在屏幕側(cè)21和孔22的壁24、25處提供具有較低原子量Z的一個覆層。在實(shí)際應(yīng)用中，已發(fā)現(xiàn)可產(chǎn)生良好效果的材料是從包括如氧化鋁(Al2O3)、氧化硅(SiO2)和氮化硼(BN)的組中選取的，此外，也可利用碳化物。在目前的彩色顯示管中優(yōu)選施加氧化鋁(Al2O3)層。
由于過程C與在孔22的壁24、25處反射的電子相關(guān)，可清楚認(rèn)識到施加到陰罩13的電子槍側(cè)20處的覆層應(yīng)不覆蓋孔22的壁25，即在電子槍側(cè)的熔穴應(yīng)沒有包含重金屬或其氧化物的覆層。
應(yīng)用在彩色顯示管1中的本發(fā)明的陰罩13可利用不同的方法來制造。下面根據(jù)圖4所顯示的內(nèi)容而將以非限制性例子的形式對陰罩13的一種制造方法進(jìn)行描述。
圖4A顯示了起始情況即利用金屬片43來作為陰罩13的基本材料時的情況。對于akoca罩來說，所述的金屬可為鐵，而對于膨脹系數(shù)遠(yuǎn)低于鐵陰罩的一種不脹鋼或類似不脹鋼的罩來說，可利用鎳鐵合金。圖4B顯示了金屬片43覆蓋一層重金屬如鎢的情況。然后，按照與目前的光化學(xué)蝕刻處理工藝相似的方式將孔的圖案施加到具有重金屬層44的金屬片43上。為具有良好的隆起性能，陰罩13的電子槍側(cè)20具有較高的電子反向散射系數(shù)是很重要的。因此，至少陰罩13的電子槍側(cè)20應(yīng)覆蓋重金屬層44。由于孔22的圖案是在施加重金屬層44后形成的，因此，陰罩13中的熔穴形孔22的壁24、25沒有重金屬覆層。在該處理步驟之后就得到如圖4C所示的陰罩13。應(yīng)注意到與圖2中的數(shù)字符號相比較，該圖中的數(shù)字符號顯示了陰罩13的詳細(xì)情況。這對于彩色顯示管1的短距離對比性能來說是很有優(yōu)勢的，因?yàn)樵诳?2的壁24、25反射的且到達(dá)主電子束7、8、9附近的屏幕6的電子數(shù)目很少，主電子束7、8和9在所述位置處沖擊屏幕6。在圖4B中，只是在陰罩的電子槍側(cè)20顯示了重金屬層44。但該內(nèi)容并不是限制性的。也可在陰罩13的兩側(cè)均施加重金屬層44。相對于蝕刻處理工藝來說，該過程具有優(yōu)勢，它消除了陰罩13的一種可能的雙金屬作用。
在金屬片中蝕刻出孔22的圖案之后，在減少的空氣的環(huán)境中以約850℃的溫度對仍平坦的陰罩13進(jìn)行退火。該處理過程使陰罩13的拉延處理變地容易。該溫度限制了所應(yīng)用的重金屬的數(shù)目，例如，熔點(diǎn)為3400℃的鎢比較適用，而熔點(diǎn)分別為271℃和327℃的鉍和鉛就不適于在退火處理前施用，因?yàn)樗鼈儗⒃谠撨^程中熔化。
在退火處理之后，在需要一個彎曲陰罩的情況下，將陰罩13拉延以得到所需的形狀。通常情況下，在該拉延處理之后進(jìn)行黑化處理，其中，在約為500-650℃的溫度下使陰罩氧化。在陰罩未被覆蓋的情況下，將鐵氧化而形成一層黑色的氧化鐵(Fe3O4)。對于具有鎢(W)層的陰罩來說，在黑化的過程中形成WO3。Fe3O4和WO3的反向散射系數(shù)分別為0.22和0.40(參見H.Nirdrig的“薄膜中的反向電子散射”(應(yīng)用物理期刊53(4)，1982年4月))。這樣就清楚地顯示出通過為陰罩13提供鎢層可提高它的反向散射性能。
該覆層還增大了陰罩13的發(fā)射率而使其溫度降低并因此而產(chǎn)生了較好的隆起性能。
還可通過為陰罩13的屏幕側(cè)21且最好也為陰罩13中的孔22的壁24、25提供覆層45來提高對比性能，參見圖4D，覆層45具有較低的電子反向散射系數(shù)，它可以是例如Al2O3、SiO2或BN?？赏ㄟ^噴射或電泳處理來施加由這些材料形成的覆層。后面所述的這一工藝處理過程已在美國專利US6,008,571中進(jìn)行了披露。
概括地說，在彩色顯示管1中，陰罩13用作為色彩選擇元件。由電子槍10發(fā)射的大部分電子均由陰罩13攔截。這些電子可由陰罩13吸收或?qū)⑺鼈兎瓷?。如果這些電子被吸收，陰罩13將被加熱而使陰罩13變形，從而在電子束7、8和9沖擊熒光屏6時將使它們產(chǎn)生位置不正而在彩色顯示管1上產(chǎn)生不純的色彩。這種現(xiàn)象稱為隆起。如果電子被反射，由于被反射的電子在完全不同的位置處沖擊熒光屏6而產(chǎn)生偏離光線，從而消弱對比性能。隆起和對比性能對于彩色顯示管1的質(zhì)量來說都是很重要的。但是，問題在于為使隆起性能最優(yōu)就應(yīng)反射所有電子，而為使對比性能最優(yōu)就應(yīng)由陰罩13吸收所有電子。本發(fā)明為該問題提供的解決方案在于只在陰罩13的電子槍側(cè)20的表面上噴涂具有高反向散射系數(shù)的重金屬或重金屬氧化物，該重金屬或重金屬氧化物對隆起具有良好的影響。優(yōu)選的情況為陰罩13的屏幕側(cè)21和孔22的壁24、25均噴涂一個具有低反向散射系數(shù)的覆層以提高電子束7、8和9位置附近區(qū)域中的對比度。從視覺的角度來考慮這樣就在對比性能和隆起性能即彩色顯示管1的色彩純度之間達(dá)到了非常好的折衷效果。
權(quán)利要求
1.一種彩色顯示管(1)，包括電子槍(10)、具有屏幕(6)的顯示窗(3)和具有一個陰罩(13)的色彩選擇電極(12)，陰罩(13)布置在電子槍(10)和屏幕(6)之間，具有一個電子槍側(cè)(20)和一個屏幕側(cè)(21)的陰罩(13)上布置有孔(22)形成的圖案，至少在電子槍側(cè)(20)處的孔(22)為熔穴形，在陰罩(13)的電子槍側(cè)(20)上布置有具有高電子反向散射系數(shù)的一個覆層，而在其屏幕側(cè)(21)上布置有具有低電子反向散射系數(shù)的一個覆層，其特征在于在陰罩(13)的電子槍側(cè)(20)上的具有高電子反向散射系數(shù)的覆層不覆蓋孔(22)的熔穴。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩色顯示管(1)，其特征在于在電子槍側(cè)(20)上的覆層包括重金屬或重金屬氧化物，重金屬的原子量Z至少為70。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的彩色顯示管(1)，其特征在于屏幕側(cè)(21)上的覆層包括輕金屬或輕金屬氧化物，輕金屬的原子量Z不超過20。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的彩色顯示管(1)，其特征在于電子槍側(cè)(20)上的覆層包括由Bi2O3、WO3、WC組形成的材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的彩色顯示管(1)，其特征在于屏幕側(cè)(21)上的覆層包括由Al2O3、SiO2、BN組形成的材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的彩色顯示管(1)，其特征在于陰罩(13)的電子槍側(cè)(20)上的孔(22)的熔穴覆蓋布置在陰罩(13)的屏幕側(cè)(21)上的覆層。
7.在根據(jù)權(quán)利要求1-6所述的彩色顯示管(1)中所用的一種陰罩(13)。
8.一種在彩色顯示管(1)中應(yīng)用的且具有一個電子槍側(cè)(20)和一個屏幕側(cè)(21)的陰罩(13)的制造方法，陰罩(13)由金屬片(43)形成，其特征在于所述方法包括如下步驟利用一個重金屬層(44)覆蓋金屬片(43)，然后，將孔(22)的圖案施加到所述金屬片(43)上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于重金屬層(44)至少施加在陰罩(13)的電子槍側(cè)(20)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的方法，其特征在于通過蒸發(fā)、噴濺或電化學(xué)鍍覆的方式施加所述重金屬層(44)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8、9或10所述的方法，其特征在于利用電化學(xué)蝕刻工藝施加孔(22)的圖案。
12.根據(jù)權(quán)利要求8、9、10或11所述的方法，其特征在于重金屬層(44)包含有鎢(W)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于所述重金屬層包括的鎢的厚度約為0.5μm。
14.根據(jù)權(quán)利要求8、9、10、11、12或13所述的方法，其特征在于陰罩(13)的屏幕側(cè)(21)覆蓋有一層具有低反向散射系數(shù)的覆層。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于屏幕側(cè)(21)上的覆層包括由Al2O3、SiO2、BN組形成的材料。
全文摘要
在彩色顯示管(1)中，陰罩(13)用作為色彩選擇元件。由電子槍(10)發(fā)射的大部分電子由陰罩(13)攔截。這些電子可由陰罩(13)吸收或?qū)⑺鼈兎瓷?。在第一種情況下，即電子被吸收的情況下，陰罩(13)被加熱而產(chǎn)生變形，這樣當(dāng)電子束7、8和9沖擊熒光屏(6)時使它們產(chǎn)生位置不正，從而在彩色顯示管(1)上引起色彩不純。這種現(xiàn)象通常稱為隆起。在第二種情況下，即電子被反射的情況下，由于被反射的電子在完全不同的位置處沖擊熒光屏(6)而產(chǎn)生偏離光線，從而消弱了對比性能。隆起和對比性能對于彩色顯示管(1)的質(zhì)量來說均是很重要的。但是，問題在于為使隆起性能最優(yōu)就應(yīng)反射所有電子，而為使對比性能最優(yōu)就應(yīng)由陰罩(13)吸收所有電子。本發(fā)明為該問題提供的解決方案在于只在陰罩(13)的電子槍側(cè)(20)的表面上噴涂具有高反向散射系數(shù)的重金屬或重金屬氧化物，該重金屬或重金屬氧化物對隆起具有良好的影響。優(yōu)選的情況為陰罩(13)的屏幕側(cè)(21)和孔(22)的壁(24，25)均噴涂一個具有低反向散射系數(shù)的覆層以提高電子束(7，8，9)位置附近區(qū)域中的對比度。從視覺方面來考慮這樣就在對比性能和隆起性能即彩色顯示管(1)的色彩純度之間達(dá)到了非常好的折衷效果。
文檔編號H01J29/07GK1397086SQ01804113
公開日2003年2月12日 申請日期2001年9月17日 優(yōu)先權(quán)日2000年9月25日
發(fā)明者D·登恩格爾森, I·M·M·杜爾林格 申請人:皇家菲利浦電子有限公司