專利名稱：窄密封邊等離子顯示屏及制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及等離子顯示屏，尤其涉及一種窄密封邊等離子顯示屏及制造方法。
本發(fā)明所要解決的另一個(gè)技術(shù)問題是提供一種窄密封邊等離子顯示屏的制造方法。
本發(fā)明解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為一種窄密封邊等離子顯示屏，包括相互平行的前玻璃基板和后玻璃基板，在前玻璃基板和后玻璃基板之間設(shè)置有相互異面垂直的透明電極和尋址電極，前玻璃基板和后玻璃基板通過四周的密封邊封裝層封裝在一起，所述的密封邊封裝層的材料是專用低熔點(diǎn)玻璃粉，所述的密封邊封裝層的寬度設(shè)置為0.3mm～1.5mm，最好是0.6mm。
所述的專用低熔點(diǎn)玻璃粉，呈顆粒狀態(tài)，它包括以下的成份(重量百分比)
重量百分比氧化鉛(PbO) 50～80氧化硅(SiO2)2～20氧化硼(B2O3) 10～30氧化鋁(Al2O3) 2～18氧化鋅(ZnO) 3～10氧化鈣(CaO) 2～25所述專用低熔點(diǎn)玻璃粉顆粒的粒度可以為1u～10u，最好是5u。
本發(fā)明解決上述技術(shù)問題所采用的另一技術(shù)方案為一種窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，包括加工前玻璃基板和后玻璃基板，設(shè)置透明電極和尋址電極及各自的連接電極，設(shè)置障壁層和沉積熒光粉，封裝前玻璃基板和后玻璃基板，所述的前玻璃基板和后玻璃基板封裝步驟如下①用專用低熔點(diǎn)玻璃粉設(shè)置密封邊封裝層，使其寬度為0.3mm～1.5mm，厚度為0.05mm～0.2mm，②將前玻璃基板和后玻璃基板合在一起用封裝工件夾緊，③用400℃～480℃的高溫?zé)菩纬擅芊膺叿庋b層。
所述的密封邊封裝層設(shè)置采用網(wǎng)版印刷多層疊加的方法，每層網(wǎng)版印刷的厚度為0.01mm～0.03mm，最好是0.02mm，也可以采用涂敷方法或噴砂方法來設(shè)置密封邊封裝層。
所述的密封邊封裝層可以設(shè)置在前玻璃基板上，也可以設(shè)置在后玻璃基板上，還可以同時(shí)設(shè)置在前玻璃基板和后玻璃基板上。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于用具有低流淌性的專用低熔點(diǎn)玻璃粉進(jìn)行等離子顯示屏的封裝，在保證氣密性的前提下，使密封邊封裝層的寬度控制在0.3mm～1.5mm，生產(chǎn)的窄密封邊等離子顯示屏用于拼裝大屏幕時(shí)消除了明顯的圖象窗框感。
實(shí)施例①一種窄邊等離子顯示屏，包括相互平行的前玻璃基板1和后玻璃基板2，在前玻璃基板1和后玻璃基板2之間設(shè)置有相互異面垂直的透明電極3和尋址電極4，前玻璃基板1和后玻璃基板2通過四周的密封邊封裝層5封裝在一起，密封邊封裝層5的材料是專用低熔點(diǎn)玻璃粉，密封邊封裝層5的寬度設(shè)置為0.3mm，專用低熔點(diǎn)玻璃粉呈顆粒狀態(tài)，顆粒的粒度為1u，專用低熔點(diǎn)玻璃粉的成份(重量)選擇以下三種情況第一，氧化鉛(PbO)80％，氧化硅(SiO2)2％，氧化硼(B2O3)11％，氧化鋁(Al2O3)2％，氧化鋅(ZnO)3％，氧化鈣(CaO)2％；第二，氧化鉛(PbO)65％，氧化硅(SiO2)10％，氧化硼(B2O3)14％，氧化鋁(Al2O3)3％，氧化鋅(ZnO)5％，氧化鈣(CaO)3％。
第三，氧化鉛(PbO)50％，氧化硅(SiO2)20％，氧化硼(B2O3)18％，氧化鋁(Al2O3)3％，氧化鋅(ZnO)5％，氧化鈣(CaO)4％。
實(shí)施例②一種窄邊等離子顯示屏，包括相互平行的前玻璃基板1和后玻璃基板2，在前玻璃基板1和后玻璃基板2之間設(shè)置有相互異面垂直的透明電極3和尋址電極4，前玻璃基板1和后玻璃基板2通過四周的密封邊封裝層5封裝在一起，密封邊封裝層5的材料是專用低熔點(diǎn)玻璃粉，密封邊封裝層5的寬度設(shè)置為0.6mm，專用低熔點(diǎn)玻璃粉呈顆粒狀態(tài)，顆粒的粒度為5u，專用低熔點(diǎn)玻璃粉的成份(重量)選擇以下三種情況第一，氧化鉛(PbO)80％，氧化硅(SiO2)2％，氧化硼(B2O3)11％，氧化鋁(Al2O3)2％，氧化鋅(ZnO)3％，氧化鈣(CaO)2％；第二，氧化鉛(PbO)65％，氧化硅(SiO2)10％，氧化硼(B2O3)14％，氧化鋁(Al2O3)3％，氧化鋅(ZnO)5％，氧化鈣(CaO)3％。
第三，氧化鉛(PbO)50％，氧化硅(SiO2)20％，氧化硼(B2O3)18％，氧化鋁(Al2O3)3％，氧化鋅(ZnO)5％，氧化鈣(CaO)4％。
實(shí)施例③一種窄邊等離子顯示屏，包括相互平行的前玻璃基板1和后玻璃基板2，在前玻璃基板1和后玻璃基板2之間設(shè)置有相互異面垂直的透明電極3和尋址電極4，前玻璃基板1和后玻璃基板2通過四周的密封邊封裝層5封裝在一起，密封邊封裝層5的材料是專用低熔點(diǎn)玻璃粉，密封邊封裝層5的寬度設(shè)置為1.5mm，專用低熔點(diǎn)玻璃粉呈顆粒狀態(tài)，顆粒的粒度為10u，專用低熔點(diǎn)玻璃粉的成份(重量)選擇以下三種情況第一，氧化鉛(PbO)80％，氧化硅(SiO2)2％，氧化硼(B2O3)11％，氧化鋁(Al2O3)2％，氧化鋅(ZnO)3％，氧化鈣(CaO)2％；第二，氧化鉛(PbO)65％，氧化硅(SiO2)10％，氧化硼(B2O3)14％，氧化鋁(Al2O3)3％，氧化鋅(ZnO)5％，氧化鈣(CaO)3％。
第三，氧化鉛(PbO)50％，氧化硅(SiO2)20％，氧化硼(B2O3)18％，氧化鋁(Al2O3)3％，氧化鋅(ZnO)5％，氧化鈣(CaO)4％。
上述三個(gè)實(shí)施例中專用低熔點(diǎn)玻璃粉的制造方法如下(1)按含量進(jìn)行配料；(2)將配料裝入坩堝中，在1500℃左右的溫度下熔制；(3)軋制玻璃片；(4)清洗、烘干；(5)加入2％的硬脂酸鹽進(jìn)行研磨；(6)過篩獲得專用低熔點(diǎn)玻璃粉。
實(shí)施例④一種窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，包括加工前玻璃基板1、后玻璃基板2，設(shè)置透明電極3和尋址電極4及各自的連接電極，設(shè)置障壁層和沉積熒光粉，封裝前玻璃基板1和后玻璃基板2，封裝步驟如下①用專用低熔點(diǎn)玻璃粉設(shè)置密封邊封裝層5，使其寬度為0.3mm，厚度為0.05mm，②將前玻璃基板1和后玻璃基板2合在一起用封裝工件夾緊，③用400℃～480℃的高溫?zé)菩纬擅芊膺叿庋b層5。密封邊封裝層5的設(shè)置采用網(wǎng)版印刷多層疊加的方法，每層網(wǎng)版印刷的厚度為0.01mm～0.03mm，最好是0.02mm，也可以采用涂敷方法或噴砂方法來設(shè)置密封邊封裝層5。
實(shí)施例⑤一種窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，包括加工前玻璃基板1、后玻璃基板2，設(shè)置透明電極3和尋址電極4及各自的連接電極，設(shè)置障壁層和沉積熒光粉，封裝前玻璃基板1和后玻璃基板2，封裝步驟如下①用專用低熔點(diǎn)玻璃粉設(shè)置密封邊封裝層5，使其寬度為0.6mm，厚度為0.13mm，②將前玻璃基板1和后玻璃基板2合在一起用封裝工件夾緊，③用400℃～480℃的高溫?zé)菩纬擅芊膺叿庋b層5。密封邊封裝層5的設(shè)置采用網(wǎng)版印刷多層疊加的方法，每層網(wǎng)版印刷的厚度為0.01mm～0.03mm，最好是0.02mm，也可以采用涂敷方法或噴砂方法來設(shè)置密封邊封裝層5。
實(shí)施例⑥一種窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，包括加工前玻璃基板1、后玻璃基板2，設(shè)置透明電極3和尋址電極4及各自的連接電極，設(shè)置障壁層和沉積熒光粉，封裝前玻璃基板1和后玻璃基板2，封裝步驟如下①用專用低熔點(diǎn)玻璃粉設(shè)置密封邊封裝層5，使其寬度為1.5mm，厚度為0.2mm，②將前玻璃基板1和后玻璃基板2合在一起用封裝工件夾緊，③用400℃～480℃的高溫?zé)菩纬擅芊膺叿庋b層5。密封邊封裝層5的設(shè)置采用網(wǎng)版印刷多層疊加的方法，每層網(wǎng)版印刷的厚度為0.01mm～0.03mm，最好是0.02mm，也可以采用涂敷方法或噴砂方法來設(shè)置密封邊封裝層5。
在實(shí)施例④、⑤、⑥中，密封邊封裝層5可以設(shè)置在前玻璃基板1上，也可以設(shè)置在后玻璃基板2上，還可以同時(shí)設(shè)置在前玻璃基板1和后玻璃基板2上。
用具有低流淌性的專用低熔點(diǎn)玻璃粉進(jìn)行等離子顯示屏的封裝，在保證密封性的前提下，使密封邊封裝層5的寬度控制在0.3mm～1.5mm，生產(chǎn)的窄密封邊等離子顯示屏用于拼裝大屏幕時(shí)消除了明顯的圖象窗框感。
權(quán)利要求
1.一種窄密封邊等離子顯示屏，包括相互平行的前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)，在前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)之間設(shè)置有相互異面垂直的透明電極(3)和尋址電極(4)，前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)通過四周的密封邊封裝層(5)封裝在一起，其特征在于所述的密封邊封裝層(5)的寬度設(shè)置為0.3mm～1.5mm，所述的密封邊封裝層(5)的材料是專用低熔點(diǎn)玻璃粉。
2.如權(quán)利要求1所述的窄密封邊等離子顯示屏，其特征在于所述的專用低熔點(diǎn)玻璃粉，呈顆粒狀態(tài)，它包括以下的成份(重量百分比)重量百分比氧化鉛(PbO) 50～80氧化硅(SiO2) 2～20氧化硼(B2O3)10～30氧化鋁(Al2O3) 2～18氧化鋅(ZnO) 3～10氧化鈣(CaO) 2～25
3.如權(quán)利要求2所述的窄密封邊等離子顯示屏，其特征在于所述的專用低熔點(diǎn)玻璃粉顆粒的粒度為1u～10u。
4.如權(quán)利要求1所述的窄密封邊等離子顯示屏，其特征在于所述的密封邊封裝層(5)的寬度設(shè)置為0.6mm。
5.一種窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，包括加工前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)，設(shè)置透明電極(3)和尋址電極(4)及各自的連接電極，設(shè)置障壁層和沉積熒光粉，封裝前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)，其特征在于所述前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)的封裝包括以下步驟①用專用低熔點(diǎn)玻璃粉設(shè)置密封邊封裝層(5)，使所述的密封邊封裝層(5)的寬度為0.3mm～1.5mm，厚度為0.05mm～0.2mm，②將前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)合在一起用封裝工件夾緊，③用400℃～480℃的高溫?zé)菩纬擅芊膺叿庋b層(5)。
6.如權(quán)利要求5所述的窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，其特征在于所述的密封邊封裝層(5)的設(shè)置采用網(wǎng)版印刷多層疊加的方法，每層網(wǎng)版印刷的厚度為0.01mm～0.03mm。
7.如權(quán)利要求6所述的窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，其特征在于所述的密封邊封裝層(5)設(shè)置采用網(wǎng)版印刷多層疊加的方法，每層網(wǎng)版印刷的厚度為0.02mm。
8.如權(quán)利要求6所述的窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，其特征在于所述的密封邊封裝層(5)設(shè)置在前玻璃基板(1)上。
9.如權(quán)利要求6所述的窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，其特征在于所述的密封邊封裝層(5)設(shè)置在后玻璃基板(2)上。
10.如權(quán)利要求6所述的窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，其特征在于所述的密封邊封裝層(5)設(shè)置在前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)上。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種窄密封邊等離子顯示屏，包括相互平行的前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)，在前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)之間設(shè)置有相互異面垂直的透明電極(3)和尋址電極(4)，前玻璃基板(1)和后玻璃基板(2)通過四周的密封邊封裝層(5)封裝在一起，密封邊封裝層(5)的寬度設(shè)置為0.3mm～1.5mm，密封邊封裝層(5)的材料是專用低熔點(diǎn)玻璃粉，本發(fā)明還公開了一種窄密封邊等離子顯示屏的制造方法，在保證氣密性的前提下，使密封邊封裝層(5)的寬度控制在0.3mm～1.5mm，生產(chǎn)的窄密封邊等離子顯示屏用于拼裝大屏幕時(shí)消除了明顯的圖象窗框感。
文檔編號(hào)H01J11/48GK1438670SQ0311607
公開日2003年8月27日 申請(qǐng)日期2003年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月28日
發(fā)明者孫伯彥, 俞益庭 申請(qǐng)人:孫伯彥, 寧波天明電子股份有限公司