專利名稱：醫(yī)用高壓靜電治療膜的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于一種醫(yī)療器械產(chǎn)品——醫(yī)用高壓靜電治療膜的制造方法。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)領(lǐng)域，該種治療膜的制造方法為電暈注入法、電子束注入法和等離子注入法等，其中電子束注入法由于注入設(shè)備采用電子加速器，導致制造成本昂貴，操作維修復雜，所以并不常用；電暈注入法簡單易行，成本低廉，但其產(chǎn)品質(zhì)量較差，注入的電荷密度低，不均勻，易走失，治療效果差；等離子注入法較上述方法有較大優(yōu)勢，但仍存在激發(fā)、電離的條件不穩(wěn)定，產(chǎn)品批次之間重復性較差，注入電荷的能量相對較低(表面電位一般在-200V～-500V)，對治療效果也有影響。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是創(chuàng)建一種新的工藝方法制造醫(yī)用高壓靜電治療膜。使其激發(fā)電離條件更穩(wěn)定，諧振腔中自由電子的動能大幅提高，從而使產(chǎn)品表面電荷能量大幅提高，使產(chǎn)品獲得更高的技術(shù)性能和治療效果。
本發(fā)明的技術(shù)方案是醫(yī)用治療膜基材為高分子膨化微孔膜，膜厚0.1mm～0.2mm，將其置于諧振腔內(nèi)，采用充氬等離子濺射工藝，以高頻電磁場作為激發(fā)源，將其直接連接到電離諧振腔外的環(huán)狀電極上，諧振腔內(nèi)抽真空至0.05mmHg時，充入少量的氬氣，以保證電離過程的穩(wěn)定和注入電荷能量及密度的提高，使腔內(nèi)真空保持在0.05mmHg～10mmHg，施加能量后，腔內(nèi)以氬氣為主的混合氣體被電離，產(chǎn)生大量等離子體，其中氬原子中激發(fā)出的自由電子較氧、氮中激發(fā)出的電子具有更大的電子功能，同時由于諧振腔屬減壓系統(tǒng)，腔中的自由電子具有較大的平均自由程，因而大量高動能電子濺射到預先置入腔內(nèi)的醫(yī)用高分子膨化微孔膜內(nèi)，被膜內(nèi)的離子阱俘獲而形成帶有高能量的表面負電荷的靜電治療膜，而腔內(nèi)的正離子和中性粒子由于其質(zhì)量遠大于電子，僅具極小功能故大部分不參與濺射過程，因而本工藝制造的醫(yī)用治療膜駐有均勻的高能表面負電荷(表面電位達-600V～-1000V)。采用充氬等離子濺射的制造方法使得電離過程更穩(wěn)定，注入電荷能量大幅度提高，保證了產(chǎn)品的重復性和一致性。所采用的高頻電磁場源，功率為2KW～3KW，作用電壓6KV，激發(fā)頻率16MHz。所采用的等離子體諧振腔尺寸直徑為φ160mm，長為600mm，腔外環(huán)狀電極間距500mm，其表面電位值達-891.8V(500片平均)。
本發(fā)明的優(yōu)點是采用充氬等離子濺射工藝，腔外環(huán)狀電極，諧振腔內(nèi)真空至0.05mmHg時，充入少量氬氣，腔內(nèi)以氬為主的混合氣體被電離，產(chǎn)生大量等離子體，被膜內(nèi)的離子阱俘獲而形成帶有高能量的表面負電荷的靜電治療膜，其表面電位值為-600V～-1000V。用于組織扭挫傷、骨折骨裂、關(guān)節(jié)無菌性炎癥和風濕腫瘤，具有很好治療效果。


圖1為本發(fā)明的工藝流程設(shè)備圖具體實施方式
下面結(jié)合圖1進一步說明本發(fā)明是如何實施的本發(fā)明設(shè)備由高頻電磁場源1、諧振腔2、氬氣瓶3和真空泵4組成；其制造方法是將醫(yī)用高分子微孔簿膜為基材置于諧振腔內(nèi)，以帶有循環(huán)箱11的高頻電磁場源1，其功率為2KW～3KW，作用電壓6KV，激發(fā)頻率16MHz，通過其腔外環(huán)狀電極11，極間距500mm，連結(jié)到諧振腔腔體2上，諧振腔長600mm，直徑為φ160mm，以作施加激發(fā)能量之用；氬氣供氣瓶3通過儲氣罐31和充氣閥32連接諧振腔2，以提供激發(fā)氣體；機械真空泵4通過抽氣閥41和放氣閥42連接到諧振腔2上，以完成諧振腔的抽氣、放氣過程；排氣管43將抽氣過程中的余氣排放到工作間以外。諧振腔2為本發(fā)明的核心部件，由石英玻璃或優(yōu)質(zhì)玻璃制成，濺射對象—醫(yī)用高分子膜基材21，經(jīng)由腔體密封門22進出諧振腔，濺射時間為2分鐘。以上外部部件通過上述連接共同完成充氬等離子激發(fā)濺射過程。所得醫(yī)用高壓靜電治療膜，其表面電位值為-891.8V(500片平均)。
權(quán)利要求
1.一種醫(yī)用高壓靜電治療膜的制造方法，其特征在于醫(yī)用治療膜基材為高分子膨化微孔膜，置于諧振腔內(nèi)，采用充氬等離子濺射工藝，以帶有循環(huán)水箱的高頻電磁場作激發(fā)源，其功率為2KW～3KW，作用電壓為6KV，激發(fā)頻率為16MHz，將其直接連接到電離諧振腔外的環(huán)狀電極上，極間距為500mm，諧振腔長800mm，直徑為φ160mm，以作施加激發(fā)能量之用；以提供激發(fā)氣體的氬氣瓶，通過儲氣罐和充氬閥連接諧振腔；真空泵通過抽氣閥和放氣閥連接到諧振腔上，使諧振腔內(nèi)真空保持在0.05mmHg～10mmHg。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)用高壓靜電治療膜的制造方法，其特征在于當諧振腔內(nèi)真空度達到0.05mmHg時，充入少量氬氣，以保證電離過程的穩(wěn)定和注入電荷能量及密度的提高。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)用高壓靜電治療膜的制造方法，其特征在于所述的醫(yī)用高分子治療膜基材，采用聚四氟乙烯膨化微孔膜，其膜厚為0.1mm～0.2mm。
全文摘要
一種醫(yī)用高壓靜電治療膜的制造方法，其特點是醫(yī)用治療膜基材為高分子膨化微孔膜，置于諧振腔內(nèi)，采用充氬等離子濺射工藝，以帶有循環(huán)水箱的高頻電磁場作激發(fā)源，其功率為2KW～3KW，作用電壓為6KV，激發(fā)頻率為16MHz±3MHz，將其直接連接到電離諧振腔外的環(huán)狀電極上，極間距為500mm，諧振腔600mm，直徑為φ160mm，以提供激發(fā)氣體的氬氣瓶，通過儲氣罐和充氬閥連接諧振腔；真空泵通過抽氣閥和放氣閥連接到諧振腔上，當諧振腔內(nèi)真空度達到0.05mmHg時，充入少量氬氣，以保證電離過程的穩(wěn)定和注入電荷能量及密度的提高。所得到的醫(yī)用高壓靜電治療膜，兩面具有表面均勻的負電荷表面和高能表面電位，用于組織扭挫傷、骨折骨裂、關(guān)節(jié)無菌性炎癥和風濕腫瘤的治療。
文檔編號C23C14/46GK1493372SQ03150740
公開日2004年5月5日 申請日期2003年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月2日
發(fā)明者藍肇廣 申請人:上海海蒂電子科技有限公司