專利名稱：錫爐的錫液流速減緩裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種錫爐的錫液流速減緩裝置，特別是涉及一種容易使錫渣與錫液分離，且可使錫渣浮於錫液表面而易於撈取錫渣的錫爐的錫液流速減緩裝置。
如


圖1所示，一般在錫槽10內(nèi)所使用的有一個(gè)擾流波內(nèi)爐11及一個(gè)層流波內(nèi)爐12，當(dāng)該錫槽10內(nèi)的錫液經(jīng)過該兩內(nèi)爐11、12內(nèi)部而往上噴揚(yáng)，使錫液能附著在通過該錫槽10上端的電路板底面時(shí)，一部分的錫液除了會(huì)黏附在電路板底面的元件接腳上，另一部分未能黏附的錫液順勢(shì)掉落在該擾流波內(nèi)爐11與錫槽10側(cè)壁之間，以及該擾流波內(nèi)爐11與層流波內(nèi)爐12之間，再慢慢流回錫槽內(nèi)，而與原來(lái)的錫液繼續(xù)混合，然後再重復(fù)原來(lái)噴揚(yáng)錫液的步驟，但是，在錫液循環(huán)的過程中，該錫液經(jīng)過該兩內(nèi)爐11、12內(nèi)部而往上噴揚(yáng)時(shí)，未附著在該電路板底面接腳上的錫液在往下要流回該錫槽10內(nèi)的錫液的路徑中，因?yàn)樵搩蓛?nèi)爐11、12的爐口與錫槽10內(nèi)錫液表面有一段較大的落差距離，導(dǎo)致該錫液暴露在空氣中的機(jī)會(huì)多，所以錫液受到氧化的機(jī)會(huì)也增大，因此，該錫液往下流回錫槽10的過程中，一定會(huì)產(chǎn)生較多的錫渣，因?yàn)椋a渣的比重比錫液的比重還小，所以帶有錫渣的錫液流到該錫槽10內(nèi)後，部分錫渣將會(huì)浮在錫液表面，另一部分錫渣會(huì)與錫液混合而隨泵裝置的動(dòng)作吸入槽底而阻塞在槽內(nèi)各處，經(jīng)過一段時(shí)間後，會(huì)累積越來(lái)越多的錫渣，而導(dǎo)致使用一段時(shí)間後，就必須常常重新?lián)迫「§侗砻娴腻a渣，并且必需設(shè)法清除該錫槽10內(nèi)部阻塞在各處的錫渣，造成在使用上相當(dāng)不方便。
本實(shí)用新型的目的在於提供一種可使錫渣與錫液分離，且在不影響正常運(yùn)作的情況下，能夠清除錫渣的錫爐的錫液流速減緩裝置。
本實(shí)用新型的錫爐的錫液流速減緩裝置，其特征在于將流速減緩裝置裝設(shè)在錫槽內(nèi)層流波內(nèi)爐與擾流波內(nèi)爐之間，以及裝設(shè)在該擾流波內(nèi)爐與錫槽側(cè)壁之間，藉由該阻尼裝置能夠降低錫液的掉落高度，可減少該錫液受到氧化的機(jī)會(huì)，并且可產(chǎn)生較少的錫渣又能使錫渣與錫液分離并且往該錫槽內(nèi)的兩側(cè)集中，以達(dá)該錫爐不容易被錫渣所阻塞且具有能一邊運(yùn)轉(zhuǎn)一邊又清除錫渣的功效。
本實(shí)用新型的錫爐的錫液流速減緩裝置，包括一個(gè)承接槽及兩個(gè)設(shè)置在該承接槽兩端的離析構(gòu)件，該承接槽內(nèi)部是一個(gè)溝槽，該兩離析構(gòu)件設(shè)置在該承接槽的兩端，該離析構(gòu)件包括一個(gè)凹槽及一個(gè)主擋板，該凹槽是連接設(shè)在該承接槽的兩端，該主擋板設(shè)在該凹槽內(nèi)靠近該承接槽的兩流出口處，且該擋板的底端與該凹槽的底部設(shè)有一適當(dāng)距離，藉由該擋板使該凹槽分為離析槽及溢流槽，且該離析槽的底部及該溢流槽的底部是連通的，當(dāng)錫液從層流波內(nèi)爐及擾流波內(nèi)爐噴出而落在該承接槽後，錫液會(huì)順勢(shì)分別流向該兩離析構(gòu)件內(nèi)，因?yàn)殄a液先流經(jīng)該離析槽內(nèi)時(shí)，錫液會(huì)經(jīng)過旋擠壓，使錫液與錫渣分離，經(jīng)過分離後的錫液及錫渣，在該溢流槽內(nèi)形成錫渣浮在錫液表面的景象，然後再流入該錫槽的兩側(cè)。
下面通過最佳實(shí)施例及附圖對(duì)本實(shí)用新型的錫爐的錫液流速減緩裝置進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，
圖1是以往錫爐的側(cè)面示意圖；圖2是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的立體組合圖；圖3是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的動(dòng)作示意圖；圖4是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的側(cè)面示意圖；圖5是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例組裝狀態(tài)下的側(cè)面示意圖。
為了方便說(shuō)明，以下的實(shí)施例中，與以往相同的元件以相同的標(biāo)號(hào)表示。
如圖2所示，本實(shí)用新型錫爐的錫液流速減緩裝置20包括一個(gè)承接槽21及兩離析構(gòu)件22。
如圖2、5所示，該承接槽21是一個(gè)內(nèi)部呈現(xiàn)凹狀的長(zhǎng)形溝槽，以作為承接一個(gè)擾流波內(nèi)爐11及一個(gè)層流波內(nèi)爐12往上噴揚(yáng)後而掉落的錫液。
如圖2～5所示，該兩離析構(gòu)件22分別設(shè)置在該承接槽21的兩端，該離析構(gòu)件22包括一凹槽23及一主擋板24，該凹槽23連接設(shè)在該承接槽21的兩端，而該主擋板24設(shè)在該凹槽23內(nèi)靠近該承接槽21的兩流入口25處而固接在該凹槽23的兩側(cè)，使該主擋板24的底端與該凹槽23的底部有一適當(dāng)距離，借助該主擋板24使該凹槽23分為一個(gè)離析槽26及一個(gè)溢流槽27，且該離析槽26的底部及該溢流槽27的底部是連通的，另外，該主擋板24上端垂直延伸設(shè)有一個(gè)第一擋板28，并在該主擋板24左右兩側(cè)端緣分別垂直延伸設(shè)有一個(gè)第二擋板29，使該第二擋板29與該凹槽23是呈一體成形的連接方式，并且該主擋板24、第一擋板28與第二擋板29相互垂直。
如圖3、4所示，當(dāng)錫液從該兩內(nèi)爐11及12向上噴揚(yáng)後，一部分的錫液會(huì)附著在電路板底面上，另一部分的錫液會(huì)掉落在該承接槽21內(nèi)，此時(shí)，掉落在該承接槽21的錫液因?yàn)槭墙佑|到外部的空氣，而與空氣發(fā)生氧化作用後才掉落在該承接槽21內(nèi)，所以這一部分的錫液內(nèi)將夾帶有錫渣并順勢(shì)分別往該兩離析構(gòu)件22流動(dòng)，一通過該承接槽21的流出口而流進(jìn)該凹槽23的離析槽26時(shí)，因?yàn)?，先受到該主擋?4的阻檔，所以錫液不會(huì)直接流到該溢流槽27內(nèi)，而是先會(huì)在該離析槽26內(nèi)對(duì)錫液作旋擠壓的動(dòng)作，使錫液與錫渣的離析通過一個(gè)連通口30後，因?yàn)殄a渣的比重比錫液的比重還小，所以在該溢流槽27形成錫渣浮在錫液表面的景象，此時(shí)錫液與錫渣再同時(shí)從該溢流槽27流入該錫槽10的兩側(cè)。
綜上所述，本實(shí)用新型的錫爐的流速減緩裝置，是因?yàn)樵谠摂_流波內(nèi)爐11兩側(cè)各裝設(shè)有一個(gè)流速減緩裝置20，降低了錫液的溢流高度，所以也減低錫液受到氧化的機(jī)會(huì)，因此，就會(huì)減少錫渣的產(chǎn)生，雖然也會(huì)產(chǎn)生少許的錫渣，但是，仍然會(huì)借助該離析槽26的分離作用，使錫渣被分離出來(lái)，并且透過該溢流槽27而將錫液與錫渣排在該錫槽10的兩側(cè)，此時(shí)，就可在不影響正常運(yùn)作的情況下，一邊可使錫爐正常運(yùn)轉(zhuǎn)一邊又可容易地清除錫渣，避免以往產(chǎn)生過多的錫渣而在該錫槽10內(nèi)的錫液表面上飄來(lái)飄去，或是與錫液混合而隨泵裝置被吸入該錫槽10內(nèi)而造成阻塞，導(dǎo)致不容易撈取清除的現(xiàn)象發(fā)生。
權(quán)利要求1．一種錫爐的錫液流速減緩裝置，是裝設(shè)於錫槽內(nèi)部，其特征在于包括一個(gè)承接槽及兩個(gè)離析構(gòu)件；該承接槽內(nèi)部為一個(gè)溝槽；該兩離析構(gòu)件分別設(shè)置在該承接槽的兩端，且該兩離析構(gòu)件包括一個(gè)連接設(shè)在該承接槽兩端的凹槽及一個(gè)設(shè)在該凹槽內(nèi)靠近該承接槽的兩流出口處的主擋板，該主擋板的底端與該凹槽的底部有一預(yù)定距離，該主擋板使該凹槽分為底部相互連通的一個(gè)離析槽及一個(gè)溢流槽。
2．根據(jù)權(quán)利要求1所述的錫爐的錫液流速減緩裝置，其特征在于該主擋板的側(cè)緣分別設(shè)有一個(gè)可阻擋錫液濺到外面的擋板。
專利摘要一種錫爐的錫液流速減緩裝置，包括一承接槽及兩分別設(shè)在承接槽兩端的離析構(gòu)件，承接槽內(nèi)部是一溝槽，離析構(gòu)件包括一連設(shè)在承接槽兩端的凹槽及一設(shè)在凹槽內(nèi)靠近承接槽兩流出口處的主擋板，主擋板的底端與凹槽的底部有一距離，借助主擋板使凹槽分為底部為相互連通的離析槽及溢流槽，可使產(chǎn)生錫渣的機(jī)會(huì)減少，并使錫渣往錫槽的兩側(cè)集中，以在不影響正常運(yùn)作的情況下，能夠容易地清除錫渣。
文檔編號(hào)B23K3/06GK2335729SQ98209170
公開日1999年9月1日 申請(qǐng)日期1998年2月27日 優(yōu)先權(quán)日1998年2月27日
發(fā)明者張偉雄 申請(qǐng)人:張偉雄