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      一種立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴的制作方法

      文檔序號(hào):12088186閱讀:546來(lái)源:國(guó)知局
      一種立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴的制作方法與工藝

      本實(shí)用新型涉及鉆攻中心技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴。



      背景技術(shù):

      立式鉆攻中心的冷卻系統(tǒng)采用噴水冷卻,僅能實(shí)現(xiàn)對(duì)刀具或工件一個(gè)角度的冷卻,無(wú)法實(shí)現(xiàn)全方位的冷卻。

      因此,現(xiàn)有技術(shù)還有待于改進(jìn)和發(fā)展。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實(shí)用新型的目的在于提供一種立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中冷卻系統(tǒng)采用噴水冷卻,僅能實(shí)現(xiàn)對(duì)刀具或工件一個(gè)角度的冷卻的問(wèn)題。

      為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案為:

      一種立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,其中,包括:

      基座;

      設(shè)置在所基座上的主軸;

      環(huán)繞固定設(shè)置在所述主軸外壁上的多個(gè)環(huán)噴槽;

      固定設(shè)置在所述環(huán)噴槽上的萬(wàn)向水噴頭;

      固定設(shè)置在所述環(huán)噴槽上的萬(wàn)向噴氣頭;

      所述萬(wàn)向噴水頭包括:噴水頭本體;設(shè)置在噴水頭本體上的切削液進(jìn)水口接頭;所述切削液進(jìn)水口接頭上套設(shè)有密封圈;所述密封圈上套設(shè)有密封蓋,所述密封蓋螺接在所述切削液進(jìn)水口接頭上;設(shè)置在所述噴水頭本體底部的、可旋轉(zhuǎn)的高壓噴嘴;與所述切削液進(jìn)水口接頭連接的第一電磁閥;

      所述萬(wàn)向噴氣頭包括:噴氣頭本體;設(shè)置在噴氣頭本體上的氣泵氣管接頭;設(shè)置在所述噴氣頭本體底部的噴氣嘴;設(shè)置在所述噴氣嘴上的噴氣孔;還包括與所述氣泵氣管接頭連接的第二電磁閥。

      所述立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,其中,所述主軸外壁上環(huán)繞固定設(shè)置有6個(gè)環(huán)噴槽。

      所述立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,其中,所述主軸外壁上環(huán)繞固定設(shè)置的6個(gè)環(huán)噴槽上,按順時(shí)針?lè)较蛞来卧O(shè)置有第一萬(wàn)向水噴頭、第一萬(wàn)向噴氣頭、第二萬(wàn)向水噴頭、第二萬(wàn)向噴氣頭、第三萬(wàn)向水噴頭及第三萬(wàn)向噴氣頭。

      所述立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,其中,所述主軸上還固定設(shè)置有圓形安裝盤(pán);所述圓形安裝盤(pán)上依次固定設(shè)置氣泵、及儲(chǔ)水箱;所述第一萬(wàn)向水噴頭、第二萬(wàn)向水噴頭、及第三萬(wàn)向水噴頭均與所述儲(chǔ)水箱連接;所述第一萬(wàn)向噴氣頭、第二萬(wàn)向噴氣頭、及第三萬(wàn)向噴氣頭與所述氣泵連接。

      所述立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,其中,所述氣泵與所述圓形安裝盤(pán)之間還設(shè)置有減振海綿塊。

      所述立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,其中,所述儲(chǔ)水箱與所述圓形安裝盤(pán)之間還設(shè)置有減振海綿塊。

      所述立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,其中,所述第一萬(wàn)向水噴頭、第二萬(wàn)向水噴頭、及第三萬(wàn)向水噴頭與環(huán)噴槽軸線的夾角均為0-45度。

      所述立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,其中,所述第一萬(wàn)向噴氣頭、第二萬(wàn)向噴氣頭、及第三萬(wàn)向噴氣頭與所述環(huán)噴槽軸線的夾角均為0-45度。

      本實(shí)用新型所述立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,包括基座;設(shè)置在所基座上的主軸;環(huán)繞固定設(shè)置在所述主軸外壁上的多個(gè)環(huán)噴槽;固定設(shè)置在所述環(huán)噴槽上的萬(wàn)向水噴頭;固定設(shè)置在所述環(huán)噴槽上的萬(wàn)向噴氣頭;所述萬(wàn)向噴水頭包括:噴水頭本體;設(shè)置在噴水頭本體上的切削液進(jìn)水口接頭;所述切削液進(jìn)水口接頭上套設(shè)有密封圈;所述密封圈上套設(shè)有密封蓋,所述密封蓋螺接在所述切削液進(jìn)水口接頭上;設(shè)置在所述噴水頭本體底部的、可旋轉(zhuǎn)的高壓噴嘴;與所述切削液進(jìn)水口接頭連接的第一電磁閥。本實(shí)用新型通過(guò)噴水和噴氣對(duì)刀具和工件進(jìn)行環(huán)噴冷卻,提高了冷卻效率。

      附圖說(shuō)明

      圖1為本實(shí)用新型的立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

      圖2為本實(shí)用新型的立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴中萬(wàn)向水噴頭的示意圖。

      圖3為本實(shí)用新型的立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴中萬(wàn)向噴氣頭的示意圖。

      具體實(shí)施方式

      本實(shí)用新型提供一種立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及效果更加清楚、明確,以下參照附圖并舉實(shí)例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型,并不用于限定本實(shí)用新型,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)這些實(shí)施方式所做出的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。

      請(qǐng)同時(shí)參見(jiàn)圖1-圖3,其中圖1為本實(shí)用新型的立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴的整體結(jié)構(gòu)示意圖,圖2為本實(shí)用新型的立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴中萬(wàn)向水噴頭的示意圖,圖3為本實(shí)用新型的立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴中萬(wàn)向噴氣頭的示意圖。如圖1-圖3所示,所述立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴包括:

      基座(圖1中未畫(huà)出);

      設(shè)置在所基座上的主軸100;

      環(huán)繞固定設(shè)置在所述主軸100外壁上的多個(gè)環(huán)噴槽200;

      固定設(shè)置在所述環(huán)噴槽200上的萬(wàn)向水噴頭300;

      固定設(shè)置在所述環(huán)噴槽200上的萬(wàn)向噴氣頭400;

      所述萬(wàn)向噴水頭300包括:噴水頭本體310;設(shè)置在噴水頭本體上的切削液進(jìn)水口接頭320;所述切削液進(jìn)水口接頭320上套設(shè)有密封圈330;所述密封圈330上套設(shè)有密封蓋340,所述密封蓋340螺接在所述切削液進(jìn)水口接頭320上;設(shè)置在所述噴水頭本體310底部的、可旋轉(zhuǎn)的高壓噴嘴350;與所述切削液進(jìn)水口320接頭連接的第一電磁閥360;

      所述萬(wàn)向噴氣頭400包括:噴氣頭本體410;設(shè)置在噴氣頭本體410上的氣泵氣管接頭420;設(shè)置在所述噴氣頭本體410底部的噴氣嘴430;設(shè)置在所述噴氣嘴430上的噴氣孔440;還包括與所述氣泵氣管接頭420連接的第二電磁閥450。

      本實(shí)用新型的實(shí)施例中,當(dāng)需使用萬(wàn)向水噴頭300對(duì)工件進(jìn)行噴水冷卻時(shí),則通過(guò)旋轉(zhuǎn)主軸100,使得萬(wàn)向水噴頭300對(duì)準(zhǔn)工件進(jìn)行噴水;當(dāng)需使用萬(wàn)向噴氣頭400對(duì)工件進(jìn)行噴氣冷卻時(shí),則通過(guò)旋轉(zhuǎn)主軸100,使得萬(wàn)向噴氣頭400對(duì)準(zhǔn)工件進(jìn)行噴氣??梢?jiàn),本實(shí)用新型通過(guò)噴水和噴氣對(duì)刀具和工件進(jìn)行環(huán)噴冷卻,提高了冷卻效率。

      具體的,所述主軸100外壁上環(huán)繞固定設(shè)置有6個(gè)環(huán)噴槽200。所述主軸100外壁上環(huán)繞固定設(shè)置的6個(gè)環(huán)噴槽上,按順時(shí)針?lè)较蛞来卧O(shè)置有第一萬(wàn)向水噴頭、第一萬(wàn)向噴氣頭、第二萬(wàn)向水噴頭、第二萬(wàn)向噴氣頭、第三萬(wàn)向水噴頭及第三萬(wàn)向噴氣頭。

      進(jìn)一步的,所述第一萬(wàn)向水噴頭、第二萬(wàn)向水噴頭、及第三萬(wàn)向水噴頭與環(huán)噴槽軸線的夾角均為0-45度;所述第一萬(wàn)向噴氣頭、第二萬(wàn)向噴氣頭、及第三萬(wàn)向噴氣頭與所述環(huán)噴槽軸線的夾角均為0-45度。

      進(jìn)一步的,如圖1所示,所述主軸100上還固定設(shè)置有圓形安裝盤(pán)500;所述圓形安裝盤(pán)500上依次固定設(shè)置氣泵510、及儲(chǔ)水箱520;所述第一萬(wàn)向水噴頭、第二萬(wàn)向水噴頭、及第三萬(wàn)向水噴頭均與所述儲(chǔ)水箱520連接;所述第一萬(wàn)向噴氣頭、第二萬(wàn)向噴氣頭、及第三萬(wàn)向噴氣頭與所述氣泵510連接。所述氣泵510與所述圓形安裝盤(pán)500之間還設(shè)置有減振海綿塊。所述儲(chǔ)水箱520與所述圓形安裝盤(pán)500之間還設(shè)置有減振海綿塊。

      綜上所述,本實(shí)用新型所述立式鉆攻中心的底盤(pán)環(huán)噴,包括基座;設(shè)置在所基座上的主軸;環(huán)繞固定設(shè)置在所述主軸外壁上的多個(gè)環(huán)噴槽;固定設(shè)置在所述環(huán)噴槽上的萬(wàn)向水噴頭;固定設(shè)置在所述環(huán)噴槽上的萬(wàn)向噴氣頭;所述萬(wàn)向噴水頭包括:噴水頭本體;設(shè)置在噴水頭本體上的切削液進(jìn)水口接頭;所述切削液進(jìn)水口接頭上套設(shè)有密封圈;所述密封圈上套設(shè)有密封蓋,所述密封蓋螺接在所述切削液進(jìn)水口接頭上;設(shè)置在所述噴水頭本體底部的、可旋轉(zhuǎn)的高壓噴嘴;與所述切削液進(jìn)水口接頭連接的第一電磁閥。本實(shí)用新型通過(guò)噴水和噴氣對(duì)刀具和工件進(jìn)行環(huán)噴冷卻,提高了冷卻效率。

      可以理解的是,對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),可以根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案及本實(shí)用新型構(gòu)思加以等同替換或改變,而所有這些改變或替換都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。

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