專(zhuān)利名稱(chēng)：液體滴下裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及向?qū)ο笪锏蜗挛⑸倭康囊后w的液體滴下(滴液)裝置。更詳細(xì)地講， 涉及對(duì)于軟釬料(焊料)所例示的熔融金屬等的在特定的條件下維持液體狀態(tài)的物質(zhì)，能夠?qū)⑵湟晕⑸倭康囊后w的形式操作處理并對(duì)滴下對(duì)象物適合地滴下的液體滴下裝置。
背景技術(shù)：
例如在磁頭的制造工序中，通過(guò)在多個(gè)電極間配置由軟釬料形成的導(dǎo)電性的微小球，將其熔融并進(jìn)一步地使其對(duì)于各個(gè)電極進(jìn)行固著，來(lái)進(jìn)行該電極間的電接合(參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。在此，現(xiàn)在磁頭的微小化、高功能化在推進(jìn)，在電極數(shù)增加的同時(shí)電極自身也變小，作為結(jié)果，導(dǎo)電性的球也不得不微小化。如果導(dǎo)電性球變?yōu)槔绂│苔笑梢韵碌闹睆剑瑒t會(huì)產(chǎn)生個(gè)別的操作處理變得困難，并且操作處理中所謂污染物附著、或者該球體的價(jià)格自身變高昂這樣的課題?；谶@樣的背景，如專(zhuān)利文獻(xiàn)2至5所公開(kāi)的那樣，曾提出了直接對(duì)被接合物吐出熔融軟釬料，并使其附著的技術(shù)。根據(jù)該技術(shù)，伴隨著上述的導(dǎo)電性球的使用而產(chǎn)生的課題得到解決。在這些技術(shù)中，使蓄積了熔融金屬的液體蓄積部發(fā)生體積變化，利用該體積變化從該液體蓄積部吐出規(guī)定量的熔融金屬?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)2009-(^8781號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)2000-294591號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)3 日本特開(kāi)平10-137930號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)4 日本特開(kāi)2003-3；34654號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)5 日本特開(kāi)2006-075781號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)6 日本特開(kāi)平02-175254號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)7 日本特開(kāi)2001-232245號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)8 日本特開(kāi)2009-000719號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
在此，作為使液體微少量地滴下或者吐出的方法，還已知專(zhuān)利文獻(xiàn)6或7所公開(kāi)的技術(shù)。在這些方法中，就基本上利用液體的體積變化來(lái)滴下規(guī)定量的液體的情形而言，與上述的現(xiàn)有技術(shù)同樣。然而，在利用體積變化的情況下，如果氣體混入到液體中，則體積變化與為了體積變化而施加的壓力的變化的關(guān)系不成為一次曲線(xiàn)。因此，隨著液體的滴下量變?yōu)槲⑿?，向液體中混入氣體對(duì)滴下精度的影響變大。由以上的情況來(lái)看，在專(zhuān)利文獻(xiàn)2至7 所公開(kāi)的技術(shù)中，通過(guò)在不存在氣體的被密閉的空間內(nèi)形成液體蓄積部，并進(jìn)行在該空間內(nèi)的體積變化，能夠進(jìn)行規(guī)定量的液體的滴下。例如，在專(zhuān)利文獻(xiàn)8所示的構(gòu)成中，通過(guò)考慮與蓄積的液體的所謂潤(rùn)濕性而構(gòu)成該空間的內(nèi)壁，來(lái)防止氣體向噴嘴內(nèi)部的侵入。該文獻(xiàn)可以說(shuō)是通過(guò)反向說(shuō)明而示出了在微少量的液體滴下時(shí)氣體向噴嘴內(nèi)的混入會(huì)成為大的問(wèn)題。另外，在為這樣的結(jié)構(gòu)的噴嘴的情況下，在液體由樹(shù)脂構(gòu)成時(shí)，也可通過(guò)分解噴嘴、進(jìn)行各部件的洗滌來(lái)進(jìn)行維護(hù)。但是， 在液體為熔融金屬的情況下，必須除去已固化的金屬。本發(fā)明是鑒于以上的狀況而完成的，其目的在于提供一種液體滴下裝置，其可以通過(guò)采用上述的體積變化以外的方法來(lái)消除對(duì)于噴嘴的氣體侵入等的影響，并且可以利用維護(hù)性?xún)?yōu)異的簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)微小量的液體滴下。為了解決上述課題，本發(fā)明涉及的液體滴下裝置是滴下規(guī)定量的液體的液體滴下裝置，其特征在于，具有液體接受部，該液體接受部蓄積液體而形成液體蓄積部；噴嘴，該噴嘴具有與在液體接受部中蓄積液體的區(qū)域連通并且液體能夠通過(guò)的噴嘴孔；致動(dòng)器(促動(dòng)器；actuator)；和桿，該桿的一個(gè)端部被浸漬于液體蓄積部中，另一端部被致動(dòng)器支持，能夠沿噴嘴孔的形成軸方向移動(dòng)，所述桿通過(guò)致動(dòng)器能夠在形成軸方向上直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)，通過(guò)桿的直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)而使液體蓄積部的一部分產(chǎn)生波動(dòng)能，液體因波動(dòng)能而從噴嘴孔滴下。另外，上述的液體滴下裝置，優(yōu)選還具有加熱存在于液體蓄積部的液體的加熱單元。另外，液體蓄積部，優(yōu)選在存在于液體蓄積部的液體的液面上具有空間。另外，在該情況下，更優(yōu)選還具有能夠?qū)υ摽臻g進(jìn)行惰性氣體的供給和排出，能夠?qū)⒁后w保持在惰性氣體氣氛中的惰性氣體供給排出路徑。另外，更優(yōu)選還具有能夠?qū)τ谝后w接受部供給液體的液體供給路，液體接受部、液體供給路和空間的內(nèi)側(cè)壁以及在噴嘴中的可能與液體接觸的區(qū)域由疏液性的面形成。另外，優(yōu)選還具有形成于噴嘴凸緣和噴嘴壓緊件之間的滴下側(cè)氣氛空間，所述噴嘴凸緣配置在噴嘴孔的開(kāi)口部的液體的滴下側(cè)，覆蓋噴嘴孔的開(kāi)口部周?chē)?可使開(kāi)口部周?chē)蔀槎栊詺怏w氣氛，所述噴嘴壓緊件使噴嘴抵接固定于液體接受部。另外， 更優(yōu)選致動(dòng)器使用壓電元件。另外，更優(yōu)選噴嘴孔中的液體的滴下側(cè)的空間中的氣氛能夠維持在液體的熔點(diǎn)以上的溫度。進(jìn)一步地，更優(yōu)選噴嘴由剛玉形成。另外，更優(yōu)選在上述的液體滴下裝置中，具有與噴嘴孔的上述形成軸同軸、且與噴嘴孔連通，并具有規(guī)定的長(zhǎng)度的導(dǎo)孔；和能夠從與噴嘴孔連通的一側(cè)向?qū)Э坠┙o惰性氣體的惰性氣體供給系統(tǒng)，液體在導(dǎo)孔內(nèi)通過(guò)惰性氣體的流動(dòng)而沿滴下方向被引導(dǎo)。進(jìn)一步地，優(yōu)選惰性氣體供給系統(tǒng)能夠相應(yīng)于由致動(dòng)器引起的桿的直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)暫時(shí)地增加惰性氣體的供給量。進(jìn)一步地，優(yōu)選惰性氣體供給系統(tǒng)還具有惰性氣體加熱單元，惰性氣體加熱單元能夠?qū)⒍栊詺怏w的溫度加熱到超過(guò)液體的熔點(diǎn)的溫度。進(jìn)一步地，更優(yōu)選導(dǎo)孔在具有在液體的滴下方向設(shè)置的開(kāi)口部的同時(shí)，還具有放泄開(kāi)口，所述放泄開(kāi)口使構(gòu)成導(dǎo)孔的保護(hù)噴嘴的外部空間和導(dǎo)孔連通。根據(jù)本發(fā)明，液體從噴嘴的排出，利用了由桿施加的波動(dòng)能。因此，不需要從液體蓄積部之中完全地排除氣體，通過(guò)除去用于氣體排除的構(gòu)成，能夠簡(jiǎn)化噴嘴構(gòu)成。另外，由于不同于產(chǎn)生體積變化的構(gòu)成，能夠毫無(wú)問(wèn)題地進(jìn)行氣體向噴嘴中的導(dǎo)入，所以成為在維護(hù)性上也優(yōu)異的構(gòu)成。進(jìn)一步地，能夠?qū)⑷廴诮饘俦３衷诙栊詺怏w中，也能夠防止熔融金屬的氧化。


圖1是模式地表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式涉及的液體滴下裝置的概略構(gòu)成的圖。圖2A是表示在圖1所示的液體滴下裝置中，液體的滴下工序中的初期階段的圖。圖2B是表示在圖1所示的液體滴下裝置中，使桿直線(xiàn)性地移動(dòng)的狀態(tài)的圖。圖2C是表示在圖1所示的液體滴下裝置中，對(duì)于桿前端部周邊的液體產(chǎn)生壓縮波的狀態(tài)的圖。圖2D是表示在圖1所示的液體滴下裝置中，液體的滴下階段的圖。圖3A是在圖1所示的實(shí)施方式中，進(jìn)一步以熔融金屬為對(duì)象的情況下，關(guān)于優(yōu)選的構(gòu)成，放大地表示噴嘴附近的圖。圖;3B是表示在圖3A所示的構(gòu)成中，液體金屬被滴下的狀態(tài)的圖。圖4是本發(fā)明的又一方式，是模式地表示滴下方向與圖1所示的方式不同的情況的圖。圖5是模式地表示利用使用了本發(fā)明涉及的液體滴下裝置的電子部件的制造裝置制造的電子部件的形狀的圖。圖6是模式地表示使用了本發(fā)明涉及的液體滴下裝置的電子部件的制造裝置的構(gòu)成的圖。圖7A是利用現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行電極接合的情況，是模式地表示對(duì)于產(chǎn)生了橋接 (bridge)的情況的電子部件，從電極正面對(duì)其進(jìn)行了觀察的情況的圖。圖7B是表示從電極側(cè)面觀察了圖7A所示的構(gòu)成的情況的圖。圖8A是關(guān)于圖7A和7B所示的電子部件，表示從電極正面觀察了使用了本發(fā)明涉及的液體滴下裝置的情況的電極接合工序中的初期階段的狀態(tài)的圖。圖8B是表示從電極側(cè)面觀察了圖8A所示的構(gòu)成的情況的圖。圖9A是圖8A所示的工序的下一階段，是表示使金屬粒滴下到了電極上的狀態(tài)的圖。圖9B是表示從電極側(cè)面觀察了圖9A所示的構(gòu)成的情況的圖。圖IOA是圖9A所示的工序的下一階段，是表示將金屬粒再熔融并使其固化的狀態(tài)的圖。圖IOB是表示從電極側(cè)面觀察了圖IOA所示的構(gòu)成的情況的圖。圖11是采用與圖1同樣的樣式模式地表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式涉及的液體滴下裝置的概略構(gòu)成的圖。圖12A是表示在圖11所示的液體滴下裝置中，液體的滴下工序中的初期階段的圖。圖12B是表示在圖11所示的液體滴下裝置中，使桿直線(xiàn)性地移動(dòng)的狀態(tài)的圖。圖12C是表示在圖11所示的液體滴下裝置中，對(duì)于桿前端部周邊的液體產(chǎn)生壓縮波的狀態(tài)的圖。圖12D是表示在圖11所示的液體滴下裝置中，液體的滴下階段的圖。圖13是表示第二實(shí)施方式涉及的液體滴下裝置的另一形態(tài)的圖。
圖14是表示第二實(shí)施方式涉及的液體滴下裝置的另一形態(tài)的圖。圖15是表示第二實(shí)施方式涉及的液體滴下裝置的又一形態(tài)的圖。附圖標(biāo)記說(shuō)明1 液滴(熔融金屬粒)；3 電子部件；4 基板；4a 空腔(cavity) ；4b 基板側(cè)電極；5 片狀電子部件；6 樹(shù)脂填充劑；7 電子部件；7a 電極；8 軟釬料；9 熱射線(xiàn)照射器； 10 噴嘴裝置(nozzle unit) ；11 噴嘴；Ila 噴嘴孔；13 噴嘴壓緊件；13a 壓緊件貫通孔； 15 噴嘴凸緣；15a 收容空間；51b 凸緣貫通孔；17 碟形彈簧；19 滴下側(cè)氣氛空間；21 保護(hù)噴嘴；21a 導(dǎo)孔；22 第一惰性氣體供給路徑；2 第一流量調(diào)節(jié)閥；23 第二惰性氣體供給路徑；23a 第二流量調(diào)節(jié)閥；23b 電磁閥；25 氮供給源；26 氣體加熱區(qū)域；30 致動(dòng)器系統(tǒng)；31 致動(dòng)器；33 桿；35 聯(lián)軸器(joint) ；37 絕熱部；39 板；50 體部(body)； 51 液體接受部；53 液體蓄積部；55 體部側(cè)凸緣；5 貫通孔；57 體部?jī)?nèi)空間；59 加熱器；61 體部主體；63 液體供給路；65 惰性氣體供給排出路徑；100、101 液體滴下裝置；200 電子部件制造裝置；201 基板運(yùn)送系統(tǒng)；203 預(yù)熱臺(tái)；205 涂布臺(tái)；207 分配器； 209 測(cè)定臺(tái)；211 測(cè)定器；213 補(bǔ)充臺(tái)；215 分配器控制器；217 運(yùn)算部；219 控制器； 221 監(jiān)視器；A 形成軸；B 箭頭；s 移動(dòng)距離；w 壓縮波；Ad 容許誤差；D 接合區(qū)域； α 規(guī)定的傾斜角度；Da 間隙；Dg 導(dǎo)孔內(nèi)徑；De 保護(hù)噴嘴前端部外徑。
具體實(shí)施例方式以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式涉及的液體滴下裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖1是模式地表示本實(shí)施方式涉及的液體滴下裝置100的概略構(gòu)成的概念圖。液體滴下裝置100，由噴嘴裝置10、致動(dòng)器系統(tǒng)30和體部50構(gòu)成。另外，本實(shí)施方式主要以使熔融金屬滴下為目的。噴嘴裝置10，具有噴嘴11、噴嘴壓緊件13、噴嘴凸緣15、碟形彈簧17、和滴下側(cè)氣氛空間19。噴嘴11具有液體1能夠通過(guò)、且沿規(guī)定的形成軸A的方向貫穿該噴嘴11的噴嘴孔11a。噴嘴凸緣15具有能夠收容噴嘴壓緊件13的收容空間15a，在噴嘴孔Ila的開(kāi)口部的滴下側(cè)，被配置成覆蓋該噴嘴壓緊件13和噴嘴孔Ila的開(kāi)口部周?chē)?。收容空間1 是比噴嘴壓緊件13的外形大的空間，利用與噴嘴壓緊件13—同被其收容的碟形彈簧17對(duì)噴嘴壓緊件13朝向體部50施力。由此，借助于噴嘴壓緊件13由其和體部50側(cè)的液體接受部51夾持噴嘴11，使噴嘴11密著固定于液體接受部51。噴嘴壓緊件13使噴嘴11抵接固定于液體接受部51。根據(jù)以上的構(gòu)成，通過(guò)利用未圖示的螺釘?shù)鹊墓潭?gòu)件將噴嘴凸緣 15相對(duì)于體部50固定，從而借助于碟形彈簧17、噴嘴壓緊件13，將噴嘴11相對(duì)于液體接受部51以規(guī)定的位置關(guān)系固定。另外，形成于噴嘴凸緣15與噴嘴壓緊件13之間的配置有碟形彈簧17的空間，作為滴下側(cè)氣氛空間19發(fā)揮功能，具有覆蓋噴嘴11的開(kāi)口部周?chē)?、使開(kāi)口部周?chē)蔀橐?guī)定的氣氛氣體的作用。另外，優(yōu)選噴嘴11、尤其是噴嘴孔Ila的內(nèi)部等的與成為滴下對(duì)象的液體接觸的區(qū)域，利用具有疏液性的材料至少覆蓋表面。因此，優(yōu)選這些區(qū)域由特氟隆、DLC(類(lèi)金剛石碳；Diamond-1 ike-Carbon)等被覆，或者利用這些材料構(gòu)成噴嘴11。另外，如本方式那樣，在滴下對(duì)象為熔融金屬的情況下，更優(yōu)選利用紅寶石、藍(lán)寶石等的剛玉形成噴嘴11。另外，滴下側(cè)氣氛空間19，是為了進(jìn)行使用的液體的氧化的抑制、溫度變化的抑制等、促進(jìn)液體的適合的滴下而被使用。如本方式那樣，在滴下對(duì)象為熔融金屬的情況下，優(yōu)選該滴下側(cè)氣氛空間19被氮等的惰性氣體充滿(mǎn)，進(jìn)一步優(yōu)選構(gòu)成金屬的熔融溫度以上的溫度的氣氛。 因此，優(yōu)選附加能夠進(jìn)行規(guī)定壓力的高溫惰性氣體的供給排出的構(gòu)成、或者能夠?qū)Υ嬖谟谠摽臻g的氣體進(jìn)行加熱的構(gòu)成。致動(dòng)器系統(tǒng)30，具有致動(dòng)器31、桿33、聯(lián)軸器35、絕熱部37和板39。致動(dòng)器31 被板39支持。桿33經(jīng)由后述的體部側(cè)凸緣55的貫通孔5 侵入到體部?jī)?nèi)空間57，一個(gè)端部被浸漬于液體接受部51的液體蓄積部53中。另外，桿33在另一個(gè)端部經(jīng)由聯(lián)軸器35 和絕熱部37被致動(dòng)器31支持，利用該致動(dòng)器31以與上述的噴嘴孔Ila的規(guī)定的形成軸A 同軸的方式被驅(qū)動(dòng)。即，桿33以能夠沿規(guī)定的形成軸A方向直線(xiàn)移動(dòng)的方式被致動(dòng)器31 支持。另外，在本實(shí)施方式中，利用了在利用致動(dòng)器31使桿33直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)時(shí)在該桿33的一個(gè)端部的周?chē)囊后w蓄積部53中產(chǎn)生的波動(dòng)的能量。因此，優(yōu)選利用動(dòng)作速度快、并且應(yīng)答性高的壓電元件構(gòu)建該致動(dòng)器31。另外，優(yōu)選桿33、至少其在液體蓄積部53中被液體浸漬的一個(gè)端部，由相對(duì)于成為滴下對(duì)象的液體具有疏液性的材料形成、或者被這樣的材料覆蓋表面。因此，優(yōu)選這些區(qū)域被特氟隆、DLC(類(lèi)金剛石碳；Diamond-1 ike-Carbon)、鈦等被覆、或者利用這些材料形成桿33或者其一部分。另外，如本方式那樣，在滴下對(duì)象為熔融金屬的情況下，更優(yōu)選采用哈斯特洛依耐蝕耐熱鎳基合金(哈氏合金；Hastelloy)、鈦等形成桿33或者其一部分。 另外，如本方式那樣，在滴下對(duì)象為熔融金屬的情況下，由于液體等被加熱，因此優(yōu)選對(duì)受到該熱的桿33和致動(dòng)器31進(jìn)行熱隔斷。因此，在本方式中，在桿33-聯(lián)軸器35之間配置絕熱部37。但是，根據(jù)液體的熔融溫度、致動(dòng)器的耐熱性、或者液體的使用條件等也可以沒(méi)有該絕熱部37。體部50具有液體接受部51、液體蓄積部53、體部側(cè)凸緣55、體部?jī)?nèi)空間57、加熱器59、體部主體61、液體供給路63、和惰性氣體供給排出路徑65。體部?jī)?nèi)空間57是被配置在上述的規(guī)定的形成軸A上的空間，由體部側(cè)凸緣55封閉致動(dòng)器系統(tǒng)30側(cè)，由液體接受部 51封閉噴嘴裝置10側(cè)。在體部側(cè)凸緣55中，沿規(guī)定的形成軸A方向形成有貫通孔55a，上述的桿33貫穿該貫通孔5 而侵入到體部?jī)?nèi)空間57的內(nèi)部。液體接受部51具有容器狀的形狀，在凹部蓄積液體形成液體蓄積部53。噴嘴孔Ila與該液體蓄積部53連通，能夠使該液體蓄積部53內(nèi)的液體向噴嘴孔Ila開(kāi)口部中的液體滴下側(cè)流出。另外，液體供給路徑 63與體部?jī)?nèi)空間57連通著，能夠?qū)υ擉w部?jī)?nèi)空間57內(nèi)部供給液體。優(yōu)選與桿33的一個(gè)端部同樣地，具有與液體接觸的可能性的構(gòu)成體部?jī)?nèi)空間57 的內(nèi)壁、液體接受部51以及液體供給路63的內(nèi)壁，由相對(duì)于成為滴下對(duì)象的液體具有疏液性的材料構(gòu)成、或者由這樣的材料覆蓋表面。因此，優(yōu)選這些區(qū)域被特氟隆、DLC、鈦等被覆、或者由這些材料形成這些結(jié)構(gòu)。另外，如本方式那樣，在滴下對(duì)象為熔融金屬的情況下， 更優(yōu)選采用哈斯特洛依耐蝕耐熱鎳基合金、鈦等形成液體接受部51或體部主體61。進(jìn)而， 為了抑制熔融金屬的氧化，優(yōu)選形成于體部?jī)?nèi)空間57的液體蓄積部53的上部的液面上的空間內(nèi)部被氮等的惰性氣體充滿(mǎn)，惰性氣體供給排出路徑65被用于這些惰性氣體的供給和排出。但是，在滴下對(duì)象為這些以外的情況下，也可以除去該惰性氣體供給排出路徑65。 因?yàn)楸仨毷乖谝后w接受部51內(nèi)蓄積的液體蓄積部53中存在的金屬為熔融狀態(tài)、或者維持為熔融狀態(tài)，因此加熱器59加熱體部主體61、液體接受部51和噴嘴11。
接著，對(duì)于本實(shí)施方式涉及的液體滴下裝置的工作原理進(jìn)行說(shuō)明。圖2A 2D分別表示圖1所示的液體滴下裝置100的各工作狀態(tài)。圖2A是液體滴下之前的狀態(tài)，表示經(jīng)由液體供給路63對(duì)于液體蓄積部53完成了液體的補(bǔ)充的狀態(tài)。在液體滴下時(shí)，如圖2B所示，利用致動(dòng)器31，桿33在箭頭B方向(朝向規(guī)定的形成軸A上的一方的方向)上僅移動(dòng)距離s。另外，在本實(shí)施方式中，作為移動(dòng)行程的距離s為20 40 μ m，移動(dòng)所需要的時(shí)間為300 500微秒(μ sec)。通過(guò)該桿33的移動(dòng)，如圖2C所示那樣在桿33的前端的液體中形成壓縮波W。該壓縮波存在波動(dòng)能。例如，液體中超聲波洗滌是利用了該波動(dòng)能的洗滌。被給予了該波動(dòng)能的液體1，一部分通過(guò)噴嘴孔11a，如圖2D所示那樣作為液滴1被放出到外部空間。在以上的構(gòu)成中，通過(guò)噴嘴孔Ila的內(nèi)徑和桿33的移動(dòng)行程s的組合，液滴的直徑能夠任意地設(shè)定，具體地講，得到了液滴直徑為30 200 μ m的液滴。如上述那樣，本實(shí)施方式以例如軟釬料等的熔融金屬的滴下為目的。以下使用以與圖1相同的樣式放大地表示噴嘴裝置10的圖3A和圖:3B，對(duì)于適合于熔融金屬的構(gòu)成進(jìn)行說(shuō)明。在本方式中，將噴嘴孔Ila的滴下側(cè)開(kāi)口部周?chē)O(shè)為由高溫的惰性氣體形成的氣氛，利用加熱的氮?dú)鈦?lái)充滿(mǎn)滴下側(cè)氣氛空間19。由此，從噴嘴孔Ila滴下的熔融金屬通過(guò)暴露在高溫氣氛中從而不會(huì)粘性上升，液滴的所謂切斷性變好。因此，能夠得到更微小的液滴，并且，也能夠抑制被滴下的熔融金屬的形狀的不均勻。同時(shí)，也可以期待減少金屬向噴嘴孔Ila的開(kāi)口部周邊的附著的效果。尤其是通過(guò)如前述那樣，由具有疏液性的材料、優(yōu)選剛玉等來(lái)構(gòu)成噴嘴11等，該效果變得更顯著。因此，在例如電子部件用的凸塊形成中使用它是適合的。另外，如先前所述那樣，氣氛的溫度設(shè)為熔融金屬的熔點(diǎn)以上較合適，例如軟釬料的情況下，優(yōu)選設(shè)為300°C的氮?dú)?。通過(guò)在該條件下驅(qū)動(dòng)致動(dòng)器31，如圖:3B所示，能夠使熔融金屬的液滴1從噴嘴11滴下。在本方式中，噴嘴裝置10和液體接受部51從體部50卸下、由此通過(guò)液體蓄積部 53的除去等進(jìn)行裝置的洗滌都是容易的。在本方式中，通過(guò)從體部主體61卸下噴嘴凸緣 15，利用碟形彈簧17按壓于體部主體61而被固定的噴嘴壓緊件13和噴嘴11也能夠從體部主體61卸下。同時(shí)，液體接受部51也能夠從體部主體61卸下。在本方式中，由于在液體蓄積部53中液體接觸的部分被設(shè)為疏液性的面，所以液體、或者熔融金屬固化了的固化物也不與周?chē)讨?，可以容易地除去。進(jìn)行這些工序，洗滌體部?jī)?nèi)空間57的內(nèi)部等之后，利用與以上相反的步驟組合各構(gòu)成，最后將噴嘴凸緣15固定于體部主體61，由此再次完成裝置的組裝。另外，在以上的實(shí)施方式中，對(duì)于作為液體的滴下方向的規(guī)定的形成軸方向A與鉛直方向一致的情況進(jìn)行了敘述。但是，本發(fā)明涉及的液體滴下裝置的使用樣式并不限定于此。對(duì)于其他的使用樣式，以與圖1所示的方式同樣的樣式圖示該使用樣式來(lái)對(duì)其進(jìn)行說(shuō)明。另外，因?yàn)楦鳂?gòu)成要素與先前敘述的形態(tài)相同，所以使用相同的參照標(biāo)記等且省略說(shuō)明。例如，液滴1的滴下軌跡相對(duì)于鉛直方向具有規(guī)定的角度的情況也被認(rèn)為是良好的情況。圖4圖示了這樣的情況。在圖4所示的形態(tài)中，表示了作為連結(jié)噴嘴孔1 Ia的中心與桿33的中心軸的軸線(xiàn)的規(guī)定的形成軸A相對(duì)于鉛直方向傾斜了規(guī)定角度α的情況。該情況下，只要桿33的前端部被浸漬到液體蓄積部53中，就能夠進(jìn)行對(duì)于液體的波動(dòng)能的產(chǎn)生和傳遞。因此，能夠從噴嘴孔Ila的開(kāi)口滴出液體。另外，液體的滴下軌跡不是直線(xiàn)，成為從噴嘴孔Ila的開(kāi)口部分具有規(guī)定的角度而開(kāi)始的近似于二次曲線(xiàn)的滴下軌跡。因此，通過(guò)預(yù)先想定該滴下軌跡，能夠使液體沿與鉛直方向不同的方向滴下，并向所希望的滴下位置供給液滴。接著，對(duì)于使用本發(fā)明涉及的液體滴下裝置所構(gòu)建的電子部件的制造裝置的具體例進(jìn)行敘述。圖5模式地表示利用該制造裝置進(jìn)行樹(shù)脂封入的電子部件的剖面。電子部件 3，是在被設(shè)于基板4的空腔如內(nèi)配置片狀電子部件5，并利用樹(shù)脂填充劑6對(duì)其進(jìn)行了封裝的部件。在該電子部件3中，例如凹部設(shè)想為直徑2. 7mm、深度0.85mm。液面高度，作為其容許誤差A(yù)d被確認(rèn)為IOym的范圍。在此，如果假定沒(méi)有由表面張力引起的形狀變化， 則相當(dāng)于樹(shù)脂填充劑6的容許誤差的體積為(2. 7/2)2X π Χ0. 010 = 0. 057mm3。如果假定一般的空氣分配器的吐出精度為0. lmg、液體的比重P為1，則由于Ig = P cm3、cm3 = mm3X103，因此之前的吐出精度為0. Ip cm3X10_3 = 0. 1mm3，可理解到相當(dāng)于之前的容許誤差的體積的管理較困難。因此，根據(jù)這樣的課題，可以使用本發(fā)明構(gòu)建圖6所示的電子部件的制造裝置。該制造裝置200具有基板運(yùn)送系統(tǒng)201 ；基板運(yùn)送系統(tǒng)201中所包含的預(yù)熱臺(tái)203、涂布臺(tái) 205、測(cè)定臺(tái)209和補(bǔ)充臺(tái)213 ；分配器207 ；測(cè)定裝置211 ；分配器控制器215 ；運(yùn)算部217 ； 控制器219 ；監(jiān)視器221 ；和本發(fā)明涉及的液體滴下裝置100?；?在基板運(yùn)送系統(tǒng)201 上首先在預(yù)熱臺(tái)203被預(yù)熱，在涂布臺(tái)205利用由分配器控制器215控制的分配器207注入樹(shù)脂填充劑6。此時(shí)，將液體的填充量預(yù)先設(shè)定為比規(guī)定值少的量。接著，在測(cè)定臺(tái)209利用測(cè)定裝置211進(jìn)行樹(shù)脂填充劑6的液面高度的測(cè)定，利用運(yùn)算部217測(cè)定其是否合適、不足量。測(cè)定結(jié)果等在被顯示于監(jiān)視器221的同時(shí)被傳送到控制器219，由控制器219對(duì)于液體滴下裝置100下達(dá)補(bǔ)充量的指令。對(duì)于被送到補(bǔ)充臺(tái) 213的基板，根據(jù)來(lái)自控制器219的指令，進(jìn)行液體從液體滴下裝置100的滴下、補(bǔ)充，得到適當(dāng)?shù)姆庋b狀態(tài)。本發(fā)明涉及的液體滴下裝置100，能夠滴下直徑100 μ m左右的液滴，其體積為(4/3) X π Xr3 = O. 004mm3,因此通過(guò)控制液滴的滴下數(shù)，能夠以0. 004mm3的分解能力來(lái)進(jìn)行滴下數(shù)的液量調(diào)整。接著，對(duì)于使用本發(fā)明涉及的液體滴下裝置構(gòu)建的電子部件的制造裝置的具體例進(jìn)行敘述。圖7A是從正面觀察形成電極的接合的電子部件的電極等的狀態(tài)，圖7B是從側(cè)面對(duì)其進(jìn)行了觀察的狀態(tài)，分別模式地表示利用現(xiàn)有的方法進(jìn)行了這些電極的接合的情況。 在電子部件7中設(shè)有電極7a，利用軟釬料8將這些電極7a接合在被設(shè)置于基板4上的基板側(cè)電極4b上。此時(shí)，在例如電極間距低于100 μ m的情況等時(shí)，間距間過(guò)窄，因此如圖示那樣，軟釬料膏等引起所謂橋接(短路)的危險(xiǎn)性高。因此，通過(guò)使用本發(fā)明的裝置將作為熔融金屬粒的液滴1在電極寬度的范圍內(nèi)滴下多次，并暫時(shí)固著，進(jìn)而進(jìn)行回流焊(軟熔；reflow)等來(lái)進(jìn)行電極的接合。圖8A、8B、9A、 9BU0A和IOB依次階段性地表示了該工序。圖8A、9A和IOA以與圖7A同樣的樣式表示了電子部件等，圖8B、9B和IOB以與圖7B同樣的樣式表示了電子部件等。如圖8A所示那樣， 在本方式中，設(shè)想了電極間距為60 80 μ m的情況。對(duì)于這樣的電極7a與基板側(cè)電極4b 的對(duì)接部分，如圖9A和9B所示那樣多次滴下熔融金屬粒(液滴1)，使它們暫時(shí)固著在各個(gè)的電極之間。接著，如圖IOB所示那樣利用激光器等的熱射線(xiàn)的照射器9對(duì)接合區(qū)域D (圖 10A)照射熱射線(xiàn)，使金屬粒1再熔融。通過(guò)該再熔融后的金屬粒固化，能夠進(jìn)行電極7a與基板側(cè)電極4b的電接合。另外，根據(jù)本發(fā)明，能夠形成直徑低于50 μ m的金屬粒，作為在此所示的接合中使用的金屬，除了軟釬料之外，還可以考慮銀、金(金釬料)、銅等。接著，以下對(duì)于本發(fā)明的第二實(shí)施方式，參照利用與圖1同樣的樣式表示本方式的圖11進(jìn)行敘述。另外，在以下敘述的實(shí)施方式和前述的第一實(shí)施方式中，關(guān)于同樣的構(gòu)成物，使用相同的參照標(biāo)記，對(duì)于其說(shuō)明在以下進(jìn)行省略。如圖11所示那樣，本方式涉及的液體滴下裝置101，具有相對(duì)于噴嘴凸緣15被固定的保護(hù)噴嘴21和第二惰性氣體供給路徑23，在該方面不同于第一實(shí)施方式。保護(hù)噴嘴21具有在被固定于噴嘴凸緣15時(shí)，與噴嘴孔11a、噴嘴壓緊件13的壓緊件貫通孔13a、和噴嘴凸緣15的凸緣貫通孔1 同軸的導(dǎo)孔 21a。另外，保護(hù)噴嘴21的前端(與基板相對(duì)的部分)為尖頭形狀，減小了與基板相對(duì)的部分。在想要提高液滴1的彈著精度的情況下，優(yōu)選使噴嘴孔Ila的開(kāi)口部與液滴1的被附著物之間接近。在第一方式的情況下，從滴下側(cè)氣氛空間19供給的惰性氣體，經(jīng)由噴嘴凸緣15的基板對(duì)向面和基板之間的間隙而流到其他的空間。在此，在噴嘴凸緣15的下面為具有某種程度以上的面積的基板對(duì)向面的情況下，隨著該間隙變窄成為必要以上，在這里的惰性氣體的風(fēng)壓的增加和/或氣流的紊亂變得顯著，相反地，液滴1的彈著精度有可能降低。通過(guò)如本實(shí)施方式那樣配置具有尖頭形狀的保護(hù)噴嘴21，從噴嘴前端放出的惰性氣體會(huì)容易地流到其他的空間。因此，不會(huì)發(fā)生風(fēng)壓的極端增加、氣流的紊亂這樣的現(xiàn)象， 可得到彈著精度提高的效果。另外，通過(guò)使保護(hù)噴嘴21的前端部分尖銳，也可得到下述效果即使在液滴彈著時(shí)基板上已經(jīng)存在會(huì)成為障礙物的物質(zhì)的情況下，也能夠抑制它們的影響而供給液滴1。另外，對(duì)于保護(hù)噴嘴21的結(jié)構(gòu)，根據(jù)使用的液滴的尺寸或材質(zhì)而變動(dòng)，但優(yōu)選以噴嘴孔Ila的內(nèi)徑Dn為基準(zhǔn)來(lái)設(shè)定。在本發(fā)明中，由于從噴嘴孔Ila吐出的液體在吐出后由于表面張力而球體化，所以從吐出時(shí)的液體外徑開(kāi)始，其外徑增加。另外，雖然利用波動(dòng)進(jìn)行液滴1的形成，但為了使該液滴1到達(dá)彈著位置，優(yōu)選對(duì)該液滴1給予某種程度的動(dòng)能，可以認(rèn)為通過(guò)后述的惰性氣體的流動(dòng)來(lái)進(jìn)行該過(guò)程，從液體滴下裝置的結(jié)構(gòu)上來(lái)看較適合。由以上的觀點(diǎn)來(lái)看，優(yōu)選考慮與液滴1的外徑的關(guān)系以及惰性氣體的流動(dòng)，關(guān)于導(dǎo)孔21a的內(nèi)徑Dg，設(shè)計(jì)成滿(mǎn)足DnX 2彡Dg的關(guān)系。另外，為了抑制在保護(hù)噴嘴21的前端(尖端)與基板表面的間隙中的加熱氮的滯留，優(yōu)選關(guān)于保護(hù)噴嘴21的外徑De，滿(mǎn)足 De彡Dg X 2的關(guān)系，關(guān)于所述前端與基板的間隙Da，滿(mǎn)足0. 2mm < Da ^ De的關(guān)系。在第一實(shí)施方式中，高溫的氮等的惰性氣體被供給到滴下側(cè)空間19內(nèi)，該惰性氣體經(jīng)由凸緣貫通孔15b與液滴1 一起向被附著物供給。在本方式中，作為用于向該滴下側(cè)空間19導(dǎo)入惰性氣體的惰性氣體供給系統(tǒng)，除了在第一實(shí)施方式中配置的惰性氣體供給路徑22之外，還設(shè)置了第二惰性氣體供給路徑23。另外，在本實(shí)施方式中，與第一實(shí)施方式同樣地使用氮作為惰性氣體。另外，上述的滴下側(cè)空間19，構(gòu)成該惰性氣體供給系統(tǒng)的一部分。在本方式中，從氮供給源25供給的氮，經(jīng)過(guò)氣體加熱區(qū)域沈被加熱到規(guī)定溫度之后， 分離成為第一惰性氣體供給路徑22和第二惰性氣體供給路徑23。氣體加熱區(qū)域沈，作為由公知的加熱源構(gòu)成的惰性氣體加熱單元被構(gòu)筑，能夠?qū)⒌訜岬匠^(guò)液滴1的熔點(diǎn)的溫度。第一惰性氣體供給路徑22具有第一流量調(diào)節(jié)閥22a，通過(guò)該路徑一定量的加熱氮總是被供給到滴下側(cè)空間19中。被供給到滴下側(cè)空間19中的加熱氮，通過(guò)導(dǎo)孔21a朝向粘附位置引導(dǎo)液滴1，與該液滴1 一起被噴射到基板表面。
第二惰性氣體供給路徑23具有第二流量調(diào)節(jié)閥23a和進(jìn)行瞬間的開(kāi)閉的電磁閥 23b，能夠間歇地流通加熱氮。通過(guò)開(kāi)閉該電磁閥23b，能夠使通過(guò)滴下側(cè)空間19被供給到導(dǎo)孔21a的加熱氮的供給量暫時(shí)或瞬間地增加。通過(guò)使用電磁閥2 使加熱氮的噴出量暫時(shí)地增加，能夠使導(dǎo)孔21a中產(chǎn)生氣流，液滴1以不與導(dǎo)孔21a的內(nèi)壁接觸的狀態(tài)被運(yùn)送到尖頭部分。如本方式那樣，通過(guò)維持高溫惰性的氣氛并進(jìn)行液滴1的導(dǎo)孔21a內(nèi)的移送， 能夠防止液滴1的固化和氧化。另外，優(yōu)選電磁閥23b的動(dòng)作時(shí)間，與由致動(dòng)器31引起的桿33的直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)的動(dòng)作時(shí)機(jī)(定時(shí)；timing)同步或者相應(yīng)于其而進(jìn)行，優(yōu)選為10毫秒 (msec)左右。接著，對(duì)于本實(shí)施方式涉及的液體滴下裝置的工作原理進(jìn)行說(shuō)明。圖12A 12D 分別表示圖11所示的液體滴下裝置101的各工作狀態(tài)。圖12A是液體滴下之前的狀態(tài)，表示通過(guò)液體供給路63對(duì)于液體蓄積部53完成了液體的補(bǔ)充的狀態(tài)。在液體的滴下時(shí)，如圖12B所示，通過(guò)致動(dòng)器31，桿33在箭頭B方向(朝向規(guī)定的形成軸A上的一方的方向) 僅移動(dòng)距離s。另外，如圖中箭頭所示，利用上述第一惰性氣體供給路徑22，加熱氮被供給到滴下側(cè)空間19內(nèi)部，通過(guò)導(dǎo)孔21a流出到保護(hù)噴嘴21的外部。另外，在本實(shí)施方式中， 作為移動(dòng)行程的距離s為20 40 μ m，移動(dòng)所需要的時(shí)間為300 500微秒。通過(guò)該桿33的移動(dòng)，如圖12C所示，在桿33的前端的液體中形成壓縮波W。該壓縮波存在波動(dòng)能。例如，液體中超聲波洗滌是利用該波動(dòng)能的洗滌。被給予了該波動(dòng)能的液體1，一部分通過(guò)噴嘴孔11a，如圖12D所示那樣作為液滴1被放出到外部空間。伴隨著桿33的動(dòng)作，電磁閥2 能夠使從第二惰性氣體供給路徑23供給加熱氮暫時(shí)地進(jìn)行，使在導(dǎo)孔21a內(nèi)的液滴1的移動(dòng)更容易。桿33與電磁閥23b的動(dòng)作時(shí)機(jī)(動(dòng)作定時(shí))被調(diào)整為相同或者伴有數(shù)毫秒的錯(cuò)開(kāi)的范圍的動(dòng)作時(shí)機(jī)，但考慮以實(shí)質(zhì)上包含它們的大致相同的動(dòng)作時(shí)機(jī)來(lái)驅(qū)動(dòng)桿33和電磁閥2 較好。在以上的構(gòu)成中，通過(guò)噴嘴孔Ila的內(nèi)徑和桿33 的移動(dòng)行程s的組合，液滴的直徑可任意地設(shè)定，具體而言，可得到作為液滴直徑為30 200 μ m的液滴。接著，參照附圖對(duì)于第二實(shí)施方式的又一形態(tài)進(jìn)行說(shuō)明。例如使用的液滴1的外徑變得更小的情況下，對(duì)于為了在導(dǎo)孔21a內(nèi)移送液滴1而需要的加熱氮量而言，也考慮到不能忽視在保護(hù)噴嘴21的前端部與基板之間的風(fēng)壓的影響的情況。即使是這樣的情況，液滴1供給時(shí)所需求的加熱氮量，不適合根據(jù)導(dǎo)孔21a的內(nèi)徑而大大地減少的情況也被考慮。 在圖13所示的形態(tài)中，作為對(duì)這樣的情況的對(duì)應(yīng)，在到達(dá)導(dǎo)孔21a的開(kāi)口跟前，附加了從保護(hù)噴嘴21的外部到達(dá)導(dǎo)孔21a的放泄孔21b。放泄孔21b在與導(dǎo)孔21a的延伸方向不同的方向延伸，并對(duì)導(dǎo)孔21a和保護(hù)噴嘴21的周?chē)目臻g連通。通過(guò)設(shè)置這樣的放泄孔21b，產(chǎn)生從該放泄孔21b流出到外部的加熱氮，抑制到達(dá)導(dǎo)孔21a的開(kāi)口部的加熱氮量，能夠進(jìn)行液滴1的準(zhǔn)確的供給。另外，在僅用該放泄孔21b時(shí)到達(dá)基板表面的加熱氮量的抑制不充分的情況下， 也可以如圖14所示那樣設(shè)置沿著導(dǎo)孔21a延伸的狹縫狀的放泄溝21c，謀求加熱氮的流出用的路徑的擴(kuò)充。該放泄溝21c在與導(dǎo)孔21a的延伸方向不同的方向、尤其是在與其垂直的方向延伸，對(duì)該導(dǎo)孔21a與保護(hù)噴嘴21的周?chē)目臻g連通。由以上來(lái)看，在本發(fā)明中，這些放泄孔21b和放泄溝21c，作為能夠流出惰性氣體的過(guò)剩部分的放泄開(kāi)口來(lái)把握。另外， 在作為第二實(shí)施方式所示的形態(tài)中，也考慮減小與基板表面相對(duì)、產(chǎn)生加熱氮的滯留空間的保護(hù)噴嘴21的前端部。圖15所示的又一形態(tài)，表示這樣地進(jìn)一步縮小保護(hù)噴嘴21的前端部分的外徑Dg的情況。具體地講，從保護(hù)噴嘴21的前端起規(guī)定的范圍設(shè)為管狀的形態(tài)。 另外，在以上敘述的實(shí)施方式中，用電磁閥進(jìn)行第二惰性氣體供給路徑的開(kāi)閉，但只要是能夠與進(jìn)行液滴1的吐出的壓電元件同步的閥裝置就可以使用公知的各種形態(tài)的閥。另外， 也可以并非獨(dú)自地構(gòu)成保護(hù)噴嘴21，而是通過(guò)對(duì)噴嘴凸緣15實(shí)施各種的加工，來(lái)?yè)?dān)負(fù)本方式中的保護(hù)噴嘴21的作用。另外，第二惰性氣體供給路徑23根據(jù)需要來(lái)配置即可，也可以根據(jù)使用的液滴1的特性等而去除該路徑。另外，導(dǎo)孔21a的長(zhǎng)度受到被供給到導(dǎo)孔21a 的惰性氣體的流量、從噴嘴孔Ila噴出時(shí)的液滴1的噴出速度等的影響。因此，優(yōu)選附帶考慮這些各種條件，作為給予液滴1具有規(guī)定的方向性、并能夠從導(dǎo)孔21a吐出的運(yùn)動(dòng)量所需要的規(guī)定的長(zhǎng)度來(lái)把握。 如以上敘述的那樣，本發(fā)明涉及適合于生成液體金屬的微小液滴并且將其滴下的液體滴下裝置。但是，本發(fā)明的適用對(duì)象并不限定于此，如圖5所示那樣，也能夠作為樹(shù)脂等的液體的滴下裝置來(lái)利用。
1權(quán)利要求
1.一種液體滴下裝置，是滴下規(guī)定量的液體的液體滴下裝置，其特征在于，具有液體接受部，該液體接受部蓄積所述液體而形成液體蓄積部；噴嘴，該噴嘴具有與在所述液體接受部中蓄積所述液體的區(qū)域連通并且所述液體能夠通過(guò)的噴嘴孔；致動(dòng)器；和桿，該桿的一個(gè)端部被浸漬于所述液體蓄積部中，另一端部被所述致動(dòng)器支持，能夠沿所述噴嘴孔的形成軸方向移動(dòng)，所述桿通過(guò)所述致動(dòng)器能夠在所述形成軸方向上直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)，通過(guò)所述桿的所述直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)而使所述液體蓄積部的一部分產(chǎn)生波動(dòng)能，所述液體因所述波動(dòng)能而從所述噴嘴孔滴下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體滴下裝置，其特征在于，還具有加熱存在于所述液體蓄積部的所述液體的加熱單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體滴下裝置，其特征在于，在所述液體蓄積部中，在存在于所述液體蓄積部的所述液體的液面上具有空間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液體滴下裝置，其中，還具有能夠?qū)λ隹臻g進(jìn)行惰性氣體的供給和排出，能夠?qū)⑺鲆后w保持在惰性氣體氣氛中的惰性氣體供給排出路徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液體滴下裝置，其特征在于，還具有能夠?qū)λ鲆后w接受部供給所述液體的液體供給路，所述液體接受部、液體供給路和空間的內(nèi)側(cè)壁以及在所述噴嘴中的可能與所述液體接觸的區(qū)域由疏液性的面形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體滴下裝置，其特征在于，還具有形成于噴嘴凸緣和噴嘴壓緊件之間的滴下側(cè)氣氛空間，所述噴嘴凸緣配置在所述噴嘴孔的開(kāi)口部的所述液體的滴下側(cè)，覆蓋所述噴嘴孔的開(kāi)口部周?chē)?，可使所述開(kāi)口部周?chē)蔀槎栊詺怏w氣氛，所述噴嘴壓緊件使所述噴嘴抵接固定于所述液體接受部。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體滴下裝置，其特征在于，所述致動(dòng)器使用壓電元件。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體滴下裝置，其特征在于，所述噴嘴孔中的所述液體的滴下側(cè)的空間中的氣氛能夠維持在所述液體的熔點(diǎn)以上的溫度。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液體滴下裝置，其特征在于，所述噴嘴由剛玉形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1 9的任一項(xiàng)所述的液體滴下裝置，其特征在于，具有與所述噴嘴孔的所述形成軸同軸、且與所述噴嘴孔連通，并具有規(guī)定的長(zhǎng)度的導(dǎo)孔；和能夠從與所述噴嘴孔連通的一側(cè)向所述導(dǎo)孔供給惰性氣體的惰性氣體供給系統(tǒng)，所述液體在所述導(dǎo)孔內(nèi)通過(guò)所述惰性氣體的流動(dòng)而被沿著滴下方向引導(dǎo)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的液體滴下裝置，其特征在于，所述惰性氣體供給系統(tǒng)能夠相應(yīng)于由所述致動(dòng)器引起的所述桿的直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)暫時(shí)地增加所述惰性氣體的供給量。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的液體滴下裝置，其特征在于，所述惰性氣體供給系統(tǒng)還具有惰性氣體加熱單元，所述惰性氣體加熱單元能夠?qū)⑺龆栊詺怏w的溫度加熱到超過(guò)所述液體的熔點(diǎn)的溫度。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的液體滴下裝置，其特征在于，所述導(dǎo)孔在具有在所述液體的滴下方向設(shè)置的開(kāi)口部的同時(shí)，還具有放泄開(kāi)口，所述放泄開(kāi)口使構(gòu)成所述導(dǎo)孔的保護(hù)噴嘴的外部空間和所述導(dǎo)孔連通。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠以準(zhǔn)確的微少量向?qū)ο笪锏蜗乱夯涒F料等的液體的液體滴下裝置。通過(guò)向貯留滴下用液體并且與噴嘴孔連通的液體蓄積部浸漬能夠沿該噴嘴孔的開(kāi)口方向直線(xiàn)性地驅(qū)動(dòng)的桿的前端，并對(duì)該桿進(jìn)行微小量的直線(xiàn)驅(qū)動(dòng)，從而使貯留液體中產(chǎn)生壓縮波，利用該壓縮波具有的波動(dòng)能使規(guī)定量的液體從噴嘴孔滴下。
文檔編號(hào)B23K3/06GK102248248SQ20111013250
公開(kāi)日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2011年5月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月21日
發(fā)明者川島崇, 水野亨, 進(jìn)藤修 申請(qǐng)人:Tdk 株式會(huì)社