一種顆粒材料表面等離子體處理裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種顆粒材料表面等離子體處理裝置，包括外殼、電源、電極組件、震動(dòng)盤和與所述震動(dòng)盤連接的震動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述外殼上方可拆卸設(shè)置有蓋體，所述外殼壁體上設(shè)置有用于反應(yīng)氣體進(jìn)入外殼內(nèi)的氣體入口和用于抽真空的抽氣口，所述外殼內(nèi)設(shè)置有反應(yīng)腔室，所述電極組件設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)并與所述電源連接，所述震動(dòng)盤設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)。本發(fā)明中電極組件通電形成高頻電場(chǎng)將反應(yīng)氣體電離，顆粒材料在高頻電場(chǎng)中進(jìn)行表面處理，并且結(jié)合震動(dòng)盤震動(dòng)，顆粒材料在震動(dòng)下翻轉(zhuǎn)，可實(shí)現(xiàn)均勻處理，處理效果好。
【專利說明】一種顆粒材料表面等離子體處理裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及等離子體處理裝置，尤其涉及一種顆粒材料表面等離子體處理裝置?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]低溫等離子體技術(shù)作為一種新的表面改性手段，能快速、高效、無污染地改善材料的表面性能，賦予新的特征，同時(shí)又不改變材料的本體特點(diǎn)，已經(jīng)越來越被世界各國(guó)的研究人員所重視，等離子體表面處理是利用氣體放電產(chǎn)生的等離子體對(duì)材料表面進(jìn)行物理和化學(xué)反應(yīng)。參與反應(yīng)的有激發(fā)態(tài)粒子、自由基和離子，也包括等離子體輻射紫外線的作用。通過表面反應(yīng)有可能在表面引入特定官能團(tuán)，產(chǎn)生表面活化和刻蝕，形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)或生成表面自由基。這些作用一般不是單一的，往往某種作用為主，幾種作用并存。正是這些作用決定了等離子體表面處理的有效性。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中，通常采用平板電極作為電極組件，材料在電極組件之間進(jìn)行表面處理，待處理材料處于靜止?fàn)顟B(tài)，在針對(duì)顆粒材料，由于顆粒材料的堆積特性，容易造成材料堆積，導(dǎo)致材料處理不均勻，處理效果不理想。
[0004]因此，亟需一種顆粒材料表面等離子體處理裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種顆粒材料表面等離子體處理
>J-U ρ?α裝直。
[0006]實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的`技術(shù)方案是:一種顆粒材料表面等離子體處理裝置，包括外殼、電源、電極組件、震動(dòng)盤和與所述震動(dòng)盤連接的震動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述外殼上方可拆卸設(shè)置有蓋體，所述外殼壁體上設(shè)置有用于反應(yīng)氣體進(jìn)入外殼內(nèi)的氣體入口和用于抽真空的抽氣口，所述外殼內(nèi)設(shè)置有反應(yīng)腔室，所述電極組件設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)并與所述電源連接，所述震動(dòng)盤設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)。
[0007]進(jìn)一步的，所述蓋體為玻璃蓋體。
[0008]進(jìn)一步的，所述電極組件為一對(duì)豎直設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)的平板電極，所述震動(dòng)盤設(shè)置于兩個(gè)平板電極之間。
[0009]本發(fā)明具有積極的效果:本發(fā)明中電極組件通電形成高頻電場(chǎng)將反應(yīng)氣體電離，顆粒材料在高頻電場(chǎng)中進(jìn)行表面處理,并且結(jié)合震動(dòng)盤震動(dòng),顆粒材料在震動(dòng)下翻轉(zhuǎn),可實(shí)現(xiàn)均勻處理，處理效果好。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，其中:
圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]其中:1、震動(dòng)機(jī)構(gòu)，2、震動(dòng)盤，3、反應(yīng)腔室，4、蓋體，5、電極組件，6、外殼?！揪唧w實(shí)施方式】
[0012]實(shí)施例1
如圖1所示，本發(fā)明第一實(shí)施例提供一種顆粒材料表面等離子體處理裝置，包括外殼
6、電源(圖中未示出)、電極組件5、震動(dòng)盤2和與震動(dòng)盤2連接的震動(dòng)機(jī)構(gòu)1，外殼6上方可拆卸設(shè)置有蓋體4，外殼6壁體上設(shè)置有用于反應(yīng)氣體進(jìn)入外殼內(nèi)的氣體入口和用于抽真空的抽氣口，外殼6內(nèi)設(shè)置有反應(yīng)腔室3，電極組件5為一對(duì)豎直設(shè)置于反應(yīng)腔室3內(nèi)的平板電極，該對(duì)平板電極分別與電源連接，震動(dòng)盤2設(shè)置于反應(yīng)腔室3內(nèi)并設(shè)置于兩個(gè)平板電極之間。
[0013]本實(shí)施例中平板電極通電形成高頻電場(chǎng)將反應(yīng)氣體電離，顆粒材料在高頻電場(chǎng)中進(jìn)行表面處理，并且結(jié)合震動(dòng)盤2震動(dòng)，顆粒材料在震動(dòng)下翻轉(zhuǎn)，可實(shí)現(xiàn)均勻處理，處理效果好。
[0014]實(shí)施例2
作為優(yōu)選實(shí)施例，其余與實(shí)施例1相同，不同之處在于，本實(shí)施例提供的蓋體4為玻璃蓋體，可方便查看顆粒材料在處理過程中的工作情況。
[0015]以上所述的具體實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種顆粒材料表面等離子體處理裝置，其特征在于，包括外殼、電源、電極組件、震動(dòng)盤和與所述震動(dòng)盤連接的震動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述外殼上方可拆卸設(shè)置有蓋體，所述外殼壁體上設(shè)置有用于反應(yīng)氣體進(jìn)入外殼內(nèi)的氣體入口和用于抽真空的抽氣口，所述外殼內(nèi)設(shè)置有反應(yīng)腔室，所述電極組件設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)并與所述電源連接，所述震動(dòng)盤設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顆粒材料表面等離子體處理裝置，其特征在于，所述蓋體為玻璃蓋體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顆粒材料表面等離子體處理裝置，其特征在于，所述電極組件為一對(duì)豎直設(shè)置于所述反應(yīng)腔室內(nèi)的平板電極，所述震動(dòng)盤設(shè)置于兩個(gè)平板電極之間。`
【文檔編號(hào)】H01J37/32GK103606508SQ201310607410
【公開日】2014年2月26日 申請(qǐng)日期:2013年11月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月27日
【發(fā)明者】沈文凱, 王紅衛(wèi) 申請(qǐng)人:蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司