Pdp濾光片及其制備方法

文檔序號：2938867閱讀：286來源：國知局

專利名稱：Pdp濾光片及其制備方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種PDP濾光片及其制備方法。更具體而言，本發(fā)明涉及一種使用透明導電膜型電磁波屏蔽層的PDP濾光片及制備該PDP 濾光片的方法，其中與其它功能層接觸的透明導電膜型電磁波屏幕層的表面的至少兩個邊緣部分不暴露于PDP濾光片的層壓結構外部。此外，本發(fā)明涉及一種在不需要暴露透明導電膜型電磁波屏蔽層的基礎上形成的，包括具有電磁波屏蔽功能、近紅外吸收功能以及抗反射功能的單一光學膜的PDP濾光片，以及制備這種PDP濾光片的方法。
背景技術：
一般而言，等離子體顯示面板(PDP)是一種通過使用包括He + Xe、 Ne + Xe或He + Ne + Xe等的惰性氣體混合物的放電發(fā)出的147 nm的 UV光激發(fā)磷光體顯示包括字符或圖形的圖像的器件。具體而言，PDP 是一種在具有掃描電極和維持電極的上基板和具有尋址電極的下基板之間以基質形狀形成的放電元件中由放電現(xiàn)象而引起自發(fā)光的器件。PDP的優(yōu)點在于，它可使用自發(fā)光產(chǎn)生天然色，可保證160°或更大的寬視角，以及可具有大屏幕，并且根據(jù)最近的顯示器件降低厚度和重量的趨勢，與LCD—起作為典型的平面顯示器件受到關注。然而， PDP的不利之處在于，它需要比常規(guī)CRT顯示器件更高的功率消耗，因而從PDP組件發(fā)出的電磁波和近紅外噪聲信號比CRT顯示器中發(fā)出的更強。需要將影響人體或其它電子裝置的電磁波限制在預定的或更低的水平。此外，由PDP發(fā)生的近紅外噪聲信號可負面影響無線電話或遠
程控制器的操作。因此，PDP需要不同于CRT顯示器件的屏蔽結構作為用于屏蔽電磁波或噪聲信號的結構，其實現(xiàn)是最重要的技術任務。為了有效地屏蔽來自PDP的這種電磁波和近紅外噪聲信號，如圖 l所示的橫截面結構，將PDP濾光片20裝在PDP 100的PDP模塊50 的整個表面上。如圖2~7所示的橫截面結構，通過在由丙烯酰基或加強玻璃制成的透明基板22或PDP模塊的上表面或下表面設置和粘附一層或多層功能層形成PDP濾光片20。圖2~7的粗線顯示了銀印刷 (silver printed)或粘附導電帶的部分。作為組成PDP濾光片20的功能層，至少一種膜選自包括抗反射層 21、電磁波屏蔽層23、顏色控制層24以及近紅外屏蔽層(未顯示)的組。因為由這些功能層組成的PDP濾光片20裝在PDP 100的前表面，所以其應是透明的。為了展示各層的固有功能，如果需要，組成PDP濾光片20的功能層被層壓時，對層壓順序進行多種變化。各層的功能如下。抗反射層 21的功能是防止外部入射光反射到外部以增強PDP 100的對比度。電磁波屏蔽層23的功能是屏蔽PDP模塊50中發(fā)生的電磁干擾(EMI),然后將所述的電磁干擾接地到PDP 100的后蓋用于隨后的放電。近紅外屏蔽層(未顯示)的功能是屏蔽從PDP模塊50發(fā)出的約800 ~ 1000 nm 的近紅外線，以防止發(fā)射預定水平或更高的近紅外線，從而使如使用約947 nm的紅外線控制的遠程控制信號的信號正常傳輸。顏色控制層 24的功能是使用包括紅色(R)、綠色(G)和藍色(B)的染料控制特定顏色。此外，由于電磁波屏蔽層23和近紅外屏蔽層(未顯示)基于相似的屏蔽原理，可形成兩層之中的任一層從而同時顯示兩種功能。通過將一層或多層功能層切割為預定尺寸，然后如果需要將其互相粘附而制備由各功能層組成的PDP濾光片。如圖2~7的橫截面結構所示，由于存在電磁波屏蔽層23,所以常規(guī)PDP濾光片的功能層的橫截面寬度不等。下文具體描述一般包含在PDP濾光片中的電磁波屏蔽層。根據(jù)使用的膜的種類可以將電磁波屏蔽層分為金屬網(wǎng)型和透明導電膜型。盡管具有網(wǎng)型電磁波屏蔽層的PDP濾光片表現(xiàn)優(yōu)異的電磁波屏蔽效果，但其降低了透明度并引起圖像失真。而且，由于網(wǎng)自身昂貴，無奈地提高了產(chǎn)品價格。因此，為了替代網(wǎng)型，已經(jīng)廣泛使用具有如ITO層的透明導電膜型電磁波屏蔽層的PDP濾光片。透明導電膜型電磁波屏蔽層是多層薄膜形式，其中金屬薄膜和高折射透明薄膜交替使用，優(yōu)選交替使用三次或更多次，并且進一步使用高折射透明薄膜作為最上層。金屬薄膜由銀(Ag)或主要由銀組成的合金形成，并且具有3 Q或更低的表面電阻和50%或更高的可見光透射比。包括常規(guī)透明導電膜型電磁波屏蔽膜的PDP濾光片的結構示于圖 8。常規(guī)透明導電膜型電磁波屏蔽膜70表面的邊緣部分具有暴露部分 71用于電接地。暴露部分71可以為銀印刷或粘附導電帶以防止由氧化引起的電阻增加。暴露部分71通過與地針170接觸與濾光片支架30 連接以實現(xiàn)后蓋的電接地，或可將PDP的相應表面直接接地，從而使電磁波接地。即，因為作為PDP濾光片20的一個組分的透明導電膜型電磁波屏蔽膜70應具有暴露部分71用于接地，所以應將與電磁波屏蔽膜70的上表面粘附的其它功能層切割成比電磁波屏蔽膜70小，從而使電磁波屏蔽膜70的暴露部分71暴露在PDP濾光片的層壓結構外部。因此，如圖2 ~ 7所示，常規(guī)PDP濾光片的局限性在于功能層的橫截面寬度不能完全彼此相等。
結果，由于上述的PDP膜的橫截面結構，所以通過一層接一層設置和粘附比透明導電膜型電磁波屏蔽膜的尺寸小的各功能膜而制備各 PDP濾光片。然而這種手工工藝使制備工藝復雜化，并且不能實現(xiàn)巻帶式工藝(roll-to-rollprocess)(連續(xù)制備工藝)，因此不可實現(xiàn)大量生產(chǎn)，導致生產(chǎn)力下降。通過在透明基板上形成高折射透明薄膜和低折射透明薄膜可以制備抗反射膜。即，在抗反射膜的結構中，低折射透明薄膜應位于最上層，并且高折射透明薄膜應位于其下。在相關技術中為了制備輕和薄的PDP,進行了多種嘗試以通過使用共同的基板將透明導電膜型電磁波屏蔽膜和抗反射膜整合成多層結構制備PDP濾光片。例如，日本專利公開號平11-74683披露了一種制備PDP濾光片的方法，所述方法包括在兩個透明基板之間插入電磁波屏蔽膜、在制得的基板的一個表面上粘附抗反射膜以及在制得的基板的另一表面順序層壓近紅外屏蔽膜和抗反射膜。此外，日本專利公開號平13-134198披露了一種制備PDP濾光片的方法，所述方法包括在透明基板的一個表面順序粘附電磁波屏蔽膜和抗反射膜，然后在透明基板的另一表面粘附近紅外屏蔽膜。上述常規(guī)方法可實現(xiàn)相對輕重量和薄度。然而，即使使用共同的透明基板形成層壓結構，常規(guī)方法的缺點也在于，仍應在透明基板上單獨形成電磁波屏蔽層或抗反射層制備各功能膜。此外，要強加限制以進一步降低分別制備各功能膜的工藝的數(shù)目或層壓層的數(shù)目。發(fā)明內(nèi)容技術問題為提出本發(fā)明，本發(fā)明人不斷進行了常規(guī)電磁波屏蔽膜和使用該電磁波屏蔽膜的PDP濾光片的電磁波屏蔽效果的實驗和研究，結果發(fā) 現(xiàn)透明導電膜型電磁波屏蔽膜是否暴露或接地，不會影響電磁波屏蔽效果。因此，本發(fā)明的一個目的是提供一種可形成多種層壓結構并且可使用巻帶式制備工藝大量制備的PDP濾光片，以及一種制備這種 PDP濾光片的方法。本發(fā)明的另一個目的是在透明導電膜型電磁波屏蔽膜上層壓其它功能層時利用透明導電膜型電磁波屏蔽膜的導電表面不需要暴露的性質，通過使功能性重疊層數(shù)目最小化，提供一種具有簡單結構的多功能PDP濾光片，以及一種制備這種PDP濾光片的方法。技術方案為了達到上述目的，本發(fā)明提供了一種PDP濾光片，所述PDP濾光片具有包括透明導電膜型電磁波屏蔽層和一層或多層其它功能層的層壓結構，其中與功能層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的至少兩個邊緣部分不暴露在PDP濾光片層壓結構的外部。另外，本發(fā)明提供了一種制備PDP濾光片的方法，所述方法包括將透明導電膜型電磁波屏蔽膜纏繞成一個巻，然后將該透明導電膜型電磁波屏蔽膜的巻裝到第一進料輥上；將除透明導電膜型電磁波屏蔽膜外的功能膜纏繞成巻，然后裝到與第一進料輥隔開的第二進料輥上；在與第一進料輥和第二進料輥隔開的位置，提供彼此緊密面對的第一壓縮輥和第二壓縮輥，然后使來自第一進料輥的透明導電膜型電磁波屏蔽膜和來自第二進料輥的功能膜在第一壓縮輥和第二壓縮輥之間通過，從而制得通過熱或壓力整合的膜；以及切割該整合的膜使得與功能膜接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽膜表面的至少兩個邊緣部分不被暴露。另外，本發(fā)明提供了一種制備PDP濾光片的方法，所述方法包括使用涂敷過程在透明導電膜型電磁波屏蔽層的上表面、下表面或兩個
表面形成一層或多層其它功能層，其中進行涂敷過程以使透明導電膜型電磁波屏蔽膜的上表面、下表面或兩個表面的至少兩個邊緣部分不被暴露。另夕卜，本發(fā)明提供了一種PDP濾光片，所述濾光片包括透明基板、包括在透明基板上交替層壓的高折射透明薄膜層和金屬薄膜層的透明導電膜型電磁波屏蔽層和在交替層壓層最上表面上提供的高折射透明薄膜層以及在高折射透明薄膜層的最高層上形成的低折射透明薄膜層，其中與低折射透明薄膜層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層的表面的至少兩個邊緣部分不被暴露。另外，本發(fā)明提供了一種制備PDP濾光片的方法，所述方法包括在透明基板上交替層壓高折射透明薄膜層和金屬薄膜層以及在交替層壓層的最上表面提供高折射透明薄膜層，從而形成透明導電膜型電磁波屏蔽層；以及在高折射透明薄膜層的最高層上形成低折射透明薄膜層，其中與低折射透明薄膜層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的至少兩個邊緣部分不被暴露。另外，本發(fā)明提供了一種包括上述PDP濾光片的PDP。在根據(jù)本發(fā)明的PDP中，PDP濾光片的透明導電膜型電磁波屏蔽層可以不被電接地。有益效果在本發(fā)明的PDP濾光片中，即使作為其一種組分的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面邊緣部分不被暴露和不接地，也可以表現(xiàn)出與常規(guī) PDP濾光片相當?shù)碾姶挪ㄆ帘喂δ埽瑥亩鴮崿F(xiàn)PDP濾光片的多種層壓結構。此外，因為PDP濾光片可形成上述層壓結構，可以使用如巻帶式工藝的連續(xù)制備工藝制備所述PDP濾光片，從而實現(xiàn)PDP濾光片的大量生產(chǎn)和高生產(chǎn)力。另外，由于不需要暴露透明導電膜型電^f茲波屏
蔽層，需要與透明導電膜型電磁波屏蔽層結構的部分在功能上相同的結構的功能層可形成簡單的結構，從而易于制備多功能PDP濾光片。

圖1為示意顯示常規(guī)PDP—側的橫截面圖；圖2 7為顯示常規(guī)PDP濾光片的橫截面圖；圖8為顯示常規(guī)電^t波屏蔽膜接地部分(暴露部分)的部分透^L圖；圖9為顯示^f艮據(jù)本發(fā)明第一實施方式的PDP濾光片的平面結構的平面圖；圖10為顯示根據(jù)本發(fā)明第一實施方式的PDP濾光片的4黃截面結構的橫截面圖；圖11為顯示用于制備本發(fā)明的PDP濾光片中的輥的排列的視圖；圖12為顯示制備本發(fā)明的PDP濾光片的工藝的流程圖；圖13為顯示根據(jù)本發(fā)明第二實施方式的PDP濾光片的橫截面結構的橫截面圖；圖14為同時顯示根據(jù)本發(fā)明第二實施方式的PDP濾光片的平面結構和橫截面結構的透浮見圖；圖15為顯示根據(jù)本發(fā)明第三實施方式的PDP濾光片的橫截面結構的橫截面圖；圖16為顯示根據(jù)本發(fā)明第四實施方式的PDP濾光片的橫截面結構的橫截面圖；圖17為顯示根據(jù)本發(fā)明第五實施方式的PDP濾光片的橫截面結構的橫截面圖；圖18為顯示根據(jù)本發(fā)明第六實施方式的PDP濾光片的橫截面結構的橫截面圖19為顯示才艮據(jù)本發(fā)明第七實施方式的PDP濾光片的4黃截面結構的橫截面圖；圖20為顯示才艮據(jù)本發(fā)明，屏蔽垂直于沒有接地部分的PDP濾光片的前表面的電磁波的實驗結果(實施例l)的曲線圖；圖21為根據(jù)本發(fā)明，顯示屏蔽平行于沒有接地部分的PDP濾光片的前表面的電磁波實驗結果(實施例l)的曲線圖；圖22為顯示用于屏蔽垂直于通過銀印刷提供接地部分的常規(guī)PDP 濾光片的電磁波的實驗結果(對比例l)的曲線圖；圖23為顯示用于屏蔽平行于通過銀印刷提供接地部分的常規(guī)PDP 濾光片的電磁波的實驗結果(對比例l)的曲線圖；圖24為顯示用于屏蔽垂直于使用導電帶提供接地部分的常規(guī)電磁波屏蔽層的實驗結果(對比例2)的曲線圖；以及波屏蔽層的實驗結果(對比例2)的曲線圖。 <附圖中的符號說明〉 10:前蓋 20: PDP濾光片 21:抗反射層 22:透明基板 23:電；茲波屏蔽層 24:顏色控制層 30:濾光片支架 50: PDP模塊 60:驅動電3各 70:電^茲波屏蔽膜71:電石茲波屏蔽膜暴露部分72:其它功能膜的層壓區(qū)域膜100:PDP170:地針200、300、 400、 500、600、 700、 800: PDP濾光片210、310、 410、 510、610、 710、 810:透明導電膜型電磁波屏蔽220、320:抗反射膜213、216、 311、 321、411、 511、 611、 711、 811、 850:透明基板214、312、 412、 512:透明導電膜型電磁波屏蔽層215、330、 730、 830:粘合劑層(PSA)217、322、 422、 522、622、 722、 822: 4元反射層230、240:纏繞巻250:第一進料輥260:第二進料輥270:第一壓縮輥280:第二壓縮輥290:PDP濾光片621、622、 623、 624、721、 722、 723、 724、 821、 822、 823、 824:高折射透明薄膜層631、 632、 633、 731、 732、 733、 831、 832、 833:金屬薄膜層640、 740、 840:低折射透明薄膜層750:顏色控制層660、 760、 860:石更涂層
具體實施例方式
下文，將對本發(fā)明作詳細說明。在本發(fā)明中，術語"膜"表示獨立的實體，術語"層"表示獨立的實體的部分。然而，對于作為PDP濾光片的一個組分包括功能膜的情況下，其起到功能層的作用，因此上述術語可互換使用，并且本發(fā) 明的范圍不限于此。本發(fā)明的PDP濾光片的特征在于，具有包括透明導電膜型電磁波屏蔽層和一層或多層其它功能層的層壓結構，其中與其它功能層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的至少兩個邊緣部分不被暴露在PDP濾光片的層壓結構外部。一般地，已知當在透明導電膜型電磁波屏蔽膜上存在其它功能層時，必需暴露透明導電膜型電磁波屏蔽膜的導電表面的所有邊緣部分以形成用于電接地的接地部分，所述接地部分應用銀印刷或用導電帶粘附以降低接地部分的表面電阻，并且如此實現(xiàn)的接地部分只有在與 PDP的地針接觸的情況時才表現(xiàn)電磁波屏蔽效果。然而，本發(fā)明人已經(jīng)證實，即使在PDP不接地時，透明導電膜型電磁波屏蔽膜也可通過反射表現(xiàn)電磁波屏蔽效果，并且即使不形成透明導電膜型電磁波屏蔽層的暴露部分以及透明導電膜型電磁波屏蔽層不接地，本發(fā)明的PDP濾光片也可表現(xiàn)出與常規(guī)PDP濾光片相似的電磁波屏蔽效果。因此，在本發(fā)明的PDP濾光片中，不需要形成用于電接地的透明導電膜型電磁波屏蔽層的暴露部分，并且由于不存在暴露部分，所以也不需要使用銀印刷或導電帶。在本發(fā)明中，因為與其它功能層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的至少兩個邊緣部分不被暴露于PDP濾光片的層壓結構外部，所以可以形成多種PDP濾光片的層壓結構。因此，使用巻帶式工藝可以制備具有層壓結構而不需暴露透明導電膜型電磁波屏蔽膜表面的邊
緣部分的PDP濾光片，從而實現(xiàn)大量生產(chǎn)。另外，在使用涂敷過程制備具有層壓結構的PDP濾光片的情況下，可在透明導電膜型電磁波屏蔽膜的整個表面上可形成沒有暴露部分的其它功能層，從而筒化了制備工藝。在本發(fā)明中，通過交替層壓一層或多層高折射透明薄膜層和一層或多層金屬薄膜層，并且提供高折射透明薄層作為最上層形成透明導電膜型電磁波屏蔽層。使用本領域已知的方法和材料可以形成透明導電膜型電磁波屏蔽層。高折射透明薄膜層一般具有如本領域已知的1.5或更高，以及優(yōu)選 1.5-2的折射率，但是本發(fā)明不限于此。高折射透明薄膜層用作隔離層用于防止金屬薄膜層通過由金屬薄膜層的濺射中形成的氧等離子體引起的金屬薄膜層氧化，并且該高折射透明薄膜層可由各具有相對高電阻的如ITO、 IZO、 ATO、 ZnO、 ZnO-Al、 Ti02、 M)203或SnO的氧化物，或銦、鈦、鋯、錫、鋅、銻、鉭、鈰、釷、鎂或鉀的氧化物形成。此外，為了防止在氧化物形成過程中通過氧等離子體對金屬薄膜層的損傷，可提供如Si3N4的氮化物作為隔離層。金屬薄膜層可由至少一種具有相對低電阻，并且優(yōu)選具有3x(T6 Q 口cm或更低的電阻率的金屬形成。具體而言，金屬薄膜層使用至少一種如金、銀、銅、鎳和鋁的金屬形成。即使通過濺射法可形成高折射透明薄膜層和金屬薄膜層，但本發(fā) 明不限于此，并且可以使用本領域已知的任何方法。以兩層或更多層膜重復層壓或兩層或更多層膜彼此粘附的方式可以制備具有這種多層薄膜結構的電磁波屏蔽膜210,從而改善電磁波屏蔽效果。在本發(fā)明中，功能層可以為選自包括抗反射膜、近紅外吸收膜和顏色控制膜的組的膜，或可以為能表現(xiàn)上述膜的功能中兩種或更多種功能的膜。在本發(fā)明的PDP濾光片中，透明導電膜型電磁波屏蔽層具有近紅外吸收功能以及電f茲波屏蔽作用。然而，本發(fā)明的PDP濾光片可進一步包括近紅外吸收層以達到優(yōu)異的近紅外吸收功能?？梢允褂?本領域已知的方法和材料形成近紅外吸收層。通過在聚合物粘合劑中溶解或分散能吸收近紅外線的染料和/或無機顏料以制得溶液，然后將該溶液涂敷在透明基板上，或將其加入制備粘合劑的工藝中，可以制備近紅外吸收層。作為形成透明導電膜型電磁波屏蔽層或其它功能層需要的基板，使用透明基板。透明基板的例子包括加強或半加強玻璃或由聚酯樹脂、曱基丙烯酸樹脂、氟樹脂、三醋酸樹脂或其混合物形成的塑料膜。即使優(yōu)選使用PET (聚對苯二曱酸乙二酉旨)或TAC (三乙酰纖維素)，本發(fā) 明也不限于此。透明基板約30-150 口厚，更優(yōu)選70-120 口厚，但本發(fā)明不限于此。通過膜粘附工藝可以進行透明導電膜型電磁波屏蔽層和一層或多層其它功能層的層壓?？梢允褂猛獠考訜峄驂毫蚴褂谜澈蟿┻M行粘附工藝。粘合劑的例子包括橡膠、丙烯?；⒐柩跬榈?。尤其是具有多種應用性質使其適合用于制備具有高功能性的粘合劑組合物的丙烯酸粘合劑具有烷基作為官能團，從而防止了由電磁波屏蔽膜的金屬薄膜層在高溫和高濕度條件下氧化引起的顏色變化。進一步，膜可以使用熱熔樹脂通過熱粘合。此外，通過使用薄膜形成法，例如濕涂法或沉積的涂敷法在一層膜上形成另一功能層可以形成多層結構的單一膜。對于使用粘合劑的情況，可以向粘合劑層加入用于顏色控制的有機或無機顏料和/或有機或無機染料以提供顏色控制功能。用于顏色控制的有機或無機顏料和/或有機或無機染料的例子包括二氧化鈦(金紅
石型)、二氧化鈦(銳鈥礦型)、鎘黃、鉻黃、鉬橘紅、鎘紅、氧化鐵、銅酞菁綠、銅酞菁藍、炭黑、鈷藍、鈷生物紅(cobalt bio red)、礦物生物紅(mineral bio red)、三氧4匕二4各、還原天藍(thren blue)、《鬲纟工(cadmi red)、碳l、碳2、鎘黃(cadmi yellow)、酞菁藍、苯胺黑、偶氮顏料、偶氮染料、偶氮化合物、偶氮堿性氧化物、堿性顏料、金屬配位鹽、偶氮次曱基顏料、包含金屬和金屬氧化物的顏料、苯胺曱醛樹脂、芳基、芳基化物樹脂等。金屬和金屬氧化物的例子包括Nd203、基于Nd 的Fe和氧化鐵、Ag和氧化銀、Ni和氧化鎳、Cr和三氧化二鉻、其它金屬及其氧化物。在PDP濾光片中，透明導電膜型電磁波屏蔽層的寬度和在透明導電膜型電磁波屏蔽層上層壓的其它功能膜的寬度可在不暴露透明導電膜型電磁波屏蔽層的至少兩個邊緣部分的范圍內(nèi)不同地選擇。例如，其它功能膜的橫向和縱向寬度可大于透明導電膜型電磁波屏蔽層的橫向或縱向寬度。此外，其它功能膜的橫向或縱向寬度可等于或小于透明導電膜型電磁波屏蔽層的橫向或縱向寬度。優(yōu)選地，本發(fā)明的PDP膜可具有在透明基板上層壓透明導電膜型電磁波屏蔽層和抗反射層的結構。具體而言，PDP膜可通過在透明基板上層壓透明導電膜型電磁波屏蔽層，然后在透明導電膜型電磁波屏蔽層上層壓抗反射層形成。此外，PDP膜可具有在透明基板的各表面層壓透明導電膜型電磁波屏蔽層和抗反射層的結構。優(yōu)選抗反射層沉積在向PDP應用PDP濾光片時應用外部光的外表面。抗反射膜或抗反射層位于PDP濾光片的最前表面以防止外部入射光的反射，從而增加對比度。根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，在具有包括透明導電膜型電磁波屏蔽層和一層或多層其它功能層的層壓結構的PDP濾光片中，與其它功能層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的四個邊緣部分不被暴露。而且，本發(fā)明提供了一種制備PDP濾光片的方法，包括將透明導電膜型電磁波屏蔽膜纏繞成巻，然后將該透明導電膜型電磁波屏蔽膜的巻裝在第一進料輥上；將除透明導電膜型電磁波屏蔽膜外的功能膜纏繞成巻，然后將該功能膜的巻裝在于第一進料輥隔開的第二進料輥上；以及在位于第一進料輥和第二進料輥隔開的位置提供彼此緊密面對的第一壓縮輥和第二壓縮輥，然后將來自第一進料輥的透明導電膜型電磁波屏蔽膜和來自第二進料輥的功能膜在第一壓縮輥和第二壓縮輥之間通過，從而制得通過熱或壓力整合的膜；以及切割整合的膜使得與功能膜接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽膜表面的至少兩個邊緣部分不被外部暴露。在通過上述方法制備的PDP濾光片中，將通過巻帶式工藝制得的巻膜切割成需要的尺寸，因此，在透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的四個邊緣部分中，對應于切割部分的兩個邊纟彖部分不纟皮暴露在PDP濾光片的層壓結構外。根據(jù)電磁波屏蔽膜上層壓的其它功能膜的位置，透明導電膜型電磁波屏蔽膜表面的邊緣部分可暴露或不暴露。因此，功能膜的寬度不特別受到限制。在本發(fā)明中，透明導電膜型電磁波屏蔽膜的寬度等于或大于功能膜的寬度。此外，本發(fā)明提供了一種PDP濾光片，所述PDP濾光片包括透明基板、包括在透明基板上交替層壓的高折射透明薄膜層和金屬薄膜層以及在交替層壓層的最上表面提供了高折射透明薄膜層的透明導電膜型電磁波屏蔽層，和位于高折射透明薄膜層的最上面的低折射透明薄膜層，其中與低折射透明薄膜層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的至少兩個邊緣部分不被外部暴露，以及提供了一種制備這種PDP 濾光片的方法。在本發(fā)明中，基于即使其不被暴露或不接地也能使透明導電膜型電磁波屏蔽層表現(xiàn)電磁波屏蔽作用的性質，在透明導電膜型電磁波屏蔽層上形成低折射透明薄膜層。低折射透明薄膜層與透明導電膜型電磁波屏蔽層的最上面的高折射透明薄膜層一起可作為抗反射層。因此，在透明導電膜型電磁波屏蔽層可只形成低折射透明薄膜層而不使用額外的抗反射層，從而表現(xiàn)出抗反射功能以及電磁波屏蔽功能和近紅外吸收功能。因此，可將本發(fā)明的PDP濾光片制備的輕和薄，并且其制備方法可進一步簡化。如本領域已知，低折射透明薄膜層一般具有低于1.45,并且優(yōu)選 1.2 ~ 1.45的折射率，但本發(fā)明不限于此。通過濺射或真空淀積如Si02 或MgF2的低折射無機層或通過使用如微照相凹板涂敷(microgravure coating)或浸涂的濕涂法涂敷氟化高聚物膜或包括基于氟的低折射單體和具有優(yōu)良涂敷性的丙烯酸單體的共聚物形成低折射透明薄膜層。在本發(fā)明中，PDP濾光片在透明基板和高折射透明薄膜層的最下層之間可進一步包括硬涂層以增加耐劃性和表面硬度。一般以輻射固化型或曱硅烷型形成硬涂層。具體而言，優(yōu)選輻射固化型涂層，以及更優(yōu)選UV固化型硬涂層。用于形成硬涂層的UV固化型組合物包括由聚氨酯-丙烯酸酯、環(huán)氧-丙烯酸酯、聚酯-丙烯酸酯等形成的UV可固化組合物。通過在透明基板上涂敷用于硬涂層的組合物，然后通過熱或輻射 (例如，UV光)固化組合物可以形成硬涂層，但是本發(fā)明不限于此，并且可以使用本領域已知的一般方法。硬涂層的厚度不受到特別限制但是優(yōu)選約1-5 □。
在本發(fā)明中，PDP濾光片可在形成有電-磁波屏蔽層的透明基板的另一表面上進一步包括顏色控制層。通過使用巻帶式工藝整合分別制備的顏色控制膜與電磁波屏蔽膜可以形成顏色控制層?？梢允褂谜澈?劑進行整合工藝?？蛇x擇地，當在形成有電磁波屏蔽層的透明基板的另一表面形成粘合劑層時，可以向粘合劑層加入用于顏色控制的有機或無機顏料和/或有才幾或無機染料，從而形成顏色控制層。即使本發(fā)明的PDP濾光片在厚度上不受限制，當包括加強玻璃時其也可具有約3 mm的厚度。本發(fā)明提供了一種包含PDP濾光片的PDP。即使PDP濾光片的透明導電膜型電磁波屏蔽層不接地，本發(fā)明的PDP也可表現(xiàn)電磁波屏蔽功能。下文，參考

本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，但是下述附圖和說明意在說明本發(fā)明，并且不意味著限定本發(fā)明的范圍。圖9為顯示根據(jù)本發(fā)明第一實施方式的PDP濾光片的平面結構的平面圖，以及圖10為顯示圖9的PDP濾光片的橫截面結構的橫截面圖。根據(jù)圖9所示的本發(fā)明的第一實施方式，提供了膜型PDP濾光片 200?？蓪⒛ば蚉DP濾光片粘附在由如用于PDP的玻璃的透明材料形成的透明基板22上，或可以直接粘附在用于PDP的PDP模塊50上。組成圖9的PDP濾光片200的一部分的透明導電膜型電磁波屏蔽膜210 以其表面的左和右邊緣部分被暴露，以及其上和下邊緣部分覆蓋其上沉積的抗反射膜220，從而不被暴露的方式為其結構。由于上述結構，所以可通過巻帶式工藝制備根據(jù)第一實施方式的PDP濾光片200。如圖IO的橫截面結構中，將電磁波屏蔽層214置于約100 □厚的如PET膜的透明聚合物樹脂膜213上。這樣，將透明導電膜型電磁波屏蔽層214和透明聚合物樹脂膜213稱為透明導電膜型電磁波屏蔽膜210。透明導電膜型電磁波屏蔽層214為包含一層或多層高折射透明薄膜層和交替層壓的一層或多層金屬薄膜層的多層薄膜結構。使用濺射法可形成這種多層薄膜。圖9或10的透明導電膜型電磁波屏蔽膜210不需暴露在PDP濾光片外，因此其不需要常規(guī)的銀印刷工藝或使用導電帶。對于本發(fā)明的透明導電膜型電磁波屏蔽膜210，未暴露表面的整個區(qū)域可形成有效的屏幕部分。圖9和10的PDP濾光片具有設置在最接近使用者觀看PDP，即在應用外部光的濾光片的最外表面的位置的抗反射膜200。對于圖9和10的PDP濾光片200，可通過巻帶式工藝額外粘附顏色控制膜(未顯示)。在使用PSA(壓敏粘合劑)層215作為粘合劑層彼此粘附抗反射膜220和電/f茲波屏蔽膜210的情況下，向粘附層加入R、 G、 B顏色控制染料使得粘附層可作為顏色控制層。然而，顏色控制層不僅僅可在圖中所示的位置形成，如果需要可在任何位置形成。如此制備的PDP濾光片可以粘附在玻璃上從而制備成玻璃型濾光片，或可直接粘附在PDP模塊上用作膜型PDP濾光片。通過圖11輥的排列和圖12的流程圖說明了制備圖9和10的PDP 濾光片200的方法。將透明導電膜型電磁波屏蔽膜210纏繞成巻，然后將纏繞巻230 裝到第一進料輥250上(步驟Sl)。分別地，將功能膜，例如，抗反射膜220纏繞成巻，然后將這個纏繞巻240裝到與第一進料輥250隔開的第二進料輥260上(步驟S2)。這樣，優(yōu)選功能膜的寬度等于或小于透明導電膜型電磁波屏蔽膜210的寬度。在根據(jù)第一實施方式的PDP 濾光片中，透明導電膜型電磁波屏蔽膜的寬度大于抗反射膜的寬度，
并且將抗反射膜置于電磁波屏蔽膜的中央，使得電磁波屏蔽膜的兩個邊緣部分一皮暴露。
然后，在第一進料輥250和第二進料輥260隔開的位置，安裝彼此緊密面對的第一壓縮輥270和第二壓縮輥280。隨后，將來自第一進料輥250的透明導電膜型電磁波屏蔽膜210和來自第二進料輥260的抗反射膜220在第一壓縮輥270和第二壓縮輥280之間通過，以通過熱或壓力整合它們，從而制備膜(步驟S3)。將通過步驟Sl至S3整合的PDP濾光片290制備成一個纏繞巻，然后將PDP濾光片290切割成預定尺寸，從而在將其粘附在玻璃或PDP才莫塊(步驟S4)前完成膜型 PDP濾光片。在這種情況下，用如抗反射膜的功能膜覆蓋對應于切割膜部分的透明導電膜型電磁波屏蔽膜，因而不被外部暴露。
在包括上述步驟的巻帶式工藝中，使用通過第一壓縮輥270和第二壓縮輥280的外部加熱或通過第一壓縮輥270和第二壓縮輥280的壓力通過融合可以實現(xiàn)兩層膜210、 220的整合。通過第一壓縮輥和第二壓縮輥的至少一個可以施加外部加熱。
此外，將壓敏粘合劑預先涂敷到第一和第二壓縮輥270、 280的兩層膜210、 220的內(nèi)表面，然后通過第一壓縮輥270和第二壓縮輥280 施加壓力，從而整合兩層膜210、 220。這樣，當使用壓壽丈粘合劑時，如圖10所示形成粘合劑層215。
此外，使用熱熔樹脂可以實現(xiàn)兩層膜的整合。具體地，將熱熔樹脂預先涂敷到功能膜彼此接觸的部分。當將功能膜加到壓縮輥時，通過第一壓縮輥270和第二壓縮輥280的至少一個施加熱，乂人而在熱熔樹脂熔化時整合膜。這種熱熔樹脂一般以EVA (乙烯乙酸乙烯酯)樹脂為例，但是本發(fā)明不限于此。作為熱熔樹脂，只要其可保持包括透明導電膜型電磁波屏蔽膜的各功能膜的穩(wěn)定的粘合狀態(tài)，可以使用任何
聚合物樹脂。為了使用熱熔樹脂，在熱壓縮時，優(yōu)選第一壓縮輥270和第二壓縮輥280的至少一個的溫度保持在100~200°C。圖13為顯示優(yōu)選的第二實施方式的PDP濾光片200的橫截面結構的橫截面圖，以及圖14為同時顯示根據(jù)本發(fā)明第二實施方式的PDP 濾光片的平面結構和側面結構的透一見圖。如圖13和14所示，根據(jù)第二實施方式的PDP濾光片300的特征在于，構成PDP濾光片300的功能膜的尺寸具有相同尺寸，并且與其它功能膜接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽膜310表面的四個邊緣部分都不被暴露。根據(jù)本發(fā)明透明導電膜型電磁波屏蔽膜的至少兩個邊緣部分不被暴露在PDP膜層壓結構的外部的觀點，在第二實施方式中電磁波屏蔽膜最低限度地暴露。如圖13和14所示，根據(jù)本發(fā)明的第二實施方式，透明導電膜型電磁波屏蔽膜310和抗反射膜320形成為正好相同的尺寸，因此其整個表面可作為有效屏幕部分。與圖9和IO所示的第一實施方式相同，第二實施方式的PDP濾光片300由包括約100 口厚的PET321和其上應用的AR(抗反射)層的抗反射膜320、包括約100 口厚的PET311和其上設置的透明導電膜型電磁波屏蔽層312的透明導電膜型電磁波屏蔽膜310以及其間形成的作為粘合劑層的PSA層330組成。通過濺射法可形成透明導電膜型電磁波屏蔽層312。如第一實施方式所述，在第二實施方式中，通過熱熔樹脂的熱融而且，與圖9和10的第一實施方式相同，在圖13和14的第二實施方式中，通過額外地粘附顏色控制膜，或通過向用于粘附兩層膜的 PSA層330加入R、 G、 B染料可形成顏色控制層。
除了電磁波屏蔽層的寬度等于抗反射層的寬度從而不暴露電磁波屏蔽膜表面的邊緣部分外，如第一實施方式，使用巻帶式工藝可以制備第二實施方式的PDP濾光片。圖15為顯示#4居本發(fā)明的第三實施方式的PDP濾光片的^f黃截面圖。在第一和第二實施方式中，使用巻帶式工藝粘附抗反射膜和透明導電膜型電磁波屏蔽膜以制備PDP濾光片，而在第三實施方式中，在透明導電膜型電磁波屏蔽膜的最上表面涂敷抗反射層，從而制備單一膜型PDP濾光片。使用濺射或真空淀積法，通過交替層壓如ITO (氧化銦錫)、Ti02 或Zr02層的高折射無機層和如SiCb或MgF2層的低折射無機層，優(yōu)選層壓至4層或更多層，或通過濕涂法形成低折射氟化聚合物膜，從而形成抗反射層而形成根據(jù)第三實施方式的抗反射層，此外，通過真空淀積或賊射在基板上涂敷主要由ITO組成的高折射材料，然后通過濕涂將主要由基于氟的樹脂組成的低折射材料涂敷在高折射材料層上，從而形成抗反射層。然而，本發(fā)明不限于形成抗反射層的上述方法。在濕涂時，可以使用向涂敷組合物中加入顆粒的方法以通過分散光改善抗反射功能。在本發(fā)明中，不需要暴露透明導電膜型電磁波屏蔽膜的邊緣部分。因此，對于在如在第三實施方式中通過涂敷法在透明導電膜型電磁波屏蔽膜410上形成抗反射層的情況，無論哪個部分，都可均勻地涂敷電磁波屏蔽膜410的整個上表面。本發(fā)明中可采用上述方法，因此，與常規(guī)技術相比，在透明導電膜型電磁波屏蔽膜410上形成抗反射層 422的工藝可更容易和簡單地實行。此外，工藝的數(shù)目可大大降低。圖16為顯示根據(jù)本發(fā)明第四實施方式的PDP濾光片的橫截面圖。雖然通過涂敷方法在透明導電膜型電磁波屏蔽膜410上形成抗反射層
422制備了根據(jù)第三實施方式的PDP濾光片，但是在第四實施方式中，使用共同的單一透明基板511，并且分別在基板的上表面和下表面形成抗反射層522和透明導電膜型電》茲波屏蔽層512。分別在透明基板511的上和下表面通過形成抗反射層522和透明導電膜型電;茲波屏蔽層512可以制備第四實施方式的PDP濾光片。即，第四實施方式的PDP濾光片以下述方式制備，在透明基板511上形成透明導電膜型電磁波屏蔽層512以制備透明導電膜型電磁波屏蔽膜 510，然后將透明導電膜型電磁波屏蔽膜翻轉并將抗反射層522涂敷在透明基板的另一表面。在第四實施方式中，用于透明基板的材料、用于透明導電膜型電》茲波屏蔽膜和抗反射層的材料、其形成工藝以及加入顏色控制功能與上述實施方式相同。在本發(fā)明中，不需要暴露透明導電膜型電磁波屏蔽膜的邊緣部分。因此，如第三實施方式，在第四實施方式中，將透明導電膜型電磁波屏蔽膜510的無論哪一部分的整個表面均勻涂敷抗反射層522。從而，可以容易地進行用于形成抗反射層522的涂敷過程。此外， -使用這種涂敷法使得PDP濾光片500的結構簡單、其制備方法更簡單、縮短了制備時間和降低了制備成本。圖17為顯示根據(jù)本發(fā)明第五實施方式的PDP濾光片的橫截面圖。圖17顯示了低折射透明薄膜層640進一步層壓在透明導電膜型電磁波屏蔽膜610的最上高折射透明薄膜層624上的結構。在根據(jù)第五實施方式的透明導電膜型電磁波屏蔽膜610中，在透明基板611上首先形成硬涂層660以改善耐劃性和表面硬度。在透明基板611上形成的硬涂層660上，交替層壓由ITO、 SnO 等形成的高折射透明薄膜層621、 622、 623和由具有相對低折射率的
如金、銀、銅、鎳或鋁的金屬形成的金屬薄膜層631、 632、 633，然后進一步層壓高折射透明薄膜層624作為最上層。作為透明基板611， -使用具有30- 150 □,且優(yōu)選70- 120 口的厚度的塑料基板。塑料基板中使用的膜由聚酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂、基于氟的樹脂、三醋酸酯樹脂或其混合物形成。特別地，當透明基板粘附在如玻璃板的面板上時，可以優(yōu)選使用聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二曱酸乙二醇酯。通過使用銀或銀合金作為主要靶、氬(真空0.3 pa)作為濺射氣體以及氧作為反應氣體，其中氬的量為約200 sccm以及氧的量為約120 sccm可以形成金屬薄膜層631、 632、 633。對于各金屬薄膜層631、 632、 633沉積為比9nm薄的情況，其可由銀顆粒的聚沉而引起斷裂，因此，優(yōu)選形成具有9 nm或更大，以及優(yōu)選約10 ~ 20 nm的厚度。層壓高折射透明薄膜層621、 622、 623、 624以用作隔離層用于防止各金屬薄膜層通過金屬薄膜層631、 632、 633濺射產(chǎn)生的氧等離子體的氧化。高折射透明薄膜層由如ITO、 IZO、 ATO、 ZnO、 ZnO-Al、 1102或Nb203的氧化物，或銦、鈥、鋯、錫、鋅、銻、4旦、4巿、釷、鎂或鉀的氧化物形成。在形成氧化物的過程中，為了防止由氧等離子體對金屬薄膜層的損傷，可提供如Si3N4的氮化物作為隔離層。根據(jù)圖17中所示的第五實施方式，除了透明基板611和硬涂層660 外，高折射透明薄膜層和金屬薄膜層的數(shù)目為7。然而，只要PDP濾光片具有滿足所有國家中要求作為工業(yè)安全標準的A類(2.5 Q或更低的表面電阻)或作為民用安全標準的B類(1.5 Q或更低的表面電阻)要求的表面電阻，高折射透明薄膜層和金屬薄膜層的數(shù)目不限于7，且可以小于7或大于7。在組成透明導電膜型電磁波屏蔽膜610的層壓結構的最上表面，必需沉積高折射透明薄膜層624作為隔離層以防止金屬薄膜層的氧化。這是因為最上高折射透明薄膜層624與其上層壓的低折射透明薄膜層640組成了抗反射層622。通過賊射或真空淀積由Si02、 MgF2等制成的低折射無才幾層或通過使用如微照相凹板涂敷或浸涂的濕涂法通過涂敷氟化聚合物膜或包含基于氟的低折射單體和具有優(yōu)良涂敷性的丙烯酸單體的共聚物可形成低折射透明薄膜層640。對于低折射透明薄膜層640的濕涂，下文舉例說明了合成基于氟的低折射單體的方法。向1.0 ~ 1.2 mol曱基丙烯酸縮水甘油酯中加入1.0~ 1.5 mol如六氟丙醇或六氟丁醇的含氟化合物和四氫呋喃溶劑，在氟化四丁銨(TBAF) 催化劑存在下于預定溫度回流預定時間，然后傾倒到曱醇中以回收單體。所得到的反應產(chǎn)量一般為90%。因為單獨使用基于氟的低折射單體具有如低粘合性、在有機溶劑中的低溶解性和較差的涂敷性能的缺點，優(yōu)選其與具有涂覆性的丙烯酸單體共聚。丙烯酸單體的例子包括典型的丙烯酸單體，例如曱基丙烯酸曱酯、甲基丙烯酸乙酯、曱基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、曱基丙烯酸正丁基曱酯、丙烯酸、曱基丙烯酸、羥基丙烯酸酯、丙烯酰胺或羥曱基丙烯酸酯?；诜牡驼凵鋯误w與丙烯酸單體的共聚比優(yōu)選為9:1 ~ 7:3。如果共聚比超過9:1，則基于氟的低折射單體的量增加，因此共聚物的折射率非常低并且涂敷性能劣化。另一方面，如果該比值小于7:3，因為丙烯酸單體的高比例，所以涂敷性、硬度和溶劑中的溶解性良好，但是由于1.45或更高的折射率，所以不能獲得需要的抗反射效果。通過一般的自由基聚合，并且優(yōu)選通過使用四氫呋喃作為溶劑的熱聚合實現(xiàn)基于氟的低折射單體和丙烯酸單體的聚合?；?00重量份的可聚合單體，優(yōu)選以1~10重量份的量使用引發(fā)劑。所得到的聚合物的折射率一般為1.40或更低。所得到的低折射透明薄膜層的厚度為200 nm或更j氐，并且優(yōu)選70 ~ 150腿以保i正透光性。可以用一般的有機溶劑如曱苯、二曱苯、甲基.乙基酮、曱基異丁基酮等稀釋用于形成低折射透明薄膜層的涂敷溶液。稀釋的溶液優(yōu) 選具有10%或更低的固含量，并且更優(yōu)選0.1 ~5%的固含量。如果固含量低于0.1%,不可能形成自身涂敷膜，從而難于形成涂敷層。另一方面，如果固體含量超過5%，使用本領域已知的任何涂敷方法，都難于形成幾百nm厚度的涂敷膜。如此形成的低折射透明薄膜層640與其下形成的高折射透明薄膜層624—起可作為抗反射層622。即，通過只粘附一層而不是功能上重疊的層，且不需要額外粘附抗反射膜，本發(fā)明的PDP濾光片600可表現(xiàn)抗反射功能，以及電磁波屏蔽功能。因此，形成的PDP層壓結構更輕和更薄，并且其制備方法可進一步簡化。使用巻帶式工藝可以將根據(jù)本發(fā)明第五實施方式的PDP濾光片與額外的功能層整合。圖18為顯示根據(jù)本發(fā)明第六實施方式的PDP濾光片的橫截面圖。使用巻帶式工藝，通過在圖17的4艮據(jù)本發(fā)明的第五實施方式的PDP 濾光片610的下表面粘附顏色控制膜750形成圖18的PDP濾光片，從而從上側以如下順序功能性地包括抗反射層722、透明導電膜型電磁波屏蔽膜710以及顏色控制膜750。此外，在電;茲波屏蔽膜710和顏色控制膜750之間設置粘合劑層730用于粘附兩層膜。
通過在透明基板(未顯示)上以膜的形式層壓包含具有顏色控制功能的有機或無機顏料和/或有機或無機染料的聚合物材料，或使用涂敷材料可以形成顏色控制膜750。用預先涂敷在兩層膜710、 750的內(nèi)表面的粘合劑形成粘合劑層730 從而在巻帶式工藝中將兩層膜710、 750整合時通過外部壓力或加熱粘合在一起。這樣，粘合劑的例子一般包括橡膠、丙烯?；?、硅氧烷等。特別是，在具有使其適合用于制備具有高功能性的粘合劑組合物的多種用途性質的丙烯酸粘合劑中，使用烷基作為其官能團，從而防止了由電磁波屏蔽膜的金屬薄膜層在高溫和高濕度條件下氧化引起的顏色的變化。具體而言，丙烯酸粘合劑包括100重量^^的丙烯酸共聚物以及 0.01-10重量份的基于多官能團異氰酸酯的交聯(lián)劑，所述丙烯酸共聚物包含90 ~ 99.9重量份的具有CI ~ C12烷基的(曱基)丙烯酸酯單體、 0.1 ~ 10重量份的具有羥基的乙烯單體?；?00重量份的丙烯酸共聚物，當以低于90重量份的量使用具有CI ~ C12烷基的(甲基)丙烯酸酯單體時，其不利之處在于最初的粘合性能劣化并且成本增加。優(yōu)選地，以94 ~ 99.9重量份的量使用上述單體。根據(jù)圖18的第六實施方式，在最簡單的整合膜結構上可以巻帶式層壓顏色控制膜750以表現(xiàn)抗反射功能和電磁波屏蔽功能。如此制備的PDP濾光片為膜型，并且可以無玻璃的半成品巻形式制備，并且一旦將半成品制品層壓在^皮璃上即成為成品。圖19為顯示根據(jù)本發(fā)明第七實施方式的PDP濾光片的橫截面圖。在圖19的PDP濾光片中，不額外使用顏色控制膜，使用粘合劑將包含具有顏色控制功能的有機或無機顏料和/或有機或無機染料的聚合物材料加入到粘合劑層830中，需要在如玻璃基板或模塊的透明基板850
的整個表面上將粘合劑層830整合粘附到能表現(xiàn)抗反射功能和電磁波屏蔽功能的單一膜上，從而形成顏色控制層。
當采用如此結構的PDP濾光片時，降低了 PDP濾光片的層壓層和
制備工藝的凄t目。
實施方式
通過下述用于說明的的實施例能夠更好地理解本發(fā)明，但其不解釋為對本發(fā)明的限制。
實施例1
使用壓敏粘合劑，在從Bekaert購得的透明導電膜型電磁波屏蔽膜 [可見光透射比60-65%,表面電阻〈1.8Q/口]上粘附從日本的NOF公司購得的抗反射膜(商品名7702UV)。將如此制備的整合膜切割成97 cm><56 cm的大尺寸，從而制備電磁波屏蔽層表面的邊緣部分不被暴露的PDP濾光片。
對比例1
使用壓敏粘合劑，在從Bekaert購得的尺寸為100cm x 60cm的透明導電膜型電磁波屏蔽膜[可見光透射比60-65%，表面電阻〈.8Q/ 口]的中心上粘附從日本的NOF公司購得的具有92 cm x 52 cm尺寸的抗反射膜(商品名7702UV)。在如此制備的PDP濾光片中，使用屏幕印刷法(從Acheson購得的銀膏479SS),將電磁波屏蔽膜的所有暴露的邊緣部分銀印刷至2 cm的寬度。
乂于比例2
除了電磁波屏蔽膜的所有暴露的邊緣部分粘附2 cm寬的導電帶 (從AMIC購得的DK-102)代替使用銀印刷法外，與對比例1相同的方式制備PDP濾光片。
進行了用于確定垂直于或平行于實施例1和對比例1和2制備的
各PDP濾光片的前表面的電磁波屏蔽的試驗。圖20和21給出了實施例1的結果，圖22和23給出了對比例1的結果，以及圖24和25給出了對比例2的結果。
作為參考，當頻率降低時，電磁波通過如電源線或信號線的導體強烈地導電，而當頻率升高時，其強烈地輻射到空間。因此測試了具有30MHz或更高范圍的PDP電磁波的電磁波噪聲輻射的抑制水平。
在除底部表面的所有墻表面由波吸收材料和金屬板制備的半無回聲室內(nèi)進行電磁波的測試。在一般的場強計中，場強計使用了用于測試電磁波的偶極天線、LISN (線路阻抗穩(wěn)定網(wǎng)絡)電路或吸收鉗。
這樣，因為場強計可用與作為用于測定脈沖噪聲的短波濾波器的高斯濾波器相比，具有降低了 6dB的峰值振幅的短波濾波器等同替代，所以在帶寬設定在減小6 dB或更低的峰值振幅的狀態(tài)下在頻帶30 MHz 1 GHz觀寸定^7 雖。
在這種情況下，使用具有準峰值的驗波器。根據(jù)用于如PDP的數(shù) 字裝置的關于電磁波的FCC國際標準的B類的測定標準，在與PDP 濾光片隔開3 m的位置使用場強計測定電磁波。
圖20~25中代表B類的粗實線表示由FCC國際標準設定的從數(shù) 字裝置發(fā)出的電磁波的最大指標。
如圖20和21所示，具有電磁波屏蔽膜而沒有接地部分的實施例1 的PDP濾光片沒有超過從PDP實際發(fā)出的電磁波中的B類指標，從而滿足了國際標準。
比較圖20和21與圖22 ~ 25，可以看到實施例1的具有電磁波屏蔽膜而沒有接地部分的PDP濾光片顯示出與對比例1和2的具有接地部分的電磁波屏蔽膜的常規(guī)PDP濾光片非常相似的場強波形式。
結果，對于使用形成具有電》茲波屏蔽層而沒有接地部分的PDP濾光片的方法的情況下，與使用具有接地部分的電磁波屏蔽膜的常規(guī)技術相比，可更容易地和簡單地制備所述PDP濾光片。而且，可以達到
與常規(guī)PDP濾光片等同的電磁波屏蔽效果。
工業(yè)實用性
根據(jù)本發(fā)明，可不同地形成PDP濾光片的層壓結構，以及在制備 PDP濾光片時，可以應用如巻帶式工藝的連續(xù)制備工藝，從而實現(xiàn)PDP 濾光片的大量生產(chǎn)和高生產(chǎn)力。另外，可以將需要透明導電膜型電磁波屏蔽層的結構的部分功能相同的結構的功能層形成為單一結構，從而能簡單制備多功能PDP濾光片。
權利要求
1、一種PDP濾光片，具有包含透明導電膜型電磁波屏蔽層和一層或多層其它功能層的層壓結構，其中與功能層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的至少兩個邊緣部分不暴露在所述PDP濾光片的層壓結構的外部。
2、根據(jù)權利要求1所述的PDP濾光片，其中，與功能層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的四個邊緣部分都不被暴露。
3、根據(jù)權利要求1所述的PDP濾光片，其中，所述的其它功能層為選自包括抗反射層、近紅外吸收層和顏色控制層的組的層，或為能表現(xiàn)出所述層的功能中的兩個或更多個功能的層。
4、根據(jù)權利要求1所述的PDP濾光片，其中，所述的其它功能層為抗反射層。
5、根據(jù)權利要求4所述的PDP濾光片，其中，所述的抗反射層置于施加外部光的層壓結構的最上表面。
6、根據(jù)權利要求1所述的PDP濾光片，其中，接觸電磁波屏蔽層的其它功能層的一個寬度等于或小于電磁波屏蔽層對應的寬度。
7、根據(jù)權利要求1所述的PDP濾光片，其中，所述的透明導電膜型電磁波屏蔽層包括交替層壓的一層或多層高折射透明薄膜層和一層或多層金屬薄膜層，并且在交替層壓層的最上表面提供高折射透明薄膜層。
8、根據(jù)權利要求7所述的PDP濾光片，其中，所述的高折射透明薄膜層由選自包括ITO、 IZO、 ATO、 ZnO、 ZnO-Al、 Ti02、 Nb203、 SnO、氧化銦、氧化4i^、氧化^l告、氧化錫、氧化鋅、氧化銻、氧化鉭、氧化鈰、氧化釷、氧化鎂、氧化鉀和Si3N4的組的至少一種形成。
9、根據(jù)權利要求7所述的PDP濾光片，其中，所述的金屬薄膜層由選自包括金、銀、銅、鎳和鋁的組的至少一種形成。
10、根據(jù)權利要求1所述的PDP濾光片，其中，所述的電磁波屏蔽層和其它功能層通過使用巻帶式工藝的粘合進行層壓。
11、根據(jù)權利要求10所述的PDP濾光片，在所述的電磁波屏蔽層和與電磁波屏蔽層接觸的其它功能層之間，進一步包含壓敏粘合劑層或熱熔樹脂層。
12、根據(jù)權利要求1所述的PDP濾光片，其中，通過使用涂敷法在電磁波屏蔽層上形成其它功能層。
13、根據(jù)權利要求1所述的PDP濾光片，進一步包含顏色控制層。
14、根據(jù)權利要求13所述的PDP濾光片，其中，通過向內(nèi)層粘合劑層加入顏料或染料形成顏色控制層。
15、根據(jù)權利要求13所述的PDP濾光片，其中，使用巻帶式工藝將顏色控制層粘附在PDP濾光片上形成顏色控制層。
16、一種制備PDP濾光片的方法，包括將透明導電膜型電^t波屏蔽膜纏繞成一個巻，然后將該透明導電膜型電磁波屏蔽膜的巻裝到第一進料輥上；將除透明導電膜型電磁波屏蔽膜外的功能膜纏繞成巻，然后將該功能膜的巻裝到與第一進料輥隔開的第二進料輥上；在與第一進料輥和第二進料輥隔開的位置，提供彼此緊密面對的第一壓縮輥和第二壓縮輥，然后將來自第一進料輥的透明導電膜型電磁波屏蔽膜和來自第二進料輥的功能膜在第一壓縮輥和第二壓縮輥之間通過，從而制得通過熱或壓力整合的膜；以及切割該整合的膜使得與功能膜接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽膜表面的至少兩個邊緣部分不暴露。
17、根據(jù)權利要求16所述的方法，其中，所述電磁波屏蔽膜的寬度等于或大于功能膜的寬度。
18、一種制備PDP濾光片的方法，包括使用涂敷過程在透明導電膜型電磁波屏蔽層的上表面、下表面或兩個表面形成一層或多層其它功能層，其中，進行涂敷過程使得透明導電膜型電磁波屏蔽膜涂敷表面的至少兩個邊緣部分不被暴露。
19、根據(jù)權利要求18所述的方法，其中，在電磁波屏蔽膜的涂敷表面的整個表面進行涂敷過程從而使電磁波屏蔽膜的所有邊緣部分不被暴露。
20、一種PDP濾光片，包括透明基板、包括在透明基板上交替層壓的高折射透明薄膜層和金屬薄膜層和在交替層壓層最上表面上提供的高折射透明薄膜層的透明導電膜型電磁波屏蔽層，以及在高折射透明薄膜層的最上層形成的低折射透明薄膜層，其中與低折射透明薄膜層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的至少兩個邊緣部分不暴膝。
21、根據(jù)權利要求20所述的PDP濾光片，其中，所述的高折射透明薄膜層由選自包括ITO、 IZO、 ATO、 ZnO、 ZnO-Al、 Ti02、 Nb203、 SnO、氧化銦、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化鋅、氧化銻、氧化鉭、氧化鈰、氧化釷、氧化4美、氧化鉀和Si3N4的組的至少一種形成。
22、根據(jù)權利要求20所述的PDP濾光片，其中，所述的金屬薄膜層由選自包括金、4艮、銅、鎳和鋁的組的至少一種形成。
23、根據(jù)權利要求20所述的PDP濾光片，其中，所述的低折射透明薄膜層通過濺射或真空淀積低折射無機層形成。
24、根據(jù)權利要求20所述的PDP濾光片，其中，低折射透明薄膜層通過微照相凹板涂敷或濕涂包括基于氟的低折射單體和丙烯酸單體的共聚物或氟化聚合物形成。
25、根據(jù)權利要求20所述的PDP濾光片，在透明基板和透明導電膜型電磁波屏蔽層的最低高折射透明薄膜層之間進一步包括硬涂層。
26、根據(jù)權利要求25所述的PDP濾光片，其中，所述的硬涂層由包括聚氨酯-丙烯酸酯、環(huán)氧-丙烯酸酯或聚酯-丙烯酸酯的UV固化組合物形成。
27、根據(jù)權利要求20所述的PDP濾光片，進一步包括顏色控制層。
28、根據(jù)權利要求27所述的PDP濾光片，其中，顏色控制層通過向內(nèi)層粘合劑層加入顏料或染料形成。
29、根據(jù)權利要求27所述的PDP濾光片，其中，顏色控制層通過使用巻帶式工藝向PDP濾光片粘附顏色控制膜形成。
30、一種制備PDP濾光片的方法，包括在透明基板上交替層壓高折射透明薄膜層和金屬薄膜層，以及在交替層壓層的最上表面提供高折射透明薄膜層，從而形成透明導電膜型電磁波屏蔽層；以及在高折射透明薄膜層的最上層形成低折射透明薄膜層，其中與低折射透明薄膜層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的至少兩個邊緣部分不被暴露。
31 、一種PDP,包括權利要求1 ~ 15和權利要求20 ~ 29任一項所述的PDP濾光片。
32、根據(jù)權利要求31所述的PDP，其中，所述的PDP濾光片通過玻璃基板粘附到PDP上。
33、根據(jù)權利要求31所述的PDP,其中，所述的PDP濾光片直接粘附到PDP模塊上。
34、根據(jù)權利要求31所述的PDP,其中，所述的PDP濾光片的透明導電膜型電磁波屏蔽層不電接地。
全文摘要
本發(fā)明披露了一種PDP濾光片，所述PDP濾光片具有透明導電膜型電磁波屏蔽層和一層或多層功能層的層壓結構，其中與功能層接觸的透明導電膜型電磁波屏蔽層表面的至少兩個邊緣部分不暴露在PDP濾光片層壓結構的外部。
文檔編號H01J17/49GK101107692SQ200680002970
公開日2008年1月16日申請日期2006年3月3日優(yōu)先權日2005年3月4日
發(fā)明者崔玹碩, 樸相炫, 李東郁, 李修林, 李淵權, 金承旭, 金正斗, 黃仁晳申請人:Lg化學株式會社

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