專利名稱:Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法及該電觸點(diǎn)材料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法。
背景技術(shù):
眾所周知,Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的接觸電阻雖然較小,但其耐熔焊性和耐損耗性不佳,因此,作為對(duì)耐熔焊性和耐損耗性有特殊要求的繼電器和開關(guān)等的開閉觸點(diǎn)使用時(shí),怎樣提高Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的耐熔焊性和耐損耗性就成為了一個(gè)技術(shù)難題。
為提高Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的耐熔焊性和耐損耗性,采用的基本方法是更均勻且更微細(xì)地使ZnO分散到Ag中。為實(shí)現(xiàn)ZnO的均勻微細(xì)分散,提出了粉末冶金法、內(nèi)部氧化法等各種Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法。
粉末冶金法是將粉末狀的Ag及ZnO加以混合,再成型燒結(jié)。所以,混合的粉末粒徑必須非常小才能充分混合,才能夠使ZnO以某種均勻微細(xì)狀態(tài)分散。但是,粉末冶金法中的ZnO的分散狀態(tài)受粉末狀的Ag及ZnO粒徑的限制,所以可以認(rèn)為使其達(dá)到更均勻且微細(xì)狀態(tài)受到一定限制。此外,Ag和ZnO的燒結(jié)特性不太理想,制得的材料中有時(shí)還存在空隙,從而導(dǎo)致耐熔焊性和耐損耗性惡化,不能夠制得具備良好開關(guān)觸點(diǎn)特性的材料。另外,粉末冶金法的制造成本較高,從經(jīng)濟(jì)方面考慮也不太理想。
內(nèi)部氧化法是指熔解鑄造規(guī)定組成的Ag-Zn合金,對(duì)其進(jìn)行壓延加工和沖壓剪切加工,制成特定形狀后,在氧化氛圍氣中加熱,選擇性地使Ag-Zn合金中的Zn先氧化,制得在Ag中分散有ZnO的材料。如日本專利公報(bào)昭57-13613號(hào)所述,采用該內(nèi)部氧化法時(shí),如果添加具有可使ZnO微細(xì)分散性質(zhì)的第3種金屬元素,則ZnO能夠微細(xì)分散。
內(nèi)部氧化法中,添加第3種金屬元素使ZnO微細(xì)分散時(shí),Ag中的ZnO容易成為針狀,該針狀氧化物大多數(shù)情況下呈條紋狀析出的分散狀態(tài)。而且,這種分散狀態(tài)隨著Zn的增加越來越明顯。該條紋狀分散的針狀氧化物與粉末冶金法中球狀ZnO的微細(xì)分散狀態(tài)不同,不能夠充分提高耐熔焊性和耐損耗性。此外,如果為了微細(xì)分散而添加的第3種元素的添加量較多,則有時(shí)會(huì)對(duì)Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的特性產(chǎn)生不良影響,所以可以認(rèn)為,傳統(tǒng)的內(nèi)部氧化法在ZnO的均勻微細(xì)分散方面受到一定限制。
從以上事實(shí)考慮,目前大多數(shù)采用的是通過粉末冶金法制得的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料。但是,即使采用上述粉末冶金法,現(xiàn)在也存在粉末粒子的控制性和燒結(jié)特性等制造上的技術(shù)難題,另外,還需要進(jìn)一步降低生產(chǎn)成本。
基于上述情況完成了本發(fā)明。本發(fā)明的目的是提供一種Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法,所述制造方法可使ZnO均勻且微細(xì)地分散于Ag中,能維持較小的接觸電阻,并可提高耐熔焊性和耐損耗性,且制造成本較低。
發(fā)明的揭示為了解決上述問題,本發(fā)明者們改進(jìn)了用內(nèi)部氧化法制造Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的方法,通過這樣,以從前實(shí)現(xiàn)不了的均勻且微細(xì)的狀態(tài),制得分散了ZnO的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料。具體來講,該方法是對(duì)由規(guī)定組成的Ag和Zn進(jìn)行熔融鑄造,制得Ag-Zn合金,再對(duì)其進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,使ZnO分散于Ag中,上述Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法的特征是,將以金屬換算的5~10重量%的Zn和余量的Ag熔解鑄造制成Ag-Zn合金,切成小段后進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,然后,集中經(jīng)過內(nèi)部氧化處理的小段,壓縮成型形成坯段,再對(duì)該坯段進(jìn)行壓縮加工和燒結(jié)處理,最后進(jìn)行加壓加工。本發(fā)明者發(fā)現(xiàn),采用該制造方法,可使Ag中的ZnO非常均勻且微細(xì)地分散。
將熔解鑄造而成的Ag-Zn合金切成小段,對(duì)其進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,然后集中這些小段使其壓縮成型形成坯段,再進(jìn)行壓縮加工和燒結(jié)處理后,坯段中的ZnO呈條紋狀分散狀態(tài)。但是,對(duì)坯段進(jìn)行加壓加工后,呈條紋狀分散的ZnO均勻且微細(xì)地分散在Ag中。本發(fā)明者們推測這種現(xiàn)象是由Ag和ZnO的良好潤濕性引起的。
對(duì)坯段進(jìn)行加壓加工而形成線狀材料等的情況下,在從坯段轉(zhuǎn)變?yōu)榫€狀材料的變形過程中,對(duì)材料的長度方向需加上非常大的剪切力。由于加壓加工時(shí)的這種變形,坯段中呈條紋狀分散的ZnO被切斷,以微細(xì)狀態(tài)分散于Ag中。本發(fā)明者們經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn),象Ag-SnO2系電觸點(diǎn)材料這種與Ag的潤濕性較差的氧化物,不能夠?qū)崿F(xiàn)與本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料同樣的均勻微細(xì)分散狀態(tài)。SnO2等與Ag的潤濕性較差的氧化物,即使在加壓加工時(shí)對(duì)其長度方向施加較大的剪切力,該氧化物也不能夠變成微細(xì)狀態(tài)。另一方面,與Ag具備良好潤濕性的ZnO,如果通過加壓加工在其長度方向施加較大剪切力,則ZnO也受到該剪切力的作用而不會(huì)引起Ag的拉長變形,所以,以條紋狀存在于坯段中的ZnO進(jìn)一步微細(xì)化,形成以往不能夠達(dá)到的非常均勻且微細(xì)的分散狀態(tài)。
在制造本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料時(shí)需特別滿足以下條件。第1,集中經(jīng)過內(nèi)部氧化處理的小段對(duì)其進(jìn)行壓縮成型而獲得坯段,在對(duì)該坯段進(jìn)行壓縮加工和燒結(jié)處理后,坯段中不能夠殘留空孔和凹陷。例如,必須反復(fù)數(shù)次對(duì)坯段進(jìn)行壓縮加工和燒結(jié)處理以確保消除坯段內(nèi)部的空孔和凹陷。
最終的加壓加工中,必須使加壓面積比大到一定程度。最好是在坯段截面和壓出的線狀材料截面的面積比在51∶1以上的狀態(tài)下進(jìn)行。以如此大的加壓面積比進(jìn)行加壓加工,能夠使Ag中的ZnO非常均勻且微細(xì)地分散,還提高生產(chǎn)效率。此外,一般加壓加工裝置的加工能以約350∶1左右的加壓面積比進(jìn)行,所以,本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法也可在上述加壓面積比下進(jìn)行。
由本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法獲得的產(chǎn)品,由于Ag中的ZnO達(dá)到了用傳統(tǒng)的內(nèi)部氧化法無法實(shí)現(xiàn)的均勻且微細(xì)的分散狀態(tài),所以,能夠?qū)⒔佑|電阻維持在較低水平,使耐熔焊性和耐損耗性有所提高。本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料制造方法的制造成本低于粉末冶金法,但制得的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的特性能夠達(dá)到與粉末冶金法的產(chǎn)品相同的程度。
本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法中,如果材料僅由Ag和Zn構(gòu)成,則組成最好是5~10重量%的Zn,其余為Ag。這是因?yàn)槿绻鸝n不足5%,則不能夠獲得實(shí)用水平的耐熔焊性和耐損耗性。如果Zn超過10%,則難以進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,即使能進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,也使接觸電阻顯著增加,加工性能也變差。
本發(fā)明者們對(duì)上述Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法進(jìn)行各種研究后發(fā)現(xiàn),如果采用Ag-Zn-Cu合金或Ag-Zn-Cu-Ni合金,則能夠制得具備更佳特性的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料。
采用Ag-Zn-Cu合金制造上述本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料時(shí),可添加Cu,使ZnO以更均勻微細(xì)的狀態(tài)分散在Ag中。這種添加Cu使ZnO均勻微細(xì)分散的情況與僅有ZnO的情況相比,能夠提高維持低接觸電阻的性能。
本發(fā)明者們經(jīng)過研究后發(fā)現(xiàn),由Ag和Zn制得的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料在作為開關(guān)觸點(diǎn)使用時(shí),如果以AC250V和10A反復(fù)進(jìn)行開關(guān)操作,則在觸點(diǎn)表面會(huì)堆積作為皮膜的ZnO,導(dǎo)致接觸電阻增加。觀察觸點(diǎn)表面可發(fā)現(xiàn),ZnO以層狀存在于由于電弧的緣故而受損的觸點(diǎn)表面,這樣就明確了接觸電阻增加的原因。
但是,如果采用添加了Cu的本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法,則能夠有效防止開關(guān)操作時(shí)ZnO造成的接觸電阻增加的現(xiàn)象。這可以認(rèn)為是Cu以固溶于ZnO中的狀態(tài),使ZnO均勻微細(xì)地分散于Ag中。即,固溶于ZnO的Cu可抑制開關(guān)操作時(shí)觸點(diǎn)表面的ZnO皮膜的產(chǎn)生。
由添加了Cu的本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法制得的材料可維持良好的低接觸電阻性,且具備良好的耐熔焊性和耐損耗性??赏耆m用于常用型號(hào)的繼電器和開關(guān)所要求的AC250V、10A左右的負(fù)荷。
添加了Cu的本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法中,其組成比較理想的是5~10重量%的Zn、0.01~3.00重量%的Cu、其余為Ag。最好是7~9重量%的Zn、0.20~0.50重量%的Cu。在這樣的組成范圍內(nèi),添加Cu能夠獲得最好的效果。
這是因?yàn)槿绻鸝n不足5重量%,則不能夠?qū)⒛腿酆感院湍蛽p耗性提高到實(shí)用水平。如果Zn超過10重量%,則難以進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,即使添加了Cu,也不能夠使ZnO均勻微細(xì)地分散。此外,即使ZnO能夠均勻微細(xì)地分散,如果Zn超過10重量%,則很難維持實(shí)用水平的低接觸電阻,材料加工性也將變差。另外,如果Cu不足0.01重量%,則添加Cu后的ZnO的微細(xì)化效果不明顯,如果超過3.00重量%,則作為觸點(diǎn)使用過程中,固溶于ZnO中的Cu容易分離,出現(xiàn)CuO堆積在觸點(diǎn)表面的現(xiàn)象,反而造成接觸電阻的增加。
如果采用Ag-Zn-Cu-Ni合金制造上述本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料,則該材料作為觸點(diǎn)使用時(shí)的耐損耗性將能進(jìn)一步得到提高。
已經(jīng)知道,在通過內(nèi)部氧化制造Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的情況下,Ni一般作為使ZnO微細(xì)析出的添加元素。但是,本發(fā)明者們經(jīng)過研究后發(fā)現(xiàn),僅就添加了Cu的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料與添加了Ni和Cu的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料進(jìn)行比較而言,Ni并沒有顯現(xiàn)使ZnO微細(xì)析出的效果。但如果其中包含Ni,則證實(shí)對(duì)于常用型號(hào)的繼電器和開關(guān)所要求的AC250V、10A左右負(fù)荷的耐損耗性卻明顯提高。這可以認(rèn)為以部分Ni固溶于ZnO的狀態(tài)使該氧化物均勻微細(xì)地分散于Ag中,能夠使耐損耗性得到提高。
添加了Cu和Ni的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法中,其組成較理想是5~10重量%的Zn、0.01~3.00重量%的Cu、0.01~0.50重量%的Ni、其余為Ag。最好是7~9重量%的Zn、0.20~0.50重量%的Cu、0.05~0.20重量%的Ni。在這樣的組成范圍內(nèi),ZnO、Cu及Ni的復(fù)合作用處于最佳平衡狀態(tài)。
這是因?yàn)?,如果Ni含量不足0.01重量%,則耐損耗性的提高效果不明顯。如果超過0.50重量%,則Ni會(huì)在內(nèi)部氧化處理前偏析于Ag合金中,內(nèi)部氧化后粗大的NiO粒子析出,這樣就導(dǎo)致接觸電阻增加等。這種情況下,還可用Fe和Co代替Ni,這些金屬也具備與Ni同樣的使耐損耗性提高的性能。Zn和Cu含量范圍的理由如上所述,這里加以省略。
由上述本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法制得的電觸點(diǎn)材料,如上所述,Ag中的ZnO能夠以以往內(nèi)部氧化法無法實(shí)現(xiàn)的均勻且微細(xì)的狀態(tài)分散,所以,可維持良好的低接觸電阻性,并使耐熔焊性和耐損耗性有所提高。
對(duì)附圖的簡單說明
圖1是實(shí)施例3的截面組織照片。圖2是實(shí)施例11的截面組織照片。圖3是實(shí)施例16的截面組織照片。圖4是以往例子2的截面組織照片。圖5是以往例子5的截面組織照片。圖6是以往例子7的截面組織照片。圖7是比較例1的截面組織照片。圖8是比較例2的截面組織照片。圖9是實(shí)施例11的耐久試驗(yàn)后的截面組織照片(×50)。圖10是圖9的部分放大截面組織照片(×400)。圖11是比較例3的耐久試驗(yàn)后的截面組織照片(×50)。圖12是圖11的部分放大截面組織照片(×400)。
實(shí)施發(fā)明的最佳狀態(tài)以下,通過實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的實(shí)施狀態(tài)進(jìn)行說明。實(shí)施例1~17是按照表1所示的合金組成(用重量%表示)制得的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料。以往例子1~8、比較例1~2是用來與實(shí)施例進(jìn)行比較的電觸點(diǎn)材料。
表1
實(shí)施例1~17所示Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料是利用以下所示制造方法制得的材料。用一般的高頻熔解爐熔融各組成的Ag-Zn系合金后,鑄造成坯料,再通過熱壓加工制成φ6mm的線材。然后,在700℃的溫度下對(duì)線材進(jìn)行退火處理,同時(shí)對(duì)其進(jìn)行拉伸加工至φ2mm,切成2mm長,制成φ2mm×2mm的小段。接著,在5個(gè)氣壓的氧氣壓力下,于800℃對(duì)小段進(jìn)行48小時(shí)的內(nèi)部氧化處理,集中經(jīng)過內(nèi)部氧化處理的小段,壓縮成型,獲得φ50mm的圓柱形坯段。
將上述圓柱形坯段裝入圓筒容器中,從圓柱的長度方向施加壓力,對(duì)圓柱形坯段進(jìn)行壓縮加工。在壓縮加工中,由于圓柱坯段側(cè)面受圓筒容器的限制,所以,只能使其沿圓柱的長度方向變形,而與長度方向垂直的圓柱側(cè)面方向不會(huì)發(fā)生變形。在壓縮加工后,于750℃進(jìn)行4小時(shí)的燒結(jié)處理,將上述壓縮加工和燒結(jié)處理反復(fù)進(jìn)行4次。
經(jīng)過了壓縮加工和燒結(jié)處理的坯段再通過熱壓加工形成φ7mm的線材(加壓面積比約為51∶1)。然后,通過拉伸加工制成直徑為2.3mm的線材。再用鐓鍛機(jī)制成端部直徑為3.5mm、端部厚度為1mm的鉚接觸點(diǎn)。
以往例子1~2的電觸點(diǎn)材料是本發(fā)明者們用傳統(tǒng)的內(nèi)部氧化法制得的材料。即,用常用的高頻熔解爐熔融各組成的Ag-Zn系合金后,鑄造成坯料,再通過熱壓加工制成φ2.3mm的線材。然后,在5個(gè)氣壓的氧氣壓力下,于800℃對(duì)線材進(jìn)行48小時(shí)的內(nèi)部氧化處理。比較例1~2的電觸點(diǎn)材料是利用粉末冶金法制得的材料。按照金屬量換算的表1記載的組成量,準(zhǔn)備Ag、ZnO和CuO粉末,在燒結(jié)溫度為750℃、成型壓力為200t的條件下制得。
以下,對(duì)實(shí)施例的截面組織和物性進(jìn)行說明。作為代表例,圖1~3分別為實(shí)施例3、11和16的加壓加工后線材狀態(tài)下的截面組織照片。圖4~6是以往例子2、5、7的截面組織照片,圖7和圖8是比較例1和2的截面組織照片。這些截面照片都是以400倍的放大倍率用金屬顯微鏡觀察拍攝到的。
表1中還列舉了各實(shí)施例、以往例子和比較例的電觸點(diǎn)材料截面的維氏硬度值(負(fù)荷200gf)。實(shí)施例的硬度值中記錄在[]內(nèi)的值是加壓加工前的硬度值。
對(duì)于實(shí)施例3、11、16,確認(rèn)了在加壓加工前的狀態(tài)下,Ag中的ZnO等氧化物如圖4~6所示,呈條紋狀分散狀態(tài)。這些條紋狀氧化物的分散狀態(tài)在加壓加工后如圖1~3所示,以極微細(xì)均勻的狀態(tài)分散。表1記載的其他實(shí)施例的結(jié)果也相同。此外,圖4~6所示的以往例子確認(rèn)了ZnO呈條紋狀分散。另外,如圖6及圖7所示,用粉末冶金法獲得的比較例中,ZnO以一定程度的均勻性分散在Ag中。但是,如實(shí)施例的圖1~3所示,與比較例的氧化物分散狀態(tài)相比,實(shí)施例的圖1~3的氧化物分散狀態(tài)更均勻,更微細(xì)。
從表1所示的維氏硬度可看出,各實(shí)施例的硬度比以往例子及比較例的硬度明顯大。從這點(diǎn)可證實(shí),實(shí)施例的電觸點(diǎn)材料因ZnO的微細(xì)分散效果而硬化。
以下,對(duì)鉚接觸點(diǎn)的耐久試驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行說明。將以往例子11的鉚接觸點(diǎn)裝入繼電器中,按照表2所示TV規(guī)格確定的TV-8條件進(jìn)行耐久試驗(yàn)。作為對(duì)比用試樣,使用12重量%Cd-其余的Ag組成的合金經(jīng)過與以往例子同樣的內(nèi)部氧化處理,再加工成同樣形狀的鉚接觸點(diǎn)(比較例3)。該比較例3的電觸點(diǎn)材料的截面組織是比較均勻且微細(xì)地分散有氧化物的組織。
表2
按照表2所示條件進(jìn)行4萬次開關(guān)后,觀察實(shí)施例11及比較例3的鉚接觸點(diǎn)部位的截面組織,其結(jié)果如圖9~圖12所示。圖9(倍率為50倍)及圖10(倍率為400倍)是實(shí)施例11的觸點(diǎn)部位的截面組織照片。圖11(倍率為50倍)和圖12(倍率為400倍)是比較例3的觸點(diǎn)部位的截面組織照片。(a)表示動(dòng)觸點(diǎn)的觸點(diǎn)部位,(b)表示靜觸點(diǎn)的觸點(diǎn)部位。如圖9(a)和(b)所示,實(shí)施例11的觸點(diǎn)表面保持平滑,而與此相比,比較例3如圖11(a)和(b)所示,其表面有明顯的凹凸,變得粗糙不平。若觀察觸點(diǎn)部位被放大的圖10和圖12可知,實(shí)施例11中幾乎無條紋狀氧化物堆積(照片黑色部分),可以認(rèn)為其維持了良好的組織狀態(tài)。但比較例3中,在觸點(diǎn)表面堆積了條紋狀氧化物(照片黑色部分),確認(rèn)其處于變質(zhì)狀態(tài)。
從耐久試驗(yàn)的結(jié)果可看出,實(shí)施例11的電觸點(diǎn)材料與以往的電觸點(diǎn)材料中較好的Cd系材料相比,其耐熔焊性和耐損耗性也很好。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性利用本發(fā)明的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法,能夠使ZnO均勻且微細(xì)地分散于Ag中,可提高耐熔焊性和耐損耗性。此外,還降低了制造成本。
權(quán)利要求
1.Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法,所述方法是對(duì)熔解鑄造規(guī)定組成量的Ag和Zn而獲得的Ag-Zn合金進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,使ZnO分散于Ag中制得Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的方法,其特征在于,將以金屬重量換算的5~10重量%的Zn和余量的Ag熔解鑄造而成的Ag-Zn合金切成小段并進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,然后,集中經(jīng)過內(nèi)部氧化處理的小段,壓縮成型形成坯段,再對(duì)該坯段進(jìn)行壓縮加工和燒結(jié)處理,最后進(jìn)行加壓加工,使ZnO非常均勻且微細(xì)地分散于Ag中。
2.Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法,所述方法是對(duì)熔解鑄造規(guī)定組成量的Ag、Zn和Cu而獲得的Ag-Zn-Cu合金進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,使ZnO分散于Ag中制得Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的方法,其特征在于,將以金屬重量換算的5~10重量%的Zn、0.01~3.00重量%的Cu和余量的Ag熔解鑄造而成的Ag-Zn-Cu合金切成小段并進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,然后,集中經(jīng)過內(nèi)部氧化處理的小段,壓縮成型形成坯段,再對(duì)該坯段進(jìn)行壓縮加工和燒結(jié)處理,最后進(jìn)行加壓加工,使ZnO非常均勻且微細(xì)地分散于Ag中。
3.Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法,所述方法是對(duì)熔解鑄造規(guī)定組成量的Ag、Zn、Cu和Ni而獲得的Ag-Zn-Cu-Ni合金進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,使ZnO分散于Ag中制得Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的方法,其特征在于,將以金屬重量換算的5~10重量%的Zn、0.01~3.00重量%的Cu、0.01~0.50重量%的Ni和余量的Ag熔解鑄造而成的Ag-Zn-Cu-Ni合金切成小段并進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,然后,集中經(jīng)過內(nèi)部氧化處理的小段,壓縮成型形成坯段,再對(duì)該坯段進(jìn)行壓縮加工和燒結(jié)處理,最后進(jìn)行加壓加工,使ZnO非常均勻且微細(xì)地分散于Ag中。
4.電觸點(diǎn)材料,所述材料由權(quán)利要求1~3所述的Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法制得。
全文摘要
本發(fā)明的目的是提供一種Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的制造方法,該方法可使ZnO更均勻且微細(xì)地分散于Ag中,能夠維持較低的接觸電阻,并提高耐熔焊性和耐損耗性,且制造成本較低。該方法是對(duì)熔解鑄造規(guī)定組成量的Ag和Zn而獲得的Ag-Zn合金進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,使ZnO分散于Ag中制得Ag-ZnO系電觸點(diǎn)材料的方法,其特征是,將以金屬重量換算的5~10重量%的Zn和余量的Ag熔解鑄造而成的Ag-Zn合金切成小段并進(jìn)行內(nèi)部氧化處理,然后,集中經(jīng)過內(nèi)部氧化處理的小段,壓縮成型形成坯段,再對(duì)該坯段進(jìn)行壓縮加工和燒結(jié)處理,最后進(jìn)行加壓加工,使ZnO均勻且微細(xì)地分散于Ag中。
文檔編號(hào)C22C5/06GK1300440SQ00800609
公開日2001年6月20日 申請(qǐng)日期2000年4月20日 優(yōu)先權(quán)日1999年4月23日
發(fā)明者中村哲也, 坂口理, 草森裕之, 松澤修, 高橋昌宏, 山本俊哉 申請(qǐng)人:田中貴金屬工業(yè)株式會(huì)社