專利名稱：激光刻劃薄膜太陽(yáng)能電池面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于激光刻劃薄膜太陽(yáng)能電池面板的設(shè)備與方法。

背景技術(shù)：
薄膜太陽(yáng)能電池面板或模組通常包括配置于玻璃基板上的透明前電極、包含PN 或PIN結(jié)的光伏有源層(photovoltaically active layer)、和后電極。前電極通常是透明的金屬氧化物，諸如錫氧化物或鋅氧化物。最簡(jiǎn)單的PIN結(jié)包括用ρ型摻雜物來(lái)?yè)诫s以形成P層的半導(dǎo)體材料層、形成本征或I層的未摻雜半導(dǎo)體材料層、用η型摻雜物來(lái)?yè)诫s以形成N層的半導(dǎo)體材料層。入射在基板上的光通過基板、前電極和光伏層，而電壓在前電極與后電極之間產(chǎn)生。制造此類薄膜太陽(yáng)能電池板的通常方法利用激光在上面提到的前電極、半導(dǎo)體層與后電極中形成一系列通常平行的槽或刻劃線來(lái)將面板劃分成一批獨(dú)立的、串聯(lián)連接的電池。在如US2008/0105303所記載的方法中，激光束在面板各處掃描以形成平行的刻劃線。 在另一方法中，通過在激光束下移動(dòng)包含光伏層與電極的基板來(lái)形成刻劃線。這些已知的刻劃過程往往緩慢。雖然在薄膜太陽(yáng)能面板上形成平行刻劃線的技術(shù)在發(fā)展，但需要一種用于滿足此類太陽(yáng)能面板的批量生產(chǎn)需求的新設(shè)備和使用方法。

發(fā)明內(nèi)容
下面呈現(xiàn)簡(jiǎn)化概要以提供對(duì)本發(fā)明的基本理解。此概要并不廣泛概述發(fā)明且不欲標(biāo)示發(fā)明的關(guān)鍵特征。確切的說，是以一般形式將本發(fā)明的一些發(fā)明構(gòu)想呈現(xiàn)為隨后詳細(xì)說明的序幕。本發(fā)明尋求提供一種在制造太陽(yáng)能電池面板中用于激光刻劃薄膜的系統(tǒng)與方法。在一實(shí)施例中，本發(fā)明提供一種系統(tǒng)，其包含輸入?yún)^(qū)段；輸出區(qū)段；介于輸入?yún)^(qū)段與輸出區(qū)段之間的處理區(qū)段；與線性驅(qū)動(dòng)器相關(guān)聯(lián)的可操作以?shī)A住工件的夾持器，其中所述線性驅(qū)動(dòng)器可操作以在所述輸入與輸出區(qū)段之間平移(translate)所述工件；以及兩或更多個(gè)激光源，配置于所述處理區(qū)段的下部分使得所述工件在所述輸入與輸出區(qū)段之間平移時(shí)，每一激光源可操作以向上發(fā)射激光束穿過所述工件的透明基板來(lái)刻劃所述薄膜太陽(yáng)能面板的相應(yīng)層，其中在形成每一刻劃線之后每一激光源獨(dú)立可轉(zhuǎn)位(index)以使得所述相應(yīng)薄膜層被劃分成實(shí)質(zhì)上平行且彼此電氣隔離的條紋。在另一實(shí)施例中，本發(fā)明提供一種方法，其包括將具有向下朝向的所述透明基板的工件載入第一機(jī)器的輸入站中；偏移(bias)所述工件的參考邊緣頂住與線性驅(qū)動(dòng)器相關(guān)聯(lián)的前與后阻擋器，其中所述線性驅(qū)動(dòng)器可操作以在所述輸入站與輸出站之間平移工件；在所述輸入站與輸出站之間來(lái)回平移工件，并以第一頻率實(shí)質(zhì)上垂直地發(fā)射兩或更多個(gè)激光束穿過所述輸入與輸出站之間的空間以穿過所述工件的所述透明基板，以參照與所述前與后阻擋器接觸的所述工件的邊緣在所述前電極上刻劃平行線，其中所述每一激光束自一單獨(dú)的激光源輸出；以及使所述兩或更多個(gè)激光源轉(zhuǎn)位并重復(fù)在所述輸入與輸出站之間來(lái)回平移所述工件直到整個(gè)前電極被劃分成彼此電氣隔離的平行條紋。本發(fā)明的方法進(jìn)一步包括將在前電極形成有平行條紋的所述工件載入第二機(jī)器的輸入站中；偏移所述工件頂住前阻擋器與后可調(diào)阻擋器，所述前阻擋器與后可調(diào)阻擋器與類似于所述第一機(jī)器的線性驅(qū)動(dòng)器的線性驅(qū)動(dòng)器相關(guān)聯(lián)，其中所述線性驅(qū)動(dòng)器可操作以在所述輸入站與輸出站之間平移所述工件；通過使用配置于所述工件的前邊緣處的攝像機(jī)和配置于所述后可調(diào)阻擋器附近處的另一攝像機(jī)來(lái)判定實(shí)現(xiàn)平行所需要的修正，以將所述前電極上的刻劃線Lpl與所述線性驅(qū)動(dòng)器對(duì)準(zhǔn)；在所述輸入站與輸出站之間來(lái)回平移所述工件并以第二頻率實(shí)質(zhì)上垂直地發(fā) 射兩或更多個(gè)激光束穿過所述輸入與輸出站之間的空間以穿過所述工件的所述透明基板，以參照所述前電極上的所述刻劃線Lpl在所述半導(dǎo)體層或后電極上刻劃平行線Lp2、Lp3，其中所述每一激光束自一單獨(dú)激光源輸出；以及使所述兩或更多個(gè)激光源轉(zhuǎn)位并重復(fù)在所述輸入與輸出站之間來(lái)回平移工件直到整個(gè)半導(dǎo)體層或后電極被劃分成彼此電氣隔離的平行條紋。在本發(fā)明的另一實(shí)施例中，該方法包括將具有向下朝向的所述透明基板的工件載入機(jī)器的輸入站中；偏移所述工件頂住與線性驅(qū)動(dòng)器相關(guān)聯(lián)的前阻擋器與后可調(diào)阻擋器，其中所述線性驅(qū)動(dòng)器可操作以在所述輸入站與輸出站之間平移所述工件；通過使用配置于所述工件的前邊緣處的攝像機(jī)C1-C4和配置于所述后可調(diào)阻擋器附近處的另一攝像機(jī)C5來(lái)判定實(shí)現(xiàn)所述參考線與所述線性驅(qū)動(dòng)器之間的平行所需要的修正，以將所述工件的參考邊緣上的參考線與所述線性驅(qū)動(dòng)器對(duì)準(zhǔn)；在所述輸入站與輸出站之間來(lái)回平移所述工件，并以第一頻率實(shí)質(zhì)上垂直地發(fā)射兩或更多個(gè)激光束穿過所述輸入與輸出站之間的空間、穿過所述工件的所述透明基板以在所述前電極上刻劃平行線，其中所述每一激光束自一單獨(dú)激光源輸出；使所述兩或更多個(gè)激光源轉(zhuǎn)位并重復(fù)在所述輸入與輸出站之間來(lái)回平移所述工件直到整個(gè)前電極被劃分成彼此電氣隔離的平行條紋；通過使用配置于所述工件的前邊緣處的攝像機(jī)C1-C4和配置于所述后可調(diào)阻擋器附近處的另一攝像機(jī)C5來(lái)判定實(shí)現(xiàn)平行所需要的修正，以將前電極上的刻劃線Lpl與所述線性驅(qū)動(dòng)器對(duì)準(zhǔn)；在所述輸入站與輸出站之間來(lái)回平移所述工件，并以第二頻率實(shí)質(zhì)上垂直地發(fā)射兩或更多個(gè)激光束穿過所述輸入與輸出站之間的空間、穿過所述工件的所述透明基板以在所述半導(dǎo)體層或后電極上刻劃平行線Lp2、Lp3 ；其中所述每一激光束自一單獨(dú)激光源輸出；以及使所述兩或更多個(gè)激光源轉(zhuǎn)位并重復(fù)在所述輸入與輸出站之間來(lái)回平移工件直到整個(gè)半導(dǎo)體層或后電極被劃分成彼此電氣隔離的平行條紋。在一實(shí)施例中，每一激光源是通過單獨(dú)的滾珠螺桿與相關(guān)聯(lián)的電動(dòng)機(jī)獨(dú)立可轉(zhuǎn)位的。在另一實(shí)施例中，后阻擋器是通過滾珠螺桿與相關(guān)聯(lián)的電動(dòng)機(jī)可調(diào)的。在另一實(shí)施例中，工件平行對(duì)準(zhǔn)是用模擬(dummy)工件手動(dòng)實(shí)施的；在另一個(gè)中，攝像機(jī)或多個(gè)攝像機(jī)安裝于橫向于所述刻劃線配置的獨(dú)立電動(dòng)(motorized)軸上，且工件平行對(duì)準(zhǔn)是被自動(dòng)實(shí)施的。在又一實(shí)施例中，工件平行對(duì)準(zhǔn)與激光源/攝像機(jī)對(duì)準(zhǔn)是用精密夾具(precision jig) 來(lái)實(shí)施的。圖示簡(jiǎn)要說明參考附圖，本發(fā)明將以對(duì)本發(fā)明的非限制性實(shí)施例方式來(lái)描述，其中圖IA顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于激光刻劃前電極的設(shè)備；圖IB繪示圖IA中所示設(shè)備的端視圖(end view)，而圖IC繪示所述設(shè)備的側(cè)視圖；圖2A顯示圖IA中所示設(shè)備的方塊圖，而圖2B顯示第一激光刻劃過程的方塊圖； 圖2C顯示經(jīng)第一激光刻劃過程后的基板；圖3A顯示根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的用于激光刻劃半導(dǎo)體層與后電極的設(shè)備， 而圖3B繪示圖3A中所示設(shè)備的端視圖；圖4A顯示在圖3中所示設(shè)備的方塊圖；圖4B和4C顯示第二激光刻劃過程的方塊圖；圖5A-5B顯示第三激光刻劃過程的方塊圖；和圖6A顯示用于激光刻劃前電極的流程；和圖6B繪示用于激光刻劃半導(dǎo)體層與后電極的流程。詳細(xì)說明現(xiàn)在將參考附圖描述本發(fā)明的一或多個(gè)特定的和可選擇的實(shí)施例。然而，熟于此技者將顯見的是，本發(fā)明可在沒有這些特定細(xì)節(jié)的情況下實(shí)施。一些細(xì)節(jié)可能不會(huì)詳盡描述以便不會(huì)使本發(fā)明模糊。為便于參考，當(dāng)涉及圖中共有的相同或類似特征時(shí)，在圖中將始終使用共同的參考數(shù)字或數(shù)字序列。圖IA顯示根據(jù)發(fā)明的實(shí)施例的激光刻劃設(shè)備100的頂部透視圖。如

圖1A-1C中所示，激光刻劃設(shè)備100包括框架110?？蚣?10具有上平臺(tái)112、下平臺(tái)114及和將上平臺(tái)112連接至下平臺(tái)114的多個(gè)柱116，如圖IA和圖IB中可見，設(shè)備100的左手側(cè)是輸入?yún)^(qū)段102，外部輸送器可對(duì)接至輸入?yún)^(qū)段102 ；右手側(cè)是設(shè)備的輸出區(qū)段104。在輸入?yún)^(qū)段 102與輸出區(qū)段104的每一個(gè)中，有兩行各自的空氣軸承122、124。優(yōu)選地，輸入空氣軸承 122與輸出空氣軸承124成一直線使得工件W，例如635mmX 1400mm的玻璃基板S，在基板與輸入/輸出空氣軸承122、124之間的空氣墊上可移動(dòng)。在兩輸入空氣軸承122之間有輸入拉具132 ；在該輸出空氣軸承124之間有輸出推具134。輸入拉具132與輸出推具134可操作以在各自的區(qū)段中線性行進(jìn)以沿各自的空氣軸承拉或推工件W。如圖IA中看到的設(shè)備 100的遠(yuǎn)側(cè)，即工件W的左手側(cè)，有線性驅(qū)動(dòng)器140。線性驅(qū)動(dòng)器140按由圖IA中所示的右手坐標(biāo)系統(tǒng)所指出的χ方向自輸入?yún)^(qū)段102延伸至輸出區(qū)段104使得線性驅(qū)動(dòng)器140基本上與輸入拉具132和輸出推具134平行。線性驅(qū)動(dòng)器140具有至少兩個(gè)與其相連接的在空間上分開的夾持器144。當(dāng)工件正漂浮于輸入空氣軸承122與輸出空氣軸承124上時(shí)，夾持器144可操作以?shī)A住工件W的左手邊緣并在輸入?yún)^(qū)段102與輸出區(qū)段104之間來(lái)回傳遞。 在上平臺(tái)112之上且介于輸入?yún)^(qū)段102與輸出區(qū)段104之間有門架160。門架160具有跨距以允許工件W在輸入?yún)^(qū)段102與輸出區(qū)段104之間無(wú)阻礙移動(dòng)?；旧显陂T架160之下且在下平臺(tái)114上有四個(gè)激光源150。每一激光源150向上發(fā)射經(jīng)過輸入?yún)^(qū)段102與輸出區(qū)段104之間的空間的激光束以刻劃工件W。激光源150獨(dú)立地可操作以相對(duì)于工件W的左手邊緣以預(yù)定節(jié)距(pitch) di橫向地轉(zhuǎn)位(index)，即沿圖IA中所示的負(fù)y方向橫向地轉(zhuǎn)位，以使得在關(guān)于太陽(yáng)能電池面板的三個(gè)各自的主層上的第一、第二和第三激光刻劃過程P1、P2、P3中、并在工件W上的四段B1-B4內(nèi)形成基本上平行的刻劃線Lpl、Lp2、Lp3。在門架160上提供與四個(gè)激光源150相關(guān)聯(lián)的四個(gè)吸嘴162以移除激光刻劃過程中所產(chǎn)生的任何廢棄物。有兩固定阻擋器142與線性驅(qū)動(dòng)器140相關(guān)聯(lián)，此兩固定阻擋器142頂住工件W如圖IA中所見的遠(yuǎn)側(cè)或左手側(cè)。為了確保工件W始終與固定阻擋器142接觸，在輸入?yún)^(qū)段 102的右手側(cè)上提供兩彈簧承載輥146以偏移工件頂住固定阻擋器142。一旦工件被偏移頂住固定阻擋器142，夾持器144可操作以?shī)A住工件W的左手邊緣以將工件在輸入與輸出區(qū)段102、104之間以恒定速度平移以在其上激光刻劃平行線Lpl、Lp2、Lp3。在工件上形成平行線Lpl之后，橫向于平行刻劃線Lpl分別形成前隔離線Lf與后隔離線Lr。在輸出區(qū)段 104用一電阻測(cè)試器190檢查諸隔離的前電極的條紋以確保每一條紋是與其它條紋電氣隔離的。在執(zhí)行刻劃過程P1、P2、P3中的每一者之后，自輸出區(qū)段104移除每一工件W以供清洗或進(jìn)一步處理。為清楚起見，圖2A-2B針對(duì)前電極上的第一激光刻劃過程Pl以平面視圖顯示設(shè)備 100的一些部件的方塊圖。如圖2A中所示，當(dāng)在設(shè)備100的輸入?yún)^(qū)段102接收頂側(cè)形成有前電極且朝向門架160的基板S時(shí)，輸入拉具132，諸如可操作以從縮回位置延伸以?shī)A住基板S的夾持器，與基板S的前端(leading end)接合并將基板拉入輸入?yún)^(qū)段102至輸入停止位置133。輸入停止位置133通過位置傳感器的啟用來(lái)界定，諸如光電傳感器。當(dāng)基板S 到達(dá)輸入停止位置133時(shí)，基板S被彈簧承載輥146偏移頂住固定阻擋器142。當(dāng)基板S的前邊緣在輸入停止位置133時(shí)，對(duì)基板S的夾持自輸入拉具132改變至線性驅(qū)動(dòng)器140上的夾持器144。一旦線性驅(qū)動(dòng)器140上的夾持器144夾緊基板S，輸入拉具132釋放其夾持 (grip)并且輸入拉具132縮回，例如氣動(dòng)地；線性驅(qū)動(dòng)器140的相應(yīng)位置由與線性驅(qū)動(dòng)器 140相關(guān)聯(lián)的伺服電動(dòng)機(jī)141 (圖中未顯示)表示為起始H位置。一旦基板S被夾持器144 夾緊，當(dāng)基板S受空氣軸承122、124支撐時(shí)，基板S可操作以在輸入與輸出區(qū)段102、104之間平移。自起始H位置，夾持器144和線性驅(qū)動(dòng)器140將基板S轉(zhuǎn)位至過程開始Ps位置。 基板S的運(yùn)動(dòng)行程由過程開始Ps位置與過程結(jié)束Pe位置界定。Ps與Pe位置在伺服電動(dòng)機(jī)141中設(shè)定/編碼。一旦在前電極上的四段B1-B4的每一者中，即在過程開始Ps位置與過程結(jié)束Pe位置之間形成刻劃線Lpl，按如圖IA和2A中所示的坐標(biāo)系統(tǒng)所指出的負(fù)y方向以節(jié)距di來(lái)使激光源150轉(zhuǎn)位，接著平行于各自先前的刻劃線Lpl在四段B1-B4中的每一者中形成新刻劃線LP1。通過在形成激光刻劃線之后使激光源150轉(zhuǎn)位并重復(fù)過程P1， 按統(tǒng)一節(jié)距di配置的線Lpl刻劃了整個(gè)基板S，使得前電極物理地和電氣地被隔離成基本上具有統(tǒng)一寬度的平行條紋。在一實(shí)施例中，節(jié)距di約為IOmm和Lpl刻劃線的寬度約為40-50微米。在一范例中，當(dāng)基板為635mm寬X 1. 4m長(zhǎng)時(shí)，每一段B1-B4為150mm寬且具有15條Lpl刻劃線。 在另一范例中，當(dāng)基板為1. Im寬X 1.4m長(zhǎng)時(shí)，每一段B1-B4為270mm寬且具有27條Lpl 刻劃線。在圖2A-2B所示設(shè)備的一實(shí)施例中，在每一激光刻劃過程Pl之后，線性驅(qū)動(dòng)器140 將夾持器144移回至過程開始Ps位置，且所述刻劃如圖2A中所見自右至左實(shí)施；在另一實(shí)施例中，激光刻劃過程Pl自一端開始且自基板的相對(duì)端重新開始，即刻劃是在左右方向皆實(shí)施。在圖IA和圖2A所示設(shè)備的又一實(shí)施例中，左手側(cè)阻擋器142a為可調(diào)的。可調(diào)左手側(cè)阻擋器142a被驅(qū)動(dòng)，例如由電動(dòng)機(jī)142b和滾珠螺桿142c驅(qū)動(dòng)；在一實(shí)施例中，電動(dòng)機(jī) 142b是伺服電動(dòng)機(jī)。在基板S的前部邊緣(leading end)附近處提供攝像機(jī)Cl以監(jiān)測(cè)每一基板的左手邊緣、每一基板S的左手邊緣附近處的預(yù)標(biāo)記參考線或基準(zhǔn)點(diǎn)(fiducial)。在可調(diào)左手側(cè)阻擋器142a附近處提供另一攝像機(jī)C5來(lái)監(jiān)測(cè)基板S的后部左手邊緣、基板S 的后部左手邊緣附近處的預(yù)標(biāo)記參考線或基準(zhǔn)點(diǎn)。基板S的左手邊緣、基板S的左手邊緣附近處的預(yù)標(biāo)記參考線或基準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)相對(duì)于線性驅(qū)動(dòng)器140的平行是通過借助于攝像機(jī)Cl、 C5測(cè)量左手邊緣/左手參考線/基準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)的偏差來(lái)判定。如果左手邊緣/參考線/基準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)不平行于線性驅(qū)動(dòng)器140，這通過參考右手阻擋器142來(lái)調(diào)整可調(diào)左手阻擋器142a的位置來(lái)修正。為修正可調(diào)左手阻擋器142a的位置，電動(dòng)機(jī)142b被程序化成使相應(yīng)的滾珠螺桿142c旋轉(zhuǎn)適當(dāng)轉(zhuǎn)數(shù)以使得基板邊緣/基板S上的預(yù)標(biāo)記參考線/基準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)平行于線性驅(qū)動(dòng)器140，因而欲刻劃的Lpl線平行于左手邊緣/每一基板S上的左手參考線/每一基板S上的基準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)。此平行修正定期地實(shí)施?？蛇x擇地，可對(duì)每批基板S實(shí)施此平行判定與修正。在另一實(shí)施例中，電動(dòng)機(jī)142b是步進(jìn)電動(dòng)機(jī)。在又一實(shí)施例中，電動(dòng)機(jī)142b是壓電電動(dòng)機(jī)；壓電電動(dòng)機(jī)可直接連接至可調(diào)阻擋器142a。如所述，激光源150可操作以橫向于刻劃線Lpl、Lp2的方向但彼此獨(dú)立地以節(jié)距 di轉(zhuǎn)位。在平行于基板邊緣/基板上的預(yù)標(biāo)記參考線/基板上的基準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)來(lái)刻劃直線的另一方法中，激光源150可以預(yù)定速率轉(zhuǎn)位，例如，以補(bǔ)償在設(shè)定兩固定阻擋器142時(shí)所產(chǎn)生的任何錯(cuò)誤；此錯(cuò)誤由攝像機(jī)C1、C5來(lái)判定，且在P1、P2、P3刻劃過程期間動(dòng)態(tài)地實(shí)施平行修正。激光源150可安裝于在線性導(dǎo)軌上可移動(dòng)的平臺(tái)上；這允許激光源150與相關(guān)聯(lián)的平臺(tái)移出它們的位置，例如為了易于維護(hù)。在另一實(shí)施例中，有兩個(gè)或更多個(gè)此類平臺(tái)使得一個(gè)或更多個(gè)激光源150可沿與其它激光源不同的方向移動(dòng)以更易于維護(hù)。圖2C顯示基板S，基板S的前電極在經(jīng)受Pl刻劃過程后被劃分成基本上統(tǒng)一寬度的平行條紋，在Pl刻劃過程中激光源150發(fā)射約1064nm波長(zhǎng)的激光束。在Pl過程末尾， 如果夾持器144最后處于過程開始Ps位置，線性驅(qū)動(dòng)器140使夾持器144和基板S轉(zhuǎn)位至前隔離Pf位置。前隔離Pf位置是一短于過程開始Ps位置的預(yù)定距離，例如10mm。當(dāng)基板 S在Pf位置，激光源150中的每一者轉(zhuǎn)位至各自的左手行進(jìn)位置。接著激光源150被操作以發(fā)射各自的激光束至基板上，同時(shí)在激光源150根據(jù)圖2C中所示箭頭按自左手至右手的方向以恒定速度轉(zhuǎn)位時(shí)，以使得在基板S的前邊緣形成連續(xù)隔離線Lf，如圖2C中所示。在形成前隔離線Lf之后，線性驅(qū)動(dòng)器140使夾持器144與基板S轉(zhuǎn)位至后隔離Pr位置。后隔離Pr位置是一短于過程結(jié)束Pe位置的預(yù)定距離，例如10mm。接著激光源150被操作以發(fā)射各自的激光束至基板S上，同時(shí)激光源150在按自左手至右手的方向轉(zhuǎn)位，以使得在基板S的后端形成連續(xù)后隔離線Lr。 可選擇地，在Pl過程末尾，激光源150仍處于它們各自的右手行進(jìn)位置，且如果基板S在前隔離Pf位置，則激光源150發(fā)射光并按如圖2C所見的自右手至左手的方向以恒定的速度轉(zhuǎn)位。在刻劃前隔離線Lf之后，線性驅(qū)動(dòng)器140使夾持器144轉(zhuǎn)位至后隔離Pr 位置，且接著激光源150發(fā)射光并按自左手至右手的方向以恒定速度轉(zhuǎn)位?？蛇x擇地，激光源150移回至各自的起始位置，且在刻劃Lf與Lr隔離線時(shí)，它們按自左手至右手的方向轉(zhuǎn)位。 圖3A顯示根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的激光刻劃設(shè)備100a。圖3B顯示設(shè)備IOOa 的端視圖。如圖3A與3B中所示，激光刻劃設(shè)備IOOa與第一刻劃設(shè)備100在后部可調(diào)阻擋器142a上類似，除了激光刻劃設(shè)備IOOa具有安裝于門架160上的額外攝像機(jī)C1-C4。攝像機(jī)C1-C4與四個(gè)各自的激光源150相關(guān)聯(lián)。激光刻劃設(shè)備IOOa可適合于P2與P3刻劃過程，且在欲劃刻線的平行需要參照前一刻劃線進(jìn)行監(jiān)測(cè)與修正時(shí)是有利的。例如，在前電極被劃分成平行條紋且在前電極的條紋上形成PN結(jié)/半導(dǎo)體層之后，已被部分地處理的工件 W被傳遞至設(shè)備IOOa的輸入?yún)^(qū)段102上。接著輸入拉具132將工件W拉至輸入停止133位置，且進(jìn)而彈簧承載輥146推動(dòng)工件W頂住左手側(cè)阻擋器142、142a。當(dāng)工件的前邊緣在輸入停止位置133時(shí)，對(duì)工件的夾持自輸入拉具132改變至夾持器144。一旦線性驅(qū)動(dòng)器140 上的夾持器144夾住工件W，輸入拉具132釋放其夾持(grip)且輸入拉具縮回。首先進(jìn)行平行設(shè)定以將先前在前電極上形成的刻劃線Lpl與線性驅(qū)動(dòng)器140對(duì)準(zhǔn)。在平行設(shè)定中， 夾持器144沿線性驅(qū)動(dòng)器平移工件W，且攝像機(jī)Cl與C5自后邊緣判定在工件的前邊緣的刻劃線Lpl的偏差的數(shù)量和側(cè)(若有的話)。一旦判定偏差，工件W平移至過程開始Ps位置， 且后可調(diào)阻擋器142a的位置被修正以確保在實(shí)施對(duì)PN結(jié)/半導(dǎo)體層的P2刻劃之前，刻劃線Lpl與線性驅(qū)動(dòng)器140平行。類似地，在開始P3刻劃過程之前，進(jìn)行平行設(shè)定以使刻劃線Lp2與線性驅(qū)動(dòng)器140對(duì)準(zhǔn)。通過實(shí)施這些平行設(shè)定，欲刻劃線Lp2、Lp3與先前的相應(yīng)刻劃線Lpl、Lp2的平行基本上是確定的。在平行設(shè)定之后，也修正激光源150相對(duì)于先前刻劃線的位置，在必要時(shí)通過調(diào)整與獲自攝像機(jī)C1-C4的各自偏差相應(yīng)的激光源150而使期望節(jié)距di被維持。替代上面的平行判定與修正，使用模擬基板或工件來(lái)手動(dòng)校準(zhǔn)刻劃線Lp2、Lp2。模擬基板傳遞至輸入?yún)^(qū)段102、102a上。模擬基板的左手邊緣接著被夾持器144夾住并移至過程開始Ps位置。在線性驅(qū)動(dòng)器140將模擬板平移至過程結(jié)束Pe位置時(shí)，所有四個(gè)激光源150發(fā)射光。接著測(cè)量四條刻劃線Lpl、Lp2與左手邊緣/左手參考線/基準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)的平行，并判定節(jié)距。為修正與線性驅(qū)動(dòng)器140的平行，通過使伺服電動(dòng)機(jī)142b旋轉(zhuǎn)適當(dāng)轉(zhuǎn)數(shù)來(lái)調(diào)整可調(diào)阻擋器142a的位置。類似地，調(diào)整每一激光源150的位置以修正線節(jié)距di上的任何錯(cuò)誤?？蓪?duì)每批太陽(yáng)能電池面板實(shí)施此手動(dòng)校準(zhǔn)。在又一實(shí)施例中，提供自動(dòng)的線節(jié)距判定與修正。對(duì)于自動(dòng)的線節(jié)距判定與修正， 攝像機(jī)C1-C4中的每一者安裝于獨(dú)立電動(dòng)的y軸上。為初始設(shè)定攝像機(jī)C1-C5使得工件平行于線性驅(qū)動(dòng)器140且攝像機(jī)C1-C5在它們各自的位置中，使用了精密夾具板。在精密夾具板上，在四段B1-B4中各有一條線對(duì)應(yīng)于激光源150和攝像機(jī)C1-C4中的每一者。四條線基本上彼此平行且與左手邊緣/參考線/基準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)平行。在校準(zhǔn)期間，攝像機(jī)C1-C4捕獲相關(guān)聯(lián)的刻劃線Lpl、Lp2的圖像并行進(jìn)以捕獲相鄰刻劃線的圖像以判定線節(jié)距di。如果線節(jié)距di有錯(cuò)誤，則連接至相應(yīng)攝像機(jī)的電動(dòng)機(jī)的位置通過使其旋轉(zhuǎn)適當(dāng)轉(zhuǎn)數(shù)來(lái)修正。圖4A以平面視圖顯示設(shè)備IOOa的一些部件的方塊圖。圖4B顯示激光源150與前電極上的各自的刻劃線Lpl的對(duì)準(zhǔn)，而圖4C顯示通過穿過基板S與前電極的激光束來(lái)進(jìn)行半導(dǎo)體層的P2刻劃，各自的激光源150自Lpl刻劃線偏移doff。在一實(shí)施例中，在P2刻劃線約60-80微米寬時(shí)，偏移量doff為約100微米。在P2刻劃過程期間，將激光束調(diào)制為較短波長(zhǎng)，例如自約500nm到約600nm，使得激光束穿過基板與前電極二者但被半導(dǎo)體層吸收。半導(dǎo)體層吸收激光能量的結(jié)果是，半導(dǎo)體層燒蝕(ablated)并形成Lp2刻劃線，由此將半導(dǎo)體層劃分成與前電極的條紋平行的具有統(tǒng)一寬度條紋。作為在每一刻劃過程P2、P3開始的上述校準(zhǔn)的補(bǔ)充或替代，在相應(yīng)刻劃過程期間對(duì)比前一刻劃線動(dòng)態(tài)地實(shí)施對(duì)新刻劃線的校準(zhǔn)。
設(shè)備IOOa也用來(lái)參照PN結(jié)/半導(dǎo)體層上的刻劃線Lp2來(lái)刻劃后電極上的線Lp3。 在此過程P3中，后電極的刻劃是通過發(fā)射激光束穿過基板S與前電極以使得激光束被半導(dǎo)體層吸收而進(jìn)行的。由于半導(dǎo)體層的爆炸性燒蝕，半導(dǎo)體層與后電極皆燒蝕，由此形成刻劃線Lp3。參照PN結(jié)/半導(dǎo)體層上的刻劃線Lp2進(jìn)行的后電極上的刻劃線Lp3的操作類似于上面P2刻劃半導(dǎo)體層的描述，因而沒有提供進(jìn)一步的描述。在一實(shí)施例中，當(dāng)Lp3線的寬度為約60-80微米時(shí)，Lp3刻劃線自Lp2線偏移doff約100微米。圖5A顯示激光源150 關(guān)于半導(dǎo)體層上的刻劃線Lp2的對(duì)準(zhǔn)，而圖5B顯示通過激光束進(jìn)行的后電極的刻劃P3，激光束穿過基板S與前電極且使半導(dǎo)體層與后電極燒蝕。在上面半導(dǎo)體層與半導(dǎo)體/后電極的激光刻劃P2、P3中，在四段B1-B4中的每一者內(nèi)形成第一刻劃線Lp2、Lp3之后，線性驅(qū)動(dòng)器140與夾持器144將經(jīng)部分處理的工件移至開始處理Ps位置且如圖4A中所見自右至左實(shí)施激光刻劃P2、P3。在另一實(shí)施例中，在右方向與左方向上均實(shí)施激光刻劃過程P2、P3。在處理整個(gè)工件后，工件W平移至輸出區(qū)段104中以從設(shè)備IOOa移除。圖6A繪示根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的設(shè)備100的處理流程200。如圖6A中所示， 處理流程200在步驟201開始。在下一步驟202，設(shè)備100請(qǐng)求一工件。在步驟204，輸入輸送器(連接至設(shè)備100的輸入?yún)^(qū)段102)響應(yīng)而將工件送入輸入?yún)^(qū)段102。接著，在步驟 206，輸入拉具132夾住工件并將其拉至輸入停止位置133。在步驟208中，輸入拉具夾持器 132釋放其夾持并縮回，且同時(shí)啟用彈簧承載輥146來(lái)偏移工件頂住阻擋器142、142a。接著，在步驟209，線性驅(qū)動(dòng)器140上的夾持器144夾住工件。接著，在步驟210，啟用攝像機(jī) Cl、C5來(lái)捕捉工件與線性驅(qū)動(dòng)器的任何平行偏差。若需要平行修正，則釋放夾持器144，同時(shí)電動(dòng)機(jī)142b調(diào)整可調(diào)阻擋器142a。夾持器144再次啟動(dòng)且攝像機(jī)C1、C5再次捕捉工件與線性驅(qū)動(dòng)器的任何平行偏差；在步驟210可重復(fù)此平行偏差與修正直到工件與線性驅(qū)動(dòng)器140對(duì)準(zhǔn)。一旦工件與線性驅(qū)動(dòng)器140對(duì)準(zhǔn)，線性驅(qū)動(dòng)器140上的夾持器144進(jìn)而夾住經(jīng)對(duì)準(zhǔn)的工件。接著，在步驟217，彈簧承載輥146縮回，且在步驟218，線性驅(qū)動(dòng)器自其起始位置轉(zhuǎn)位至過程開始Ps位置。在步驟220，在過程開始位置啟用激光源150來(lái)發(fā)射各自的激光束至工件上；同時(shí)，啟用線性驅(qū)動(dòng)器140以一恒定速度移動(dòng)。在步驟222，線性驅(qū)動(dòng)器到達(dá)過程結(jié)束Pe位置且停用激光源。在下一步驟224，使激光源150轉(zhuǎn)位至距離為di的下一節(jié)距。在后一步驟 226，重新啟用激光源，同時(shí)線性驅(qū)動(dòng)器140以恒定速度使工件轉(zhuǎn)位回到過程開始Ps位置以刻劃與先前Lpl線平行的另一 Lpl線。在步驟230中重復(fù)刻劃過程Pl直到用統(tǒng)一且平行的線Lpl刻劃了整個(gè)工件。過程Pl之后，在步驟232中，線性驅(qū)動(dòng)器140使工件轉(zhuǎn)位至前隔離 Pf位置。在Pf位置，啟用激光源，同時(shí)沿負(fù)y方向以恒定速度使諸激光源分別轉(zhuǎn)位以刻劃前隔離線Lf。接著，在步驟240，線性驅(qū)動(dòng)器使工件轉(zhuǎn)位至后隔離Pr位置，且啟用激光源來(lái)刻劃后隔離線Lr。在這些步驟之后，在步驟245完成Pl激光刻劃過程。在下一步驟250， 線性驅(qū)動(dòng)器使工件轉(zhuǎn)位至輸出區(qū)段104且在步驟252啟用群電阻(gang resistance)測(cè)試器。接著，步驟260中作出過程Pl后劃分的前電極的條紋是否彼此電氣隔離的決定。若決定為否定的，在步驟264線性驅(qū)動(dòng)器將工件移至其輸出位置之前，在步驟262啟用警報(bào)。如果步驟260中的決定為肯定的，在步驟264工件被移至其輸出位置。一旦工件在輸出位置，在步驟270啟用輸出推具134以?shī)A住工件且在步驟272夾持器144釋放它們的夾持。同時(shí)，在步驟274中作出連接至輸出區(qū)段104的卸載輸送器(圖中未顯示)是否可用的決定。如果步驟274中的決定為否定的，過程200等待可用的卸載輸送器。如果步驟274中的決定為肯定的，輸出推具134將處理工件推至卸載輸送器上并在步驟285中對(duì)另一工件重復(fù)過程200。在處理新工件之前，在步驟280，線性驅(qū)動(dòng)器140使夾持器144轉(zhuǎn)位至輸入?yún)^(qū)段中它們的起始位置。一旦所有的工件都在前電極上刻劃了 Lpl 線，在步驟290結(jié)束過程。圖6B繪示根據(jù)本發(fā)明的又一實(shí)施例的設(shè)備IOOa的處理流程200a。除了攝像機(jī) C1-C4執(zhí)行額外的線對(duì)準(zhǔn)過程和沒有群電阻測(cè)試之外，處理流程200a與流程200類似。為說明目的，類似的處理步驟用類似的參考數(shù)字來(lái)標(biāo)示，且僅描述圖6B中的不同步驟。如圖 6B所示，在步驟210a中，啟用攝像機(jī)C1-C5來(lái)捕獲工件與線性驅(qū)動(dòng)器140的任何平行偏差。 一旦完成工件平行偏差與修正，夾持器144夾住工件。在步驟211中作出激光源150與前一刻劃線是否對(duì)準(zhǔn)的決定。如果決定為否定的，連接至每一激光源150的電動(dòng)機(jī)150a修正與前一刻劃線P1、P2的線對(duì)準(zhǔn)，且接著電動(dòng)機(jī)150a自相應(yīng)的先前P1、P2刻劃線偏移移開各自的激光源。一旦實(shí)施此線對(duì)準(zhǔn)修正與激光偏移，彈簧承載輥146縮回且流程200a繼續(xù)。 在步驟230a，重復(fù)對(duì)所有P2和/或P3的刻劃，且在步驟285a中重復(fù)流程200a直到流程 200a在步驟290a中結(jié)束之前所有工件均被激光刻劃。雖然已描述與繪示了特定實(shí)施例，但理解的是，在不背離本發(fā)明的范圍的情況下可作出許多改變、修改、變化與組合。例如，可使用導(dǎo)螺桿(Ieadscrew)來(lái)代替滾珠螺桿 (ballscrew)，可使用步進(jìn)電動(dòng)機(jī)來(lái)代替伺服電動(dòng)機(jī)，且可使用線性電動(dòng)機(jī)來(lái)代替線性驅(qū)動(dòng)器。此外，激光源可產(chǎn)生相對(duì)于激光源的長(zhǎng)尺寸為縱向的激光束，且鏡用來(lái)使激光束向上彎曲穿過輸入?yún)^(qū)段與輸出區(qū)段之間的空間。雖然已描述了四個(gè)激光源150，但并不如此設(shè)限；可利用兩或更多個(gè)激光源以便實(shí)現(xiàn)合理產(chǎn)量。此外，設(shè)備100、100a被描述用來(lái)處理 635mmX 1400mm面板；處理較大面板，諸如1100X 1400mm面板或更大面板。在輸入?yún)^(qū)段與輸出區(qū)段中的每一者中將需要超過兩列空氣軸承，且機(jī)器的寬度和/或長(zhǎng)度相應(yīng)地改變；此外，提供平行于線性驅(qū)動(dòng)器140的充當(dāng)從屬驅(qū)動(dòng)器的另一線性驅(qū)動(dòng)器。從屬線性驅(qū)動(dòng)器也具有夾持器以確保工件在激光刻劃過程期間不移位。
權(quán)利要求
1.一種用于制造薄膜太陽(yáng)能面板的激光刻劃系統(tǒng)，該系統(tǒng)包含輸入?yún)^(qū)段；輸出區(qū)段；所述輸入與輸出區(qū)段之間的處理區(qū)段；與線性驅(qū)動(dòng)器相關(guān)聯(lián)的、可操作以?shī)A住工件的夾持器，其中所述線性驅(qū)動(dòng)器可操作以在所述輸入與輸出區(qū)段之間平移所述工件；和兩個(gè)或更多個(gè)激光源，配置于所述處理區(qū)段的下部分使得所述工件在所述輸入與輸出區(qū)段之間平移時(shí)，每一激光源可操作以向上發(fā)射激光束穿過所述工件的透明基板來(lái)刻劃所述薄膜太陽(yáng)能面板的相應(yīng)層，在形成每一刻劃線之后每一激光源獨(dú)立可轉(zhuǎn)位以使得所述相應(yīng)薄膜層被劃分成大體上平行且彼此電氣隔離的條紋。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光刻劃系統(tǒng)，其中每一激光源是通過單獨(dú)的滾珠螺桿和相關(guān)聯(lián)的電動(dòng)機(jī)獨(dú)立可轉(zhuǎn)位的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的激光刻劃系統(tǒng)，其中所述輸入?yún)^(qū)段進(jìn)一步包含輸入拉具與相關(guān)聯(lián)的輸入停止傳感器；和與所述工件的平移有關(guān)的、與所述線性驅(qū)動(dòng)器相關(guān)聯(lián)的前阻擋器與后阻擋器，以及彈簧承載輥，其可操作以偏移所述工件頂住所述前與后阻擋器，以使得在所述工件上形成的刻劃線平行于與所述前阻擋器與后阻擋器接觸的所述工件的邊緣。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光刻劃系統(tǒng)，其中所述后阻擋器是通過滾珠螺桿與相關(guān)聯(lián)的電動(dòng)機(jī)可調(diào)的。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光刻劃系統(tǒng)，其進(jìn)一步包含監(jiān)測(cè)所述后阻擋器的位置的攝像機(jī)。
6.根據(jù)前面權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的激光刻劃系統(tǒng)，其進(jìn)一步包含門架，配置為穿過所述線性驅(qū)動(dòng)器與工件以使得所述門架基本上在所述處理區(qū)段之上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光刻劃系統(tǒng)，其中所述門架進(jìn)一步包含攝像機(jī)和與每一激光源相關(guān)聯(lián)的吸嘴。
8.根據(jù)權(quán)利要求5-7中任一項(xiàng)所述的激光刻劃系統(tǒng)，其中每一攝像機(jī)安裝于橫向于所述刻劃線配置的一獨(dú)立電動(dòng)軸上。
9.根據(jù)權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的激光刻劃系統(tǒng)，其中所述激光源安裝于線性導(dǎo)軌上以使得一個(gè)或多個(gè)激光源在維護(hù)期間是可滑動(dòng)的。
10.一種制造薄膜太陽(yáng)能面板的激光刻劃方法，該方法包括將具有向下朝向的所述透明基板的工件載入第一機(jī)器的輸入站中；偏移所述工件的參考邊緣頂住與線性驅(qū)動(dòng)器相關(guān)聯(lián)的前阻擋器與后阻擋器，其中所述線性驅(qū)動(dòng)器可操作以在所述輸入站與輸出站之間平移工件；在所述輸入站與輸出站之間來(lái)回平移工件，并以第一頻率基本上垂直地發(fā)射兩或更多個(gè)激光束穿過所述輸入站與輸出站之間的空間以穿過所述工件的所述透明基板，以參照與所述前阻擋器與后阻擋器接觸的所述工件的邊緣在所述前電極上刻劃平行線，其中所述每一激光束自單獨(dú)的激光源輸出；和使所述兩或更多個(gè)激光源轉(zhuǎn)位并重復(fù)在所述輸入與輸出站之間來(lái)回平移所述工件直到整個(gè)前電極被劃分成彼此電氣隔離的平行條紋。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的激光刻劃方法，其進(jìn)一步包括將在前電極形成有平行條紋的所述工件載入第二機(jī)器的輸入站中； 偏移所述工件頂住類似于所述第一機(jī)器的與線性驅(qū)動(dòng)器相關(guān)聯(lián)的前阻擋器與后可調(diào)阻擋器，其中所述線性驅(qū)動(dòng)器可操作以在所述輸入站與輸出站之間平移所述工件；通過使用配置于所述工件的前邊緣處的攝像機(jī)和配置于所述后可調(diào)阻擋器附近處的另一攝像機(jī)來(lái)判定實(shí)現(xiàn)平行所需要的修正，以將所述前電極上的刻劃線Lpl與所述線性驅(qū)動(dòng)器對(duì)準(zhǔn)；在所述輸入站與輸出站之間來(lái)回平移所述工件并以第二頻率基本上垂直地發(fā)射兩或更多個(gè)激光束穿過所述輸入站與輸出站之間的空間以穿過所述工件的所述透明基板，以參照所述前電極上的所述刻劃線(Lpl)在所述半導(dǎo)體層或后電極上刻劃平行線(Lp2、Lp3)， 其中所述每一激光束自一單獨(dú)激光源輸出；和使所述兩或更多個(gè)激光源轉(zhuǎn)位并重復(fù)在所述輸入站與輸出站之間來(lái)回平移所述工件直到整個(gè)半導(dǎo)體層或后電極被劃分成彼此電氣隔離的平行條紋。
12.一種制造薄膜太陽(yáng)能面板的激光刻劃方法，該方法包括將具有向下朝向的所述透明基板的工件載入第一機(jī)器的輸入站中； 偏移所述工件頂住與線性驅(qū)動(dòng)器相關(guān)聯(lián)的前阻擋器與后可調(diào)阻擋器，其中所述線性驅(qū)動(dòng)器可操作以在所述輸入站與輸出站之間平移所述工件；通過使用配置于所述工件的前邊緣處的攝像機(jī)(C1-C4)和配置于所述后可調(diào)阻擋器附近處的另一攝像機(jī)(C5)來(lái)判定實(shí)現(xiàn)所述參考線與所述線性驅(qū)動(dòng)器之間的平行所需要的修正，以將所述工件的參考邊緣上的參考線與所述線性驅(qū)動(dòng)器對(duì)準(zhǔn)；在所述輸入站與輸出站之間來(lái)回平移所述工件，并以第一頻率實(shí)質(zhì)上垂直地發(fā)射兩或更多個(gè)激光束穿過所述輸入與輸出站之間的空間、穿過所述工件的所述透明基板以在所述前電極上刻劃平行線，其中所述每一激光束自一單獨(dú)激光源輸出；和使所述兩或更多個(gè)激光源轉(zhuǎn)位并重復(fù)在所述輸入與輸出站之間來(lái)回平移所述工件直到整個(gè)前電極被劃分成彼此電氣隔離的平行條紋；通過使用配置于所述工件的前邊緣處的攝像機(jī)(C1-C4)和配置于所述后可調(diào)阻擋器附近處的另一攝像機(jī)(C5)來(lái)判定實(shí)現(xiàn)平行所需要的修正，以將所述前電極上的刻劃線 (Lpl)與所述線性驅(qū)動(dòng)器對(duì)準(zhǔn)；在所述輸入站與輸出站之間來(lái)回平移所述工件，并以第二頻率基本上垂直地發(fā)射兩或更多個(gè)激光束穿過所述輸入與輸出站之間的空間、穿過所述工件的所述透明基板以在所述半導(dǎo)體層或后電極上刻劃平行線(Lp2、Lp3)，其中所述每一激光束自一單獨(dú)激光源輸出；和使所述兩或更多個(gè)激光源轉(zhuǎn)位并重復(fù)在所述輸入與輸出站之間來(lái)回平移所述工件直到整個(gè)半導(dǎo)體層或后電極被劃分成彼此電氣隔離的平行條紋。
13.根據(jù)權(quán)利要求10-12中任一項(xiàng)所述的激光刻劃方法，其中平行對(duì)準(zhǔn)是用模擬工件來(lái)手動(dòng)地實(shí)施的。
14.根據(jù)權(quán)利要求10-12中任一項(xiàng)所述的激光刻劃方法，其中所述攝像機(jī)或多個(gè)攝像機(jī)安裝于橫向于所述刻劃線配置的獨(dú)立電動(dòng)軸上，且工件平行對(duì)準(zhǔn)是被自動(dòng)實(shí)施的。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的激光刻劃方法，其中工件平行對(duì)準(zhǔn)與激光源/攝像機(jī)對(duì)準(zhǔn)是用精密夾具來(lái)實(shí)施的。
全文摘要
本發(fā)明描述一種在薄膜太陽(yáng)能電池面板的前電極上進(jìn)行第一激光刻劃P1的設(shè)備100和一種在半導(dǎo)體層與半導(dǎo)體層/后電極上進(jìn)行后續(xù)激光刻劃P2、P3的類似設(shè)備100a。在開始刻劃過程P1之前，在平移設(shè)備100上的工件之前，工件左手邊緣或左手邊緣上的參考線被調(diào)整得實(shí)質(zhì)上平行于線性驅(qū)動(dòng)器140。類似地，在開始相應(yīng)過程P2、P3之前，在P1與P2過程期間形成的第一與第二刻劃線Lp1、Lp2被分別調(diào)整得平行于線性驅(qū)動(dòng)器140。可選擇地，對(duì)每批工件實(shí)施工件平行。在兩設(shè)備100、100a中，激光源150安裝于獨(dú)立電動(dòng)軸上。
文檔編號(hào)B23K26/04GK102176996SQ200980140154
公開日2011年9月7日 申請(qǐng)日期2009年10月7日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月7日
發(fā)明者林國(guó)耀, 林漢榮, 莫德錦, 鄺金文 申請(qǐng)人:綜合制造科技有限公司