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      發(fā)光二極管光源模組的制作方法

      文檔序號(hào):8252085閱讀:168來源:國知局
      發(fā)光二極管光源模組的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及一種光源模組,尤其涉及一種發(fā)光二極管光源模組。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 相比于傳統(tǒng)的發(fā)光源,發(fā)光二極管化i曲t血itting Diode, LED)具有重量輕、體 積小、污染低、壽命長等優(yōu)點(diǎn),其作為一種新型的發(fā)光源,已經(jīng)被越來越多地應(yīng)用到各領(lǐng)域 當(dāng)中。由于發(fā)光二極管的光場分布呈朗伯分布,即其正上方的光強(qiáng)最強(qiáng),周圍的光強(qiáng)依次減 弱,因此常需要加設(shè)一光學(xué)透鏡來使發(fā)光二極管發(fā)出的光線更為發(fā)散且均勻。然而,該光學(xué) 透鏡的設(shè)置使發(fā)光二極管發(fā)出的光強(qiáng)發(fā)散到一定程度后,發(fā)光二極管正上方的光強(qiáng)仍然大 于周圍區(qū)域的光強(qiáng),從而使該發(fā)光二極管光源的發(fā)光亮度不均勻。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003] 鑒于此,本發(fā)明旨在提供一種發(fā)光亮度均勻的發(fā)光二極管光源模組。
      [0004] 一種發(fā)光二極管光源模組,包括基板、設(shè)置于該基板上的發(fā)光二極管光源、設(shè)置于 該發(fā)光二極管光源的正向出光方向上的光學(xué)元件W及設(shè)置于該光學(xué)元件上方的擴(kuò)散板,該 基板的上表面為反射光線的反射面,該光學(xué)元件上設(shè)置有對應(yīng)該發(fā)光二極管光源的通光 孔,該擴(kuò)散板正對該光學(xué)元件的通光孔處設(shè)置有朝向該通光孔的反射體,且該反射體上具 有正對該通光孔的反射面,發(fā)光二極管光源發(fā)出的光線出射到該反射體的反射面上時(shí)被反 射至該基板的上表面,再被該基板的上表面反射至擴(kuò)散板。
      [0005] 由于該基板的反射面W及在該擴(kuò)散板上的反射面的設(shè)置,使得該發(fā)光二極管光源 正上方的光強(qiáng)減弱,周圍區(qū)域的光強(qiáng)增加,從而平衡該發(fā)光二極管光源模組各區(qū)域的光強(qiáng), 使得該發(fā)光二極管光源模組的出光亮度更為均勻。
      【附圖說明】
      [0006] 圖1為本發(fā)明一實(shí)施例提供的發(fā)光二極管光源模組的剖面示意圖。
      [0007] 主要元件符號(hào)說明
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1. 一種發(fā)光二極管光源模組,包括基板、設(shè)置于該基板上的發(fā)光二極管光源、設(shè)置于該 發(fā)光二極管光源的正向出光方向上的光學(xué)元件以及設(shè)置于該光學(xué)元件上方的擴(kuò)散板,其特 征在于:該基板的上表面為反射光線的反射面,該光學(xué)元件上設(shè)置有對應(yīng)該發(fā)光二極管光 源的通光孔,該擴(kuò)散板正對該光學(xué)元件的通光孔處設(shè)置有朝向該通光孔的反射體,且該反 射體上具有正對該通光孔的反射面,發(fā)光二極管光源發(fā)出的光線出射到該反射體的反射面 上時(shí)被反射至該基板的上表面,再被該基板的上表面反射至擴(kuò)散板。
      2. 如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管光源模組,其特征在于:該通光孔的尺寸較該發(fā)光 二極管光源的尺寸大。
      3. 如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管光源模組,其特征在于:該反射體的反射面的尺寸 較該通光孔的內(nèi)徑大。
      4. 如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管光源模組,其特征在于:該反射體的縱向截面為三 角形,該反射體上的反射面包括有第一反射面和第二反射面。
      5. 如權(quán)利要求4所述的發(fā)光二極管光源模組,其特征在于:該第一反射面和第二反射 面均為平面。
      6. 如權(quán)利要求4所述的發(fā)光二極管光源模組,其特征在于:該第一反射面和第二反射 面均為曲面。
      7. 如權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管光源模組,其特征在于:該光學(xué)兀件具有相對的一 頂面和一底面,該頂面朝向該擴(kuò)散板,該底面正對該發(fā)光二極管光源,該通光孔貫穿該光學(xué) 元件的頂面和底面的中部。
      【專利摘要】一種發(fā)光二極管光源模組,包括基板、設(shè)置于該基板上的發(fā)光二極管光源、設(shè)置于該發(fā)光二極管光源的正向出光方向上的光學(xué)元件以及設(shè)置于該光學(xué)元件上方的擴(kuò)散板,該基板的上表面為反射光線的反射面,該光學(xué)元件上設(shè)置有對應(yīng)該發(fā)光二極管光源的通光孔,該擴(kuò)散板正對該光學(xué)元件的通光孔處設(shè)置有朝向該通光孔的反射體,且該反射體上具有正對該通光孔的反射面,發(fā)光二極管光源發(fā)出的光線出射到該反射體的反射面上時(shí)被反射至該基板的上表面,再被該基板的上表面反射至擴(kuò)散板。
      【IPC分類】F21V13-00, F21Y101-02, F21S2-00
      【公開號(hào)】CN104565879
      【申請?zhí)枴緾N201310467465
      【發(fā)明人】陳柏洲
      【申請人】鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司
      【公開日】2015年4月29日
      【申請日】2013年10月10日
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