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      平板蔭罩圖形設(shè)計(jì)方法

      文檔序號(hào):2891781閱讀:540來源:國(guó)知局
      專利名稱:平板蔭罩圖形設(shè)計(jì)方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種光化學(xué)刻蝕技術(shù),更具體地說,它涉及一種平板蔭罩圖形設(shè)計(jì)方法。
      背景技術(shù)
      隨著電視機(jī)向大屏幕、全平化、高清晰度方向發(fā)展,彩色顯像管得到廣泛的應(yīng)用,平板蔭罩是彩色顯像管的關(guān)鍵部件之一,其作用是限制電子束直徑和上屏方向,由電子槍發(fā)射的電子束在偏轉(zhuǎn)磁場(chǎng)的作用下進(jìn)行掃描,掃描過程中必須使每個(gè)電子束只能射中熒光屏上的為該束指定的那些小孔上會(huì)聚,并通過蔭罩上諸多的小孔分別打到各自對(duì)應(yīng)的熒光質(zhì)點(diǎn)上,發(fā)出三種基色,而無用的電子則被蔭罩板截獲、孔的形狀和尺寸的精度,都會(huì)影響彩色顯像管的選色效果。在彩色顯像管中,由于電子槍發(fā)射出來的電子束掃描到屏幕的邊緣部位時(shí),電子束產(chǎn)生一定的角度,當(dāng)電子束掃描至槽孔壁時(shí),會(huì)造成電子束反射和散射,從而會(huì)造成電子束透過率的損失,尤其是當(dāng)平板蔭罩厚度增加或槽孔尺寸減少后,這種現(xiàn)象更加明顯,這種電子束透過率的損失,在顯像管中就會(huì)反映為電子束著屏后的束斑形狀的變形。
      在現(xiàn)有平板蔭罩圖形的設(shè)計(jì)和制作技術(shù)中,蔭罩側(cè)刻蝕量即構(gòu)成平板蔭罩圖形的點(diǎn)子尺寸即D照相與相對(duì)應(yīng)的平板蔭罩槽孔尺寸D槽孔的差值與平板蔭罩厚度T的百分比約為40.91~45.45%,即(D槽孔-D照相)/T=40.91~45.45%,目前對(duì)彩色顯像管電子束著屏不良的改善主要是在顯像管制造過程中,通過調(diào)整曝光臺(tái)和透鏡的方法來進(jìn)行,雖然這種方法盡管也能夠改善彩色顯像管的著屏性能,但同時(shí)會(huì)造成了曝光工序工藝裕度的降低。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種具有畫面清晰、平板蔭罩斜向透過率高,彩色顯像管電子束著屏后的束斑形狀不變形且更加飽滿,并可提高對(duì)彩色顯像管著屏情況判斷和分析的可靠性,減少電子束著屏偏差現(xiàn)象,增加彩色顯像管色純?cè)6鹊钠桨迨a罩圖形設(shè)計(jì)方法。
      本發(fā)明它使用下述設(shè)計(jì)參數(shù)照相用原版上槽孔圖形的點(diǎn)子尺寸為0.55~0.85mm,平板蔭罩槽孔尺寸為0.175~0.200mm,平板蔭罩厚度T為0.22~0.25mm,平板蔭罩側(cè)刻蝕量的設(shè)計(jì)為(D槽孔-D照相)/T=47.0%~55.0%。
      具體實(shí)施例方式
      下面通過實(shí)例,對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
      本發(fā)明它使用下述設(shè)計(jì)參數(shù)照相用原版上槽孔圖形的點(diǎn)子尺寸為0.55~0.85mm,平板蔭罩槽孔尺寸為0.175~0.200mm,平板蔭罩厚度T為0.22~0.25mm,平板蔭罩側(cè)刻蝕量的設(shè)計(jì)為(D槽孔-D照相)/T=47.0%~55.0%。
      本發(fā)明的實(shí)施例121”平板蔭罩,照相用原版槽孔圖形尺寸D照相為0.060mm,平板蔭罩槽孔尺寸D槽孔為0.175mm,平板蔭罩厚度T為0.22mm,刻蝕量為52.3%T。
      本發(fā)明的實(shí)施例229”平板蔭罩,照相用原版槽孔圖形尺寸D照相為0.070mm,平板蔭罩槽孔尺寸D槽孔為0.189mm,平板蔭罩厚度T為0.22mm,刻蝕量為54.1%T。
      本發(fā)明的實(shí)施例334”大屏幕平板蔭罩,照相用原版槽孔圖形尺寸D照相為0.085mm,平板蔭罩槽孔尺寸D槽孔為0.20mm,平板蔭罩厚度T為0.22mm,刻蝕量為53.4%T。
      從實(shí)施例可以看出,減少照相用原版上槽孔圖形的點(diǎn)子尺寸,從而增加了平板蔭罩槽孔尺寸的側(cè)刻蝕量,平板蔭罩厚度T已明顯減少,電子束著屏束斑形狀飽滿。
      權(quán)利要求
      1.一種平板蔭罩圖形設(shè)計(jì)方法,它包括照相用原版上槽孔圖形的點(diǎn)子、平板蔭罩槽孔、平板蔭罩厚度T、平板蔭罩側(cè)刻蝕量,其特征是,所述的照相用原版上槽孔圖形的點(diǎn)子尺寸為0.55~0.85mm;所述的平板蔭罩槽孔尺寸為0.175~0.200mm;所述的平板蔭罩厚度T為0.22~0.25mm;所述的平板蔭罩側(cè)刻蝕量的設(shè)計(jì)為(D槽孔-D照相)/T=47.0%~55.0%。
      全文摘要
      本發(fā)明公開了一種平板蔭罩圖形設(shè)計(jì)方法,旨在提供一種具有畫面清晰、平板蔭罩斜向透過率高,彩色顯像管電子束著屏后的束斑形狀不變形且更加飽滿,并可提高對(duì)彩色顯像管著屏情況判斷和分析的可靠性,減少電子束著屏偏差現(xiàn)象,增加彩色顯像管色純?cè)6鹊钠桨迨a罩圖形設(shè)計(jì)方法,本發(fā)明它使用下述設(shè)計(jì)參數(shù)照相用原版上槽孔圖形的點(diǎn)子尺寸為0.55~0.85mm,平板蔭罩槽孔尺寸為0.175~0.200mm,平板蔭罩厚度T為0.22~0.25mm,平板蔭罩側(cè)刻蝕量的設(shè)計(jì)為(D
      文檔編號(hào)H01J9/14GK1540703SQ0311655
      公開日2004年10月27日 申請(qǐng)日期2003年4月23日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月23日
      發(fā)明者陳穎明, 方軼樺, 林烽, 顧俊, 吳志文 申請(qǐng)人:上海新芝電子有限公司
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