專利名稱：一種面積增大型吸氣片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種面積增大型吸氣片，其吸氣基片表面陳列著直徑為
O.5^1. 5mm的半圓柱，其中心間距為疒3 mm，這種設(shè)計(jì)大大增加了吸氣片與活性氣體之間的接觸面積，從而增加了吸氣的效率，而且這種吸氣片在吸收氣體之后無(wú)粉化現(xiàn)象。
背景技術(shù)：
隨著科學(xué)技術(shù)的迅速發(fā)展，需要的真空條件越來(lái)越高尤其是在航空航天領(lǐng)域。發(fā)明一種吸氣效率高且機(jī)械性能穩(wěn)固的吸氣材料來(lái)適應(yīng)太空復(fù)雜多變的環(huán)境已經(jīng)刻不容緩。吸氣材料的主要作用是吸掉真空電子器件尤其是去離子真空管在機(jī)械排氣之中或之后所保留的殘余氣體，提高管內(nèi)的真空度，以保證良好的真空狀態(tài)，確保器件的正常工作，延長(zhǎng)使用壽命，提高器件的可靠性。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服原產(chǎn)品吸氣效率不高，在振動(dòng)環(huán)境下容易碎化的缺點(diǎn)，提供了一種新的吸氣片的設(shè)計(jì)，其中吸氣基片表面陳列著半圓柱，這個(gè)設(shè)計(jì)使其吸氣面積比原來(lái)平面吸氣材料面積增加了 35-50%，大大增加其吸氣速率；吸氣材料制備工藝的改進(jìn)使其強(qiáng)度增大，吸氣后無(wú)粉化現(xiàn)象。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種面積增大型吸氣片，該吸氣片由吸氣基片(I)、定位孔(2)和半圓柱(3)組成，其特征在于吸氣基片(I)是外徑為15(Tl65mm、內(nèi)徑為8(T90mm及厚度為2 3mm的純鈦圓環(huán)，純鈦圓環(huán)是純Ti粉經(jīng)過(guò)粉末冶金制成的具有多孔結(jié)構(gòu)的圓環(huán)形鈦板；吸氣基片(I)上平行排列著直徑為O. 5" . 5mm的半圓柱體,相鄰半圓柱中心間距為2 3mm，半圓柱為純Ti粉經(jīng)過(guò)粉末冶金制成，并且具有多孔結(jié)構(gòu)；吸氣基片(I)上有3個(gè)定位孔(2)。根據(jù)權(quán)利要求I所述的面積增大型吸氣片，其特征在于所述的定位孔(2)，以吸氣基片(I)圓環(huán)圓心為頂點(diǎn)，孔與孔之間的夾角為120°。吸氣基片是純Ti粉經(jīng)過(guò)粉末冶金制成的環(huán)形鈦板，環(huán)形鈦板為多孔結(jié)構(gòu)。它對(duì)空氣和大多數(shù)其它氣體都具有較高的活性，能夠吸收除惰性氣體之外的多種氣體，包括02、C02、C0、N2、H20和H2等。相比于原產(chǎn)品，我們通過(guò)改變制備過(guò)程的工藝變化，使新產(chǎn)品的強(qiáng)度提高，吸氣后不出現(xiàn)粉化現(xiàn)象；新產(chǎn)品激活溫度適度，能在室溫下工作，強(qiáng)度高。其表面的新穎設(shè)計(jì)大大增加了材料與氣體之間的接觸面積，提高了對(duì)活性氣體的吸氣速率，這是本實(shí)用新型的關(guān)鍵所在。

圖I為本實(shí)用新型吸氣片俯視示意圖。圖2為圖I中沿A-A方向的剖視示意圖。其中1、吸氣基片，2、定位孔,3、半圓柱。
具體實(shí)施方式
結(jié)合附圖說(shuō)明本實(shí)用新型的面積增大型吸氣片的實(shí)施過(guò)程如下吸氣片由吸氣基片I、定位孔2和半圓柱3組成。吸氣基片I和半圓柱3的制備如下將高純度的Ti粉在真空下于90°C烘干2h，將烘干后的Ti粉在Ar氣體保護(hù)條件下裝入高能球磨機(jī)內(nèi)進(jìn)行球磨，時(shí)間不少于24h，將粘結(jié)劑均勻加入經(jīng)上述處理的Ti粉中，將加入粘結(jié)劑的Ti粉在吸氣基片和半圓柱的復(fù)合模具中加壓成形，然后在真空爐中進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)，最終得到吸氣基片和半圓柱的復(fù)合體，吸氣基片和半圓柱經(jīng)過(guò)粉末冶金后具有多孔結(jié)構(gòu)。以吸氣基片I圓環(huán)圓心為頂點(diǎn)，每隔120°鉆I個(gè)內(nèi)徑為3. 2mm的定位孔。吸氣基片I是外徑為160mm、內(nèi)徑為90mm及厚度為2. 5mm的純鈦圓環(huán),吸氣基片I上平行排列著直徑為Imm的半圓柱體，相鄰半圓柱中心間距為2mm，純鈦圓環(huán)是純Ti粉經(jīng)過(guò)粉末冶金制成的具有多孔結(jié)構(gòu)的圓環(huán)形鈦板。 將吸氣片重疊放置，每個(gè)吸氣片之間用3個(gè)圓環(huán)墊片隔開(kāi)，圓環(huán)墊片置于定位孔2上方，圓環(huán)墊片為外徑25mm，內(nèi)徑為3. 2mm厚為Imm的圓環(huán)，其材料為純Ti，與吸氣基片I上的定位孔2配合用來(lái)隔開(kāi)每個(gè)吸氣片。用長(zhǎng)條銷釘穿過(guò)定位孔和圓環(huán)墊片將吸氣片串起形成吸氣片組，將吸氣片組放入不銹鋼裝置并與其底壁固定。該裝置有一個(gè)進(jìn)氣口和一個(gè)出氣口，進(jìn)氣口位于裝置筒體的下部，出氣口位于裝置筒體的上部。裝置蓋上開(kāi)口之后固定，最終得到吸氣裝置。綜上所述，本實(shí)用新型制備工藝、模具設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單，采用本實(shí)用新型吸氣面積比原來(lái)平面吸氣材料面積增加了 35-50%，大大增加其吸氣速率；通過(guò)改進(jìn)制備工藝使其強(qiáng)度增大，吸氣后無(wú)粉化現(xiàn)象。
權(quán)利要求1.一種面積增大型吸氣片，該吸氣片由吸氣基片(I)、定位孔(2)和半圓柱(3)組成，其特征在于吸氣基片(I)是外徑為15(Tl65mm、內(nèi)徑為8(T90mm及厚度為2 3mm的純鈦圓環(huán)，純鈦圓環(huán)是純Ti粉經(jīng)過(guò)粉末冶金制成的具有多孔結(jié)構(gòu)的圓環(huán)形鈦板；吸氣基片(I)上平行排列著直徑為O. 5" . 5mm的半圓柱體,相鄰半圓柱中心間距為2 3mm,半圓柱為純Ti粉經(jīng)過(guò)粉末冶金制成，并且具有多孔結(jié)構(gòu)；吸氣基片(I)上有3個(gè)定位孔(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的面積增大型吸氣片，其特征在于所述的定位孔(2)，以吸氣基片(I)圓環(huán)圓心為頂點(diǎn)，孔與孔之間的夾角為120°。
專利摘要本實(shí)用型新型公開(kāi)了一種面積增大型吸氣片。該吸氣片由吸氣基片(1)、定位孔(2)和半圓柱(3)組成，吸氣基片(1)是外徑為150~165mm、內(nèi)徑為80~90mm及厚度為2~3mm的純鈦圓環(huán)，吸氣基片(1)上平行排列著直徑為0.5~1.5mm的半圓柱體，相鄰半圓柱中心間距為2~3mm，純鈦圓環(huán)和半圓柱為純Ti粉經(jīng)過(guò)粉末冶金制成，并且具有多孔結(jié)構(gòu)；吸氣基片(1)上有3個(gè)定位孔(2)。這些半圓柱大大增加了吸氣片與氣體之間的接觸面積。本實(shí)用新型吸氣速率大，能把吸氣片固定在不銹鋼器件中，機(jī)械性能好，能在振動(dòng)環(huán)境下工作，有利于延長(zhǎng)使用壽命，并且模具設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單，適合大批量生產(chǎn)。
文檔編號(hào)H01J7/18GK202721103SQ20122034422
公開(kāi)日2013年2月6日 申請(qǐng)日期2012年7月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月17日
發(fā)明者張關(guān)昌, 侯雪玲, 向杰, 胡慧敏, 黃健, 劉春雨, 林根文, 徐暉 申請(qǐng)人:上海大學(xué)