專利名稱：設(shè)置有干涉測量裝置的工業(yè)機(jī)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種工業(yè)機(jī)器，且更具體地，涉及一種設(shè)置有光電 測量裝置的工業(yè)才幾器。
背景技術(shù)：
如本文所使用的，"工業(yè)機(jī)器，，是指機(jī)械機(jī)床(例如，車床、 磨床、銑床、或鉆床、鏜床)、以及電子機(jī)床(例如，激光加工機(jī)、
電火花加工4幾)、壓力水射流才幾、坐標(biāo)測量4幾(CMM)、移動或梯:
纟從才幾、以及裝配才幾。
"工件，，是指一件可^皮加工的可加工材料，舉例來說，例如可
被固定至工業(yè)機(jī)器以便加工的木材、金屬或塑料；以及不可^L安裝 在工業(yè)才幾器上的固體材料的壁部分或大部分，^f旦是它們可以由工業(yè) 機(jī)器觸及并加工，或者概括地說，"工件，，是指可以由工業(yè)機(jī)器處 理并操縱的任何工件。
"加工"是指工業(yè)機(jī)器在工件上可以執(zhí)行的各種操作，舉例來 說，例如，去除材料、銑削、彎曲、拋光等，以及工件上的表面處 理(諸如，上漆)，以及在工件上的其他可能的操作，諸如測量、 操縱、移動或組裝。
更具體地，工業(yè)機(jī)器的"操作"進(jìn)一步是指該機(jī)器能夠執(zhí)行的 任何功能，其中，例如，在操作區(qū)域中移動工具、將該工具保持在4壬一^f立置中、加工工^f牛、以及調(diào)整、測量或監(jiān)測不^f又可以在工^f牛上
才;U亍而且還可以在屬于該工業(yè)才幾器的其他j幾才成或結(jié)構(gòu)部件上所執(zhí) 行的操作。
典型地，由于當(dāng)加工一件固體材料(諸如金屬件)時(shí)需要很高 的精度，所以要求將工件精確地定位在機(jī)器上，并且要求用于加工 該工件的工具和在加工中可能涉及的其他才幾械部件盡可能地以最 大升青度移動該工4乍。
在任何情況下，這種類型的工業(yè)機(jī)器在操作時(shí)均承受應(yīng)力或振 動，其中所述應(yīng)力或l展動例如可能由工具與4寺加工材津+的相互作用 引起、或者由固定有工件的工作臺的處理(通常以高速進(jìn)行)引起、 或者還由工具或加工時(shí)所涉及的其他4幾才戒部4牛的移動所引起。
此外，在工業(yè)沖幾器中可以產(chǎn)生幾4可變形，包4舌永久類型的幾4可 變形(例如，由組成該機(jī)器的機(jī)械部件的錯誤的組裝或構(gòu)造引起) 和靜態(tài)類型的幾何變形(例如，由組成該4幾器的部件的溫度變化或 重量引起)兩種。
因此，人們深切感到需要一種工業(yè)機(jī)器，其能夠向操作者或控 制單元提供對機(jī)器在操作時(shí)可能承受的位移或尺寸變化的測量，以 便實(shí)時(shí)確定由工業(yè)機(jī)器造成的加工誤差并通過應(yīng)用校正測量而增 加工業(yè)機(jī)器的精度。此外，可以限制不正常工作，并同時(shí)降低機(jī)械 故障的風(fēng)險(xiǎn)。
典型地，工業(yè)沖幾器由互相連接的靜止才幾械部件和線性的或者轉(zhuǎn) 動的一個或多個軸(axis)《且成。
"軸，，是指由兩個元件形成的組件，典型地， 一個元件靜止而 另一個元件相對于第一個元件可移動，它們彼此連接以便能夠通過適當(dāng)?shù)倪\(yùn)動傳遞裝置將相對運(yùn)動傳遞至彼此。更具體地，"線性" 軸是指在其間傳遞線性類型的相對運(yùn)動的兩個元件的組件，然而， "轉(zhuǎn)動"軸是指在其間傳遞轉(zhuǎn)動類型的相對運(yùn)動的兩個元件的組件。
在線性軸中，移動元件在固定元件上可滑動地移動。例如，移 動元件通過轉(zhuǎn)動式電動才幾和適當(dāng)?shù)蔫?成傳動系統(tǒng)(或者可替換地， 直4妻通過線'l"生電動沖幾)而#皮移動。
典型地，通過角度測量系統(tǒng)間接地測量移動元件相對于靜止元 件的位移，所述角度測量系統(tǒng)在文獻(xiàn)中具有技術(shù)名稱"解算器
(resolver )"或與轉(zhuǎn)動式電動機(jī)一體的角度編碼器而為人們所知。 可替換地，通過線性測量系統(tǒng)(其以技術(shù)名稱線性編碼器而為人們 所知)可以直接獲得測量結(jié)果，典型地，所述線性測量系統(tǒng)包括與 靜止元件一體的刻度尺(典型地，光線路(optical line,光學(xué)線))、 以及與移動元件一體的讀數(shù)頭。位移的測量還可以使用兩個測量系 統(tǒng)來進(jìn)4亍。
更具體;也，工業(yè)才幾器由一個或多個線性軸和/或一個或多個4爭動
軸組成。
在圖1中示意性地示出了已知類型的第一工業(yè)機(jī)器Ml,其由 線性軸AL構(gòu)成，并且i殳置有轉(zhuǎn)動式電動才幾MR、相應(yīng)的枳4成傳動 裝置MTM、線性編碼器EL、轉(zhuǎn)動式編碼器ER以及控制單元UC。 該控制單元與第一工業(yè)機(jī)器Ml相關(guān)聯(lián)，以便基于由線性編碼器EL 和轉(zhuǎn)動式編碼器ER所產(chǎn)生的信息向轉(zhuǎn)動式電動才幾MR纟是供相應(yīng)的 指令信號。
圖1中的第一工業(yè)沖幾器M1 (只具有一個線性軸)通過加工工 具(圖中未示出)來加工工件，該工件可以固定至線性軸的移動元件、或該軸的靜止元件、或該4幾器的靜止或移動的部件上。加工工 具可以固定至線性軸的移動元件、或固定至該軸的靜止元件、或固 定至該才幾器的靜止或移動的部件上。
在圖2中示意性地示出了由多個線性軸AL1、 AL2、 AL3組成 的第二玉見有才支術(shù)的工業(yè)4幾器M2的一部分。在圖2中，為了清晰的 目的，未示出電動才幾、枳4成傳動裝置、測量系統(tǒng)和控制單元。
一4殳;也，具有多個線性軸和一個或多個4爭動軸的工業(yè)才幾器例如 包括相對于彼此而順序地布置的軸，即， 一個軸的靜止元件被固定 至相鄰軸的移動元件。具有多個軸的工業(yè)才幾器通過加工工具來加工
工件，所述工件可以固定至其中一個軸的移動元件、或固定至其中 一個軸的靜止元件、或固定在才幾器的靜止部件上。同樣地，工具可 以固定至其中一個軸的移動元件、或固定至其中一個軸的靜止元 件、或固定在才幾器的靜止或移動的部件上。各個軸的控制單元可以 由機(jī)器的單個控制單元包含或替代。
如圖3和圖4所示，用標(biāo)號100表示的現(xiàn)有4支術(shù)的工業(yè)才幾器典 型地包括基座1，作為線性軸的靜止元件；以及工作臺2,作為 線性軸的移動元件，并與固定至工作臺的且由固體材料制成的工件 4 一起沿著移動軸線X (圖中用虛線描繪)在所述基座上滑動。工 業(yè)機(jī)器100還設(shè)置有用于加工材料工件4的機(jī)械加工工具5 (如圖 3所示)。移動工作臺2相對于基座1的運(yùn)動由便利地安裝至工作臺 或基座的傳統(tǒng)電動才幾(圖中未示出)、以及由用于枳4成傳遞工作臺 與基座之間的相對運(yùn)動的適當(dāng)裝置來確4呆。
為了測量在工業(yè)機(jī)器操作時(shí)移動工作臺2相對于基座1的位 移，工業(yè)機(jī)器100裝配有線性編碼器6,所述線性編碼器由讀凄t頭 7構(gòu)成且與工作臺2 —體，以便例如相對于與基座1一體的光線路 8以無機(jī)械接觸的方式滑動。光線路8布置在形成于基座(線性軸的l爭止元件) 一側(cè)上的適當(dāng)空間內(nèi)，且因此而平4亍于工業(yè)才幾器的移
動軸線X。
線性編碼器6允許工業(yè)機(jī)器100向操作者或控制單元提供表示 移動工作臺沿工業(yè)機(jī)器的移動軸線的位移的測量值。
現(xiàn)有纟支術(shù)的工業(yè)沖幾器100具有這樣的缺點(diǎn)，即由線性編碼器6 所提供的測量值的質(zhì)量和精度嚴(yán)格地取決于安裝有光線路的基座 的幾何結(jié)構(gòu)。事實(shí)上，由于光線路牢固地固定至機(jī)器的移動軸，所
以在4喿作時(shí)光線;咯受到基座i所岸義受的變形的影響。而光線路8的
任何變形均影響由線性編碼器所提供的測量值的可靠性，并且還影
響線性編碼器的正確#:作。
如上文所描述的工業(yè)才幾器100的另一個^:點(diǎn)是線性編碼器6 (其位置取決于光線路8沿基座1的位置)與用于測量的最關(guān)注的 區(qū)域(通常為移動軸線中的固定所述工件處的點(diǎn))之間的距離(有 時(shí)是相當(dāng)大的)。事實(shí)上，人們認(rèn)識到，在機(jī)器操作時(shí)(并且同時(shí) 工件正纟皮加工)需要注意纟幾器的4壬4可幾何變形，所述幾4可變形改變 機(jī)械部件(它們組成工業(yè)機(jī)器和工件)之間的相對位置，諸如基座 (線性軸的靜止元件)與移動工件(線性軸的移動元件)之間的位 置，以使一才交正工具與工件之間的4壬何不希望的位移，雖然這些位移 極小，但主要當(dāng)期望高精度操作時(shí)，該位移可能損害所加工工件的 質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種工業(yè)機(jī)器，其克服了上述缺陷并具有 比上述的現(xiàn)有技術(shù)的工業(yè)機(jī)器更可靠的操作。通過it如由^又利要求1限定并具有4又利要求1中的特4正的工業(yè) 機(jī)器來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的。
所述工業(yè)機(jī)器的優(yōu)選實(shí)施例由所附的從屬權(quán)利要求2至31所限定。


將從下文對本發(fā)明實(shí)施例的詳細(xì)描述來更好地理解本發(fā)明，通 過參照附圖以非限制性實(shí)例給出其中的實(shí)施例，在附圖中
圖1示意性地示出了第一現(xiàn)有技術(shù)工業(yè)機(jī)器的透視圖2示意性地示出了第二現(xiàn)有沖支術(shù)工業(yè)才幾器的一部分的透—見
圖3示意性地示出了第三現(xiàn)有技術(shù)工業(yè)機(jī)器的透視圖； 圖4示出了圖3中的第三現(xiàn)有4支術(shù)工業(yè)才幾器的側(cè)4見圖； 圖5示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)例的工業(yè)機(jī)器的透視圖6示意性i也示出了與圖5中的工業(yè)4幾器一起4吏用的光電測量
裝置；
圖7示意性地示出了圖3中的工業(yè)機(jī)器的側(cè)視圖，其中，防護(hù) 罩防止可能由圖6中的光電測量裝置所產(chǎn)生的電》茲輻射；以及
圖8示意性地示出了圖7所示的防護(hù)罩的變型實(shí)施例。
應(yīng)當(dāng)注意的是，在全部附圖中，相同或相似的元件將用相同的
標(biāo)號表示。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在將參照圖5和圖6描述整體上用標(biāo)號200表示的工業(yè)機(jī)器
的實(shí)例。
如本文所使用的，應(yīng)當(dāng)理解的是，工業(yè)才幾器的"才喿作"進(jìn)一步 是指該機(jī)器能夠執(zhí)行的任何功能，其中，例如，在操作區(qū)域中移動 工具、將工具4呆持在任一位置中、加工工件、以及調(diào)整、測量或監(jiān) 測不僅可以在工件上執(zhí)行而且還可以在屬于工業(yè)才幾器的其他4幾械 或結(jié)構(gòu)部件上所執(zhí)行的操作。"加工"進(jìn)一步是指工業(yè)機(jī)器在工件 上可以執(zhí)行的各種操作，諸如，去除材料、彎曲、拋光等，以及工 件上的表面處理(諸如上漆)。
工業(yè)機(jī)器200 (例如銑床)包括基座l或線性軸的固定元件 (僅指"基座")；以及移動結(jié)構(gòu)元件2，工件4通過^f吏用諸如可調(diào) 夾爪的適當(dāng)固定裝置(圖中未示出)而可枳4成i也連4妻至該移動結(jié)構(gòu) 元件上。
應(yīng)當(dāng)注意的是，在工業(yè)機(jī)器200的其他實(shí)施例中，工件4可以 可機(jī)械地直接連接至基座1或者物理上放置于工業(yè)機(jī)器200的外部。
工業(yè)才幾器200進(jìn)一步包4舌用于加工工件4的枳4成工具50，例如 安裝在卡盤上銑刀，所述卡盤優(yōu)選地以機(jī)械的方式連接至基座1。 在工業(yè)機(jī)器200的其他實(shí)施例中，機(jī)械工具50可以與移動結(jié)構(gòu)元 ^f牛2—體；在其^f也情況下，枳4成工具可以在工業(yè)才幾器之外，但與該 工業(yè)才幾器配合或協(xié)作以^更加工工件?？捎米魈?戈上述工具的加工裝 置的其他類型的工具是例如，磨具、鏜刀、焊槍、或激光頭、或 上漆頭，然而一^:地i兌，這些工具取決于所^吏用的工業(yè)才幾器的類型。應(yīng)當(dāng)進(jìn)一步看到，工件4的類型也取決于工業(yè)^L器的類型和所 期望的加工。在原料去除機(jī)械工具的情況下，工件合理地由固體材 料制成，典型地為金屬、木材或塑料。
現(xiàn)在返回對圖5中工業(yè)4幾器200的描述，結(jié)構(gòu)元件2實(shí)現(xiàn)了沿 著工業(yè)才幾器的移動軸線X (在該實(shí)例中，基座1的纟從向)滑動;也連 4妄至基座1。為此，移動結(jié)構(gòu)元件2優(yōu)選地i殳置有合適的凹槽9， 這些凹槽9面向基座1以便貼合地接合于形成在基座上的相應(yīng)肋 10。上述的滑動連接允許移動結(jié)構(gòu)元件2能夠相對于基座1采用代 表工業(yè)才幾器200的相應(yīng)才喿作構(gòu)造的不同位置。
應(yīng)當(dāng)進(jìn)一步考慮到，在機(jī)械加工工具50實(shí)現(xiàn)了可操作地連接 至基座1的情況下，上述的滑動連接允許機(jī)械加工工具50 (或者一 般地說，其他加工裝置)與工件4之間的多個相互位置。
典型地，移動元件2相對于靜止元件1的移動由固定至移動結(jié) 構(gòu)元件2的傳統(tǒng)轉(zhuǎn)動式電動4幾(圖中未示出)、以及在移動結(jié)構(gòu)元 件2與基座1之間相對運(yùn)動的相應(yīng)機(jī)械傳動元件(圖中也未示出) 來確保?？商鎿Q地，轉(zhuǎn)動式電動才幾可以固定至基座1。此夕卜，可以 為移動結(jié)構(gòu)元件2 ^是供其他移動裝置來替代所述的轉(zhuǎn)動式電動^U 其中例如，線性電動4幾、氣壓致動系統(tǒng)或壓電致動系統(tǒng)。
工業(yè)機(jī)器200還包括光電測量裝置ll,例如布置在基座l上 靠近兩個肋10中的一個的位置處；以及測量反射革巴(measuring reflecting target) 12，在下文中簡單i也稱作"革巴"，其例如安裝至移 動結(jié)構(gòu)元件2，以便能夠光耦合至光電裝置11。應(yīng)當(dāng)注意的是，如 下文所述，"反射靶"更通常地是指反射或者漫反射相應(yīng)的電磁輻 射的靶。優(yōu)選地，通過適當(dāng)?shù)墓潭ㄏ到y(tǒng)(諸如包括一個或多個,茲體的^茲
型系統(tǒng))可以將光電測量裝置的靶12固定至移動結(jié)構(gòu)元件2。
更詳細(xì)地，并且具體地參照圖6，光電裝置11包括激光自混合 干涉儀20 (其本身為已知的)，例如，單模式半導(dǎo)體二極管激光器 Hitachi型號HL8325G,激光自混合干涉4義適合從相應(yīng)的1俞入/|#出 端口 (圖中未示出)向?qū)幇?2發(fā)射直4妄電》茲輻射，并且再在所述端 口上接收由靶反射的電磁輻射的合適部分。激光自混合干涉儀20 進(jìn)一 步限定了在直接電磁輻射與反射電磁輻射之間的干涉腔。優(yōu)選 地，直接電磁輻射和反射電磁輻射相對于基座1具有平行于移動結(jié) 構(gòu)元件2的移動軸線X的傳纟番方向。
應(yīng)當(dāng)進(jìn)一步注意的是，為了促進(jìn)向耙12的直接電磁輻射的傳 送以及從耙12向干涉儀20的反射電磁輻射的傳送，因此提高了通 過激光自混合干涉儀測量的質(zhì)量，光電測量裝置11可以有利地設(shè) 置一個或多個光電部件，舉例來說，諸如光學(xué)透鏡、衰減器或放大 器(圖中未示出)，它們諸如介于干涉儀的輸入/輸出端口與靶之間。
從操作的觀點(diǎn)看，激光自混合干涉儀基于激光自混合效應(yīng)(其 本身已知)，當(dāng)反射電磁輻射來自移動的靶時(shí)、當(dāng)反射電磁輻射代 表直4妄電》茲輻射的一部分時(shí)、當(dāng)反射電^茲輻射相干地(coherently) 重新進(jìn)入千涉腔并在干涉腔中與直接電磁輻射相互作用時(shí)會發(fā)生 激光自混合效應(yīng)，引起直接電磁輻射的多個參數(shù)改變，例如(作為 示例)，激光發(fā)射閾值、激光發(fā)射功率、波長、光譜寬度。有利地，
距離的信息。
在類似于上文所述的干涉現(xiàn)象之后，激光自混合干涉4義20適 用于輸出光干涉信號SO。通過處理該光干涉信號，如下文所描述的，干涉儀可以追溯到在工業(yè)機(jī)器200中所限定的第一參考軸線al 與第二參考軸線a2之間的距離d的測量值。
更詳細(xì)地，并且根據(jù)在此所描述的實(shí)例，第一參考軸線al是 靜止的并且與激光自混合干涉儀20相關(guān)聯(lián)，同時(shí)第二參考軸線a2 與靶12相關(guān)聯(lián)，并且一般地說，第二參考軸線a2進(jìn)而與移動結(jié)構(gòu) 元4牛2相關(guān)聯(lián)。
如圖5所示出的，第一參考軸線al和第二參考軸線a2 (用虛 線畫出)相互平行并且均與移動軸線X正交。考慮到所定義的(直 *接的或反射的)電；茲輻射具有如上文所述的平行于移動軸線X的傳 4番方向，所以3巨離d也沿相同的方向測量。
在替代在此所描述方式的實(shí)施例中，干涉儀20可以安裝至移 動結(jié)構(gòu)元件2，并且反之亦然，靶12可以固定至基座1。在這種情 況下，第一參考軸線al是靜止的并且與靶12可關(guān)聯(lián)，而第二參考 軸線a2 ^"應(yīng)于5敫光干涉4義20。
如圖6所示，光電裝置11進(jìn)一步包括已知類型(諸如光電二 極管)的光電探測器21,該光電探測器適合接收由干涉儀20提供 的輸入光干涉信號SO以將該信號轉(zhuǎn)換為對應(yīng)的輸出第一電信號 SE1。應(yīng)當(dāng)注意的是，光電二極管也可以集成在干涉儀20的封套內(nèi) (激光二極管)。
光電裝置11進(jìn)一步包括處理單元UP，該處理單元適合接收輸 入并處理由光電纟笨測器21沖是供的第一電信號SE1，并專俞出表示所 述測量距離d的第二電信號SE2。應(yīng)當(dāng)注意的是，處理單元UP設(shè) 置有至少一個孩i處理器以及用于裝載^:件和石更件才莫塊(例如，在電 路板上的印制電路)的相應(yīng)存儲器，所述存儲器可以與微處理器相 關(guān)耳關(guān)以用于處理第一電4言號SE1。光電裝置11適合于向控制單元UC (圖3中示意性地示出)提 供第二電信號SE2，該控制單元UC可才喿作;也與工業(yè)才幾器200相關(guān) 聯(lián)，在已經(jīng)處理了第二電信號SE2并產(chǎn)生了相應(yīng)的數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)之后， 該控制單元適合于命令(作為所述數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的函數(shù))工業(yè)機(jī)器200 的電動才幾，以使 使移動結(jié)構(gòu)元件2相對于基座1移動。
可替換地，光電裝置11可以適合于向纟喿作者直4妄提供與所測 量的位移d成比例的第二電信號SE2。
控制單元UC還設(shè)置有其本身的硬件(典型地為樣i處理器和相 應(yīng)的存儲器)和軟件，以便基于所測量的距離d來控制和管理工業(yè) 機(jī)器200。
作為示例，當(dāng)工業(yè)才幾器正在對工件4進(jìn)4亍加工時(shí)，控制單元 UC通過其微處理器可以執(zhí)行所測量的距離d的值與先前存儲在所 述存儲器中的預(yù)定值的對比操作。當(dāng)所測量的距離d不同于預(yù)定值 (除了所允許的公差外)時(shí)，控制單元UC能夠控制電動機(jī)以使移 動結(jié)構(gòu)元件2移動，從而使干涉儀20與靶12之間的距離恢復(fù)為與 預(yù)定值相等。
如上所述的控制類型是非常有利的，原因在于，參照圖5中的 用于加工工件4的示例性工業(yè)才幾器，結(jié)構(gòu)元件2沿肋10相對于基 座1的意外位移、以及靶12與干涉儀20之間距離的隨之變化可能 影響工件4的加工質(zhì)量和工業(yè)才幾器200和/或所-使用的工具50的性 能。有利地，在加工工件4時(shí)，控制單元UC執(zhí)行對干涉儀20與靶 12之間距離的監(jiān)測，從而該距離與對應(yīng)于工業(yè)機(jī)器200的適當(dāng)使用 和操作的預(yù)定值相匹配?，F(xiàn)在參照如圖7所示的另一優(yōu)選實(shí)施例，該工業(yè)才幾器200可以 設(shè)置有具有可變長度的結(jié)構(gòu)60以保護(hù)激光干涉儀20的輸入/輸出端 口和革巴12。
特別地，應(yīng)當(dāng)注意的是，保護(hù)結(jié)構(gòu)60諸如從千涉儀的輸入/輸 出端口延伸至耙，由此來限定直接電》茲輻射和反射電i茲輻射可以傳 l番的內(nèi)"^區(qū)i或。
此外，保護(hù)結(jié)構(gòu)60包括例如，多個可伸縮地互相連4妄的管 狀元件，以便當(dāng)移動結(jié)構(gòu)元件2的位置相對于基座1改變時(shí)，這些 管狀元件沿移動軸線X延伸和收縮。為了這個目的，應(yīng)當(dāng)看到，保 護(hù)結(jié)構(gòu)60有利地具有在輸入/輸出端口處連接至光電測量裝置11的 第一端、以及連4妄至移動結(jié)構(gòu)元件2且與耙12平齊的第二端。應(yīng) 當(dāng)注意的是，多個管狀元件中的截面可以是任何形狀，優(yōu)選為圓形。
應(yīng)當(dāng)進(jìn)一步看到，優(yōu)選地，通過分別在第一端與光電裝置11 之間以及第二端與移動結(jié)構(gòu)元件2之間插入合適的墊圏或其他密封 裝置來實(shí)現(xiàn)上文所提到的兩個連接。
上面所描述的保護(hù)結(jié)構(gòu)60具有保護(hù)電磁輻射、干涉儀20的輸 入/輸出端口和靶12免受工作環(huán)境中可能出現(xiàn)的雜質(zhì)的干擾，所述 雜質(zhì)諸如污垢、工藝廢料(例如，灰塵、碎片、裂片)、工業(yè)液體 (例如，油、清漆)等，所述雜質(zhì)可能對電磁輻射造成不期望的改 變和/或干擾，從而影響光電測量裝置11的操作。有利地，圖7中 的工業(yè)機(jī)器200因此而允許光電測量裝置免受由工業(yè)機(jī)器200所操 作的環(huán)境產(chǎn)生的誤差的影響而纟喿作。
參照圖8，作為對所述多個管狀元件的替代，工業(yè)才幾器200可 以包括波紋管式的保護(hù)結(jié)構(gòu)，該保護(hù)結(jié)構(gòu)具有可變長度，也用標(biāo)號 60表示，其適用于執(zhí)行相同的保護(hù)功能，并適用于隨著移動結(jié)構(gòu)元件2與基座1之間的相對位置的變化而沿著工業(yè)機(jī)器的移動軸線X 延伸和收縮。此外，應(yīng)當(dāng)注意的是，圖8中的波紋管結(jié)構(gòu)以與圖7 中的保護(hù)結(jié)構(gòu)60完全相似的方式連4妄至光電裝置11和移動結(jié)構(gòu)元 件2。
有利;t也，可以在圖7和圖8中的Y呆護(hù)結(jié)構(gòu)60內(nèi)布置多個4專感 器，這些傳感器一皮布置成互相鏈4妄(chained),并且這些傳感器適 于檢測諸如可以在電i茲輻射傳播區(qū)域內(nèi)發(fā)現(xiàn)的物理參數(shù)，如溫度、 壓力、濕度。監(jiān)測這些參數(shù)是特別有利的，因?yàn)樵摴勒煞ㄔ试S對電》茲 輻射(直接電磁輻射和反射電磁輻射)所傳播的環(huán)境條件保持連續(xù) 地和/或離散地觀察，從而如果需要的話，能夠校正由梯度(gradient) 引起的測量波動。
通常地，作為對具有管狀元件的結(jié)構(gòu)(圖7 )和波紋管結(jié)構(gòu)(圖 8)的替代，工業(yè)機(jī)器200可以包括任何與上述結(jié)構(gòu)相似的結(jié)構(gòu)，
并且該結(jié)構(gòu)適合于當(dāng)移動結(jié)構(gòu)元件的位置相對于基座發(fā)生變4b時(shí)，
通過延伸和收縮來執(zhí)行相同的保護(hù)功能，反之亦然。
應(yīng)當(dāng)進(jìn)一步考慮到，在可替換的情況下，即在工業(yè)機(jī)器200例 如通過方便地利用基座的沿機(jī)器的移動軸線X布置的中空部分而 將光電測量裝置11與靶12 —起直接集成在基座1內(nèi)的情況下，可 以不設(shè)置保護(hù)結(jié)構(gòu)60。在這種情況下，電》茲輻射、干涉4義20的輸 入/輸出端口以及靶12均有利地由工業(yè)機(jī)器200的內(nèi)部空間保護(hù)， 因而當(dāng)然不需要合適的4呆護(hù)結(jié)構(gòu)的幫助。
此外，在這種構(gòu)造中，盡管光電測量裝置和靶類似于現(xiàn)有4支術(shù) 的工業(yè)4幾器上的光線路而沿著基座1 (線性軸上的靜止元件)而定 位，^f旦是無i侖位移測量范圍d如〗可，光電測量裝置11和扭12均具 有保持低成本的經(jīng)濟(jì)優(yōu)勢，而不同于隨著數(shù)值d的增加成本也增加 的光線i 各或任何其他刻度尺。在圖中未示出的另 一實(shí)施例中，工業(yè)機(jī)器200可以包括其他與 光測量裝置11完全類似的光測量裝置，它們布置為與靶12光耦合， 適用于測量移動結(jié)構(gòu)部件2相對于基座1的任何角位移。每個可測 量的角位移表示靶12繞第一和第二轉(zhuǎn)動軸線的轉(zhuǎn)動，所述第一和 第二轉(zhuǎn)動軸線相互正交并且均垂直于/人光測量裝置所發(fā)射的并由
靶反射/漫射的電》茲輻射傳纟番方向。
在圖中未示出的另一個實(shí)施例中，在輩巴12牢固地固定至移動 結(jié)構(gòu)元件2 (如果適當(dāng)處理的話，移動結(jié)構(gòu)元件2的壁也可以用作 反射/漫射耙)之后，自混合激光干涉儀20可以有利地與所謂的孩t 調(diào)系統(tǒng)對齊，然后該樣i調(diào)系統(tǒng)通過用于調(diào)整螺4丁的固定裝置而4奇確 地鎖住。該方案除了非常緊湊之外，還確保了以下優(yōu)勢工業(yè)機(jī)器 200校準(zhǔn)期間的速度和精度、i殳置靈活性、在工件4的加工期間防 止和4氏抗才幾一成應(yīng)力、以及本質(zhì)上長期的可靠性。
此外，工業(yè)機(jī)器200可以設(shè)置其他的也為光電類型的測量裝置， 舉例來說，例如， 一個或多個線性編碼器、角度編碼器或解算器編 碼器，它們均與以上參照現(xiàn)有4支術(shù)所描述的測量裝置完全類似。這 些裝置適用于測量可以與工業(yè)才幾器的各個結(jié)構(gòu)部4牛相關(guān)聯(lián)的其4也 參考軸線之間的距離，其中，所測量的值可以與通過激光自混合干 涉4義所測量的距離d結(jié)合(integrate )。
在上述實(shí)施例的可替換實(shí)施例中，工業(yè)4幾器200具有》文置于基 座1側(cè)部上的光電測量裝置11、以及與移動結(jié)構(gòu)元件2 —體的靶 12, 乂人而4吏得草巴與測量裝置11光耦合，以用于測量移動元件12與 基座1之間沿移動軸線X (線性軸)的相對位移。這種特定的構(gòu)造 在結(jié)構(gòu)上與現(xiàn)有技術(shù)的線性編碼器非常相似，具有成本效益且操作 者組裝起來非常簡單；同時(shí)其允許測量線性編碼器所不能才企測的基 座1與移動結(jié)構(gòu)元件2之間的4壬何變形。此外，應(yīng)當(dāng)注意的是，在另一實(shí)施例中(圖中未示出)，例如，
工業(yè)機(jī)器200可以可替換地或以與加工工具50相組合的方式i殳置 有測量裝置，諸如本身已知的測量探針。
應(yīng)當(dāng)理解的是，目前為止，只描述了根據(jù)本發(fā)明的工業(yè)機(jī)器的 一些示例性實(shí)施例。此夕卜，應(yīng)當(dāng)考慮到，也可以認(rèn)為如上所述的工 業(yè)機(jī)器僅為一個更復(fù)雜的工業(yè)機(jī)器的一部分。
現(xiàn)在，將進(jìn)一步參照圖5對工業(yè)機(jī)器200在工件4加工期間的
操作的實(shí)例進(jìn)行描述。
具體地，將考慮這樣的情況，即該加工利用加工工具50(例如， 機(jī)械地連接至工業(yè)機(jī)器200的鉆頭)在工件4中制造孔，所述孔優(yōu) 選具有與移動軸線X正交的方向。
在初步加工步驟期間，通過合適的爪將工件4固定至移動結(jié)構(gòu) 元件2。當(dāng)該機(jī)器接通(通電)時(shí)，使得光電測量裝置ll運(yùn)行。接 著，機(jī)器的操作者操作電動機(jī)，以使移動結(jié)構(gòu)元件2相對于基座1 移動，以便使工業(yè)機(jī)器采用第一操作構(gòu)造，該第一操作構(gòu)造用于在 設(shè)計(jì)步驟期間所選4奪的預(yù)定位置處在工件4內(nèi)加工所述孔。如果需 要的話，為了便于實(shí)現(xiàn)機(jī)器的第一操作構(gòu)造，操作者還可以調(diào)整機(jī) 才戒工具50，以一使該枳一成工具與工件4對齊或靠近工4牛4。
當(dāng)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了上述的第一操作構(gòu)造時(shí)，光電測量裝置11提供 對應(yīng)于所述第一操作構(gòu)造的激光干涉儀20與乾12之間的距離d的 第一預(yù)定值。接著，將該第一預(yù)定值存儲在控制單元UC的存儲器 中，或可替換地，可以從先前存儲在單元UC的相同存儲器內(nèi)的一 系列數(shù)值中選沖奪該第 一預(yù)定值。從操作的觀點(diǎn)看，當(dāng)操作者發(fā)出命令時(shí)，工業(yè)沖幾器200開始對 工件4進(jìn)行加工，并且同時(shí)光電裝置11和控制單元UC被啟動以用 于監(jiān)測來使干涉儀20與靶12之間的距離d保持與第 一預(yù)定值相等。 在此所描述的實(shí)例中，事實(shí)上，看起來很重要的是，在加工期間， 為了便于在相對于移動軸線X的正交方向上制造孔，距離d應(yīng)盡可 能保持不變。
更詳細(xì)地，為了扭j亍所述監(jiān)測，在加工工件4期間，5敫光自混 合干涉儀20從輸入/輸出端口向靶12發(fā)射直接電^茲輻射。當(dāng)革巴12 接收該直接電磁輻射時(shí)，靶進(jìn)而會將此電磁輻射反射/漫射至干涉儀 20的輸入/輸出端口。通過相干地進(jìn)入干涉4義20的激光腔，由于上 文所述的干涉儀效應(yīng)，所反射/漫射的電磁輻射允許干涉儀產(chǎn)生表示 耙12與干涉儀20之間的距離d的光信號SO。
隨后，光電探測器21檢測光信號SO并將其轉(zhuǎn)換為對應(yīng)的第一 電信號SE1,而該第一電信號進(jìn)而又被發(fā)送至處理單元UP的輸入 端。處理單元對第一電信號SE1進(jìn)4于處理，以產(chǎn)生也表示激光所測 得的干涉儀20與靶12之間的距離d的第二電信號SE2。
此后，工業(yè)機(jī)器所設(shè)置的控制單元UC接收所述第二電信號 SE2 ，并通過其中的微處理器將該第二電信號轉(zhuǎn)換為對應(yīng)的數(shù)字?jǐn)?shù) 據(jù)。然后，控制單元UC將所述數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)與存儲在相應(yīng)存儲器中的 第一預(yù)定值進(jìn)行比較。
當(dāng)數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)不同于第一預(yù)定值時(shí)，控制單元UC自動地操作電 動才幾，以^更相對于基座1移動所述移動結(jié)構(gòu)元件2并進(jìn)而移動工件 4,從而使得工業(yè)機(jī)器200從加工期間所采用的第二操作構(gòu)造返回 至由操作者所設(shè)計(jì)并設(shè)定的第一操作構(gòu)造，以便在工件4中正確地 力口工孑L。相反，當(dāng)數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)與第一預(yù)定值一致時(shí)，由于所測量的距離d 仍等于第一預(yù)定值，所以控制單元UC不會向電動機(jī)發(fā)送任何命令， 并且由于工業(yè)機(jī)器200保持在第一操作構(gòu)造，因此該加工以正確的
方式進(jìn)行。
以上參照工業(yè)機(jī)器200所討論的結(jié)構(gòu)和功能描述，允許本領(lǐng)域
的技術(shù)人員在該領(lǐng)域簡單知識的基礎(chǔ)上將本發(fā)明的教導(dǎo)應(yīng)用于任 何其他類型的工業(yè)才幾器。
盡管已經(jīng)參照激光自混合干涉儀進(jìn)行了描述，但當(dāng)使用另 一類 型的干涉儀來替代激光自混合干涉儀時(shí)，本發(fā)明的教導(dǎo)也是有效 的，諸如，本身已知的Michelson (邁克爾遜)激光干涉儀，其適 于與靶12光學(xué)地協(xié)作。
Michelson型激光干涉儀包括激光源(諸如，氦-氖頻率穩(wěn)定源)， 用于向移動輩巴產(chǎn)生直4妾電》茲輻射。》匕外，Michelson ;敫光干涉4義例 如包括靜止的回射器和射束分離器，諸如直4妾電萬茲輻射和由移動靶 反射和/或漫射的相應(yīng)電磁輻射的分離和重組(干涉)裝置，以便估 計(jì)草巴相對于所述源的位移(如果存在的話)。Michelson激光干涉儀 與光電探測器和控制單元可操作地相關(guān)聯(lián)，控制單元的操作已經(jīng)通 過參照激光自混合干涉4義20在上文進(jìn)行了描述。
作為激光自混合干涉4義20或Michelson激光干涉儀的替4、，也 可使用適于與耙12光學(xué)地協(xié)作的Doppler (多普勒)激光干涉儀。
例如，這種干涉儀包括用于發(fā)射直接電磁輻射的氦-氖激光器、 射束調(diào)制器/分離器以及組合器，在該組合器中，在來自靶的反射電 磁輻射與由調(diào)制器/分離器從直接電磁輻射所獲得的參考電》茲輻射 之間產(chǎn)生干涉。在US-A-4715706中描述了 Doppler激光千涉4義的實(shí)例?？梢钥吹?，本發(fā)明的目的可以完全得以實(shí)現(xiàn)，原因在于，在此 所描述的工業(yè)機(jī)器包括激光干涉儀，該激光干涉儀適于確保測量不 受與其相關(guān)4關(guān)的軸的幾何變形的影響，因而不同于例如在i殳置有線 性編碼器和光線路的工業(yè)機(jī)器中所發(fā)生的情況。
應(yīng)當(dāng)注意的是，有利地，激光干涉儀與靶之間距離的測量對局 部結(jié)構(gòu)的變形不敏感，并且同時(shí)確保了僅對與移動軸線剛性一體的 靶的動態(tài)位移進(jìn)行監(jiān)測，而該動態(tài)位移又由所設(shè)定的位移和由幾何 改變所引起的位移的組合給定。
此外，該工業(yè)才幾器的構(gòu)造(其通過合適的》茲型固定系統(tǒng)將光電 測量系統(tǒng)整體地固定至基座1)不同于現(xiàn)有技術(shù)中整合線性編碼器 的工業(yè)機(jī)器的構(gòu)造，因?yàn)闊o論干涉儀與靶之間的距離如何，此構(gòu)造
在{氐成本下具有4交大的測量適應(yīng)性。
包括使用激光自混合干涉儀的方案是尤其有利的，因?yàn)槠涔?jié)省 成本且容易安裝，并由于干涉儀所設(shè)置的光學(xué)部件數(shù)量少，從而可 確保良好的效果和測量精度。
例如與如上所述的現(xiàn)有技術(shù)線性編碼器相比，由使用激光干涉 儀所獲得的另一個優(yōu)點(diǎn)是選擇其構(gòu)造時(shí)的通用性，其可以適于適應(yīng) 工業(yè)一幾器的幾何形狀。
使用激光干涉儀的光電裝置在根據(jù)所要執(zhí)行的測量選擇靶的 定位上進(jìn)一步提供了更大的自由。為此，可以考慮將(反射或漫射) 靶定位在盡可能靠近工件的位置。這可能帶來很大的優(yōu)點(diǎn)，因?yàn)槠?使由關(guān)注點(diǎn)(工件)與測量點(diǎn)(反射靶)之間發(fā)生的幾何變形所引 起的測量誤差最小化。應(yīng)當(dāng)注意的是，還有利的是，激光干涉儀不僅可以在加工工件 期間使用，而且還可以如上所述在機(jī)器的一般操作期間使用，以,及 還用于才交準(zhǔn)干涉儀所固定或通常相關(guān)聯(lián)的工業(yè)沖幾器。
此外，有利地且還更具體地，激光自混合干涉4義允許通過單個
干涉測量通道立即獲知耙的組件(module)和位移方向。
另 一優(yōu)點(diǎn)是，目前市場上可以非常低的成本買到用于激光自混 合干涉測量所需要的光電部件(諸如，半導(dǎo)體二極管)，并且這些 光電部件顯示出經(jīng)久的操作可靠性和耐用性。特別地，除了具有低 成本以外，這些裝置具有很好的緊湊性和魯^奉性，從而使得自混合 干涉4義在典型的工業(yè)工作環(huán)境中是理想的。
此夕卜，應(yīng)當(dāng)考慮到Michelson和Doppler激光干涉4義也可市場 上買到，并且在這些應(yīng)用中也可以提供良好的性能和被證實(shí)的可靠 性，因此，它們也旨在包含于本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種工業(yè)機(jī)器(200)，包括-移動結(jié)構(gòu)元件(2)，用于在所述機(jī)器(200)的相應(yīng)操作構(gòu)造中采用不同位置；-第一參考軸線(a1)與第二參考軸線(a2)之間的距離(d)的光電測量裝置(11，12)，所述第二參考軸線與所述結(jié)構(gòu)元件(2)相關(guān)聯(lián)；其特征在于，所述光電測量裝置(11，12)包括彼此光耦合且各自與其中一個所述參考軸線相關(guān)聯(lián)的激光干涉儀(20)和測量反射靶(12)，所述激光干涉儀包括激光源，用于向所述靶(12)發(fā)射直接電磁輻射；以及來自所述靶的反射電磁輻射與從所述直接電磁輻射所獲得的參考電磁輻射之間的干涉裝置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)機(jī)器(200 )，進(jìn)一步包括控制單元(UC),所述控制單元產(chǎn)生作為所述測量距離(d)函數(shù)的用 于所述移動結(jié)構(gòu)元件(2)的命令信號，并且所述機(jī)器(200) 基于所述命令信號可以采用所述操作構(gòu)造。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的工業(yè)機(jī)器(200 )，進(jìn)一步包括用于加工 和/或測量工件(4)的裝置(50);所述移動結(jié)構(gòu)元件(2)允 許所述加工和/或測量裝置(50)與所述工4牛(4)之間的多個 相互位置。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的工業(yè)機(jī)器(200 )，其中，所述工件(4 ) 才幾械地連4妄至所述移動結(jié)構(gòu)元件(2 ),以4吏當(dāng)所述工件:故加工 時(shí)4皮移動。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的工業(yè)機(jī)器(200)，其中，所述加工和/ 或測量裝置(50)機(jī)械地連接至所述移動結(jié)構(gòu)元件(2)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)機(jī)器(200 ),其中，所述測量靶(12 ) 安裝至所述移動結(jié)構(gòu)元件(2),而所述干涉儀(20)是的并且 與所述第一參考軸線Ul)相關(guān)聯(lián)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)機(jī)器(200 ),其中，所述干涉儀(20 ) 安裝至所述移動結(jié)構(gòu)元件(2 ),而所述測量靶(12 )是靜止的 并且與所述第一參考軸線(al)相關(guān)聯(lián)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)機(jī)器(200 ),進(jìn)一步包括用于所述 移動結(jié)構(gòu)元件(2)的支撐基座(1),所述移動結(jié)構(gòu)元件(2) 才艮據(jù)所述工業(yè)才幾器(200)的移動軸線(X)可滑動地連4妻至 所述基座(1 )。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的工業(yè)機(jī)器(200 ),其中，所述激光干涉 儀(20)固定至所述基座(1)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)機(jī)器(200)，其中，所述光電測量 裝置(ll， 12)進(jìn)一步包括光電探測器(21 ),所述光電探測 器適于接收由所述激光干涉儀(20)提供的干涉光信號(SO) 并適于將所述干涉光信號轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的第一電信號(SE1 )。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的工業(yè)機(jī)器(200),其中，所述光電測 量裝置(ll， 12)進(jìn)一步包4舌處理單元(UP),所述處理單元適于接收和處理所述第一電信號(SE1)以纟是供表示所述測量 距離(d)的第二電信號(SE2)。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的工業(yè)機(jī)器(200)，其中，所述控制單 元(UC)適于接收所述第二電信號(SE2)以控制用于所述 移動結(jié)構(gòu)元件(2)的移動裝置。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的工業(yè)機(jī)器(200),其中，所述移動裝 置包括機(jī)械地連接至所述移動結(jié)構(gòu)元件(2)的電動才幾。
14. 根據(jù)權(quán)利要求2和11所述的工業(yè)機(jī)器(200),其中，所述控 制單元(UC)適于接收所述第二電信號(SE2)以控制用于 所述工件(4)的所述加工和/或測量裝置(50)。
15. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)機(jī)器(200 )，進(jìn)一步包括用于保護(hù) 所述干涉儀(20)的輸出端口和所述測量靶(12)的且具有可 變長度的結(jié)構(gòu)(60)，所述結(jié)構(gòu)(60)的一端連接至所述移動 結(jié)構(gòu)元件(2),并/人所述輸出端口延伸至所述測量靶(12)， 以限定電石茲輻射可以傳^番的內(nèi)部區(qū)域。
16. 才艮據(jù)4又利要求15所述的工業(yè)才幾器(200)，其中，所述保護(hù)結(jié) 構(gòu)(60)包括可伸縮地互相連接的多個管狀元件。
17. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的工業(yè)^UI (200),其中，所述保護(hù)結(jié) 構(gòu)(60)為波紋管類型的。
18. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的工業(yè)機(jī)器(200)，其中，所述加工和/ 或測量裝置(50)包括用于加工所述工件(4)的枳4成工具。
19. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的工業(yè)機(jī)器(200),其中，所述加工和/ 或測量裝置(50)包括測量探針。
20. 根據(jù)權(quán)利要求18和19所述的工業(yè)機(jī)器(200 )，其中，所述加 工和/或測量裝置(50)包括所述加工工具和所述測量探針。
21. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的工業(yè)機(jī)器(200),其中，所述光電探 測器(21 )是光電二極管。
22. 根據(jù)前述權(quán)利要求中的至少一項(xiàng)所述的工業(yè)機(jī)器(200),其中， 所述激光干涉儀(20 )包括半導(dǎo)體激光二極管或氦-氖激光器。
23. 根據(jù)前述權(quán)利要求中的至少一項(xiàng)所述的工業(yè)機(jī)器(200 ),其中， 所述激光干涉儀(20)是激光自混合干涉儀。
24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的工業(yè)機(jī)器(200)，其中，所述激光自 混合干涉儀(20)的激光源是這樣的在所述直接電》茲輻射與 來自所述靶(12 )的反射電磁輻射之間限定千涉腔。
25. 4艮據(jù)片又利要求8和24所述的工業(yè)才幾器(200 ),其中，所述直 接電磁輻射具有平行于所述移動軸線(X)的傳播方向。
26. 根據(jù)權(quán)利要求1至22中的至少一項(xiàng)所述的工業(yè)機(jī)器(200), 其中，所述激光干涉4義(20 )為Michelson ;敫光千涉4義或Doppler 激光干涉儀。
27. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)機(jī)器(200 ),其中，所述光電測量 裝置(ll, 12)進(jìn)一步包括至少一個第二激光干涉儀，所述至 少一個第二激光干涉儀光耦合至所述測量靶。
28. 根據(jù)前述權(quán)利要求中的至少一項(xiàng)所述的工業(yè)機(jī)器(200),進(jìn)一 步包括用于測量可與所述工業(yè)才幾器的相應(yīng)結(jié)構(gòu)部件相關(guān)聯(lián)的 其他參考軸線之間的距離的其他裝置，其中，所述測量距離可 以與通過所述激光干涉儀測量的距離(d)結(jié)合在一起。
29. 根據(jù)權(quán)利要求28所述的工業(yè)機(jī)器(200)，其中，所述其他測 量裝置在包括角度編碼器、解算器、線性編碼器的組中。
30. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)機(jī)器(200 )，其中，所述激光干涉 儀(20)可以用于4交準(zhǔn)所述工業(yè)才幾器(200)。
31. 根據(jù)前述權(quán)利要求中的至少一項(xiàng)所述的工業(yè)機(jī)器(200 )，其中， 所述工業(yè)機(jī)器在包括機(jī)床、激光切割機(jī)、坐標(biāo)測量機(jī)、壓力水 射流才幾、移動或梯j從才幾、裝配才幾的組中。
全文摘要
本發(fā)明描述了一種工業(yè)機(jī)器(200)，包括移動結(jié)構(gòu)元件(2)，用于在機(jī)器(200)的相應(yīng)操作構(gòu)造中采用不同位置；第一參考軸線(a1)第二參考軸線(a2)之間的距離(d)的光電測量裝置(11，12)，所述第二參考軸線與所述結(jié)構(gòu)元件(2)相關(guān)聯(lián)；其特征在于，所述光電測量裝置(11，12)包括彼此光耦合且各自與其中一個所述參考軸線相關(guān)聯(lián)的激光干涉儀(20)和測量反射靶(12)，所述激光干涉儀包括用于向所述靶(12)發(fā)射直接電磁輻射的激光源、以及來自所述靶的反射激光輻射與從直接電磁輻射所獲得的參考電磁輻射之間的干涉裝置。
文檔編號B23Q17/24GK101583462SQ200680056547
公開日2009年11月18日 申請日期2006年11月8日 優(yōu)先權(quán)日2006年11月8日
發(fā)明者巴西利奧·韋肖, 弗朗切斯科·梅扎佩薩, 科斯坦蒂諾·弗洛里奧, 詹盧卡·瓜達(dá)尼奧, 詹皮耶羅·內(nèi)格里 申請人:辛迪斯股份公司