專利名稱：清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清洗裝置，特別是涉及在有機EL(ElectroLuminescence，電致發(fā)光)用的有機材料的蒸鍍步驟中，用以去除附著在由金屬薄膜所構(gòu)成的屏蔽上的有機材料的清洗裝置(cleaningdevice)。
背景技術(shù)：
近年來，使用有機電致發(fā)光元件的有機EL顯示裝置已取代CRT及LCD的顯示裝置而受到矚目，現(xiàn)正研究開發(fā)一種具有例如用以驅(qū)動該有機EL元件的薄膜晶體管(Thin Film Transistor，TFT)的有機EL顯示裝置。
有機EL組件被依序?qū)臃e形成由ITO(Indium Tin Oxide，氧化銦錫)等的透明電極所形成的陽極；由MTDATA(4，4-雙(3-甲基苯基苯氨基)聯(lián)苯)等第1空穴輸送層、TPD(4，4，4-三(3-甲基苯基苯氨基)三苯胺)等第2空穴輸送層所構(gòu)成的空穴輸送層；包含啶酮(Quinacridone)衍生物的Bebq2(10-苯弁[h]X林酚-鈹絡(luò)合物，(10-benzo[h]quinolinol-beryllium complex)所形成的發(fā)光層；由Bebq2所形成的電子輸送層；及由鋁合金所形成的陰極的構(gòu)造。
如上所述的有機EL組件是通過用以驅(qū)動該有機EL組件的驅(qū)動用TFT供給電流而發(fā)光的。也就是，從陽極所注入的空穴與從陰極所注入的電子在發(fā)光層內(nèi)部再結(jié)合，激發(fā)用以形成發(fā)光層的有機分子而產(chǎn)生激發(fā)子(exciton)。在該激發(fā)子放射失活的過程中由發(fā)光層發(fā)光，該光會從透明的陽極通過透明的陽極及玻璃基板等絕緣性基板放出至外部而進行發(fā)光。
上述有機EL組件的各層中，用于形成空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層的有機材料具有耐溶劑性低、不耐水分的特性。因此無法利用半導(dǎo)體工藝的光刻技術(shù)。所以，通過使用以例如金屬薄膜所構(gòu)成的光罩(屏蔽)的蒸鍍法，使上述有機材料選擇性地蒸鍍在具有驅(qū)動用TFT的絕緣性基板上，以形成有機EL組件的空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層及陰極的圖案。
圖15至圖17顯示了使用在該有機材料的蒸鍍的屏蔽(mask)的例子。圖15是說明傳統(tǒng)例子的有機EL用的屏蔽的俯視圖。圖16是沿圖15的X-X線的剖面圖。圖17是沿圖15的Y-Y線的剖面圖。如圖15至17所示，屏蔽10是由具有例如縱橫各數(shù)微米程度的多個細微孔11的、例如鎳(Ni)及鐵(Fe)等的金屬薄膜所構(gòu)成的。通過這些孔11，使上述有機材料選擇性地蒸鍍在絕緣性基板上。由前述金屬薄膜所構(gòu)成的屏蔽10固定在由例如鎳(Ni)及鐵(Fe)所構(gòu)成的金屬框12上。該屏蔽10的邊緣由該金屬框12所支持。另外，在金屬框12的邊緣形成用以保持該金屬框12的多個扣止部13。以下，將固定在金屬框12的屏蔽10簡稱為“屏蔽10”。
另外，相關(guān)的技術(shù)文獻是列舉例以下的專利文獻。
(專利文獻1)日本特開2004-103269號公報發(fā)明內(nèi)容發(fā)明所欲解決的問題當有機EL組件對應(yīng)于彩色顯示具有3原色的紅、綠、藍的各發(fā)光層時，有機材料的蒸鍍步驟一般是反復(fù)使用各色用的屏蔽而進行。因此，隨著反復(fù)蒸鍍的次數(shù)越多，有機材料是以積層在幾層的方式附著在屏蔽10的表面。也就是，如蒸鍍有圖18所示的有機材料的遮罩的剖面圖所示，有機材料1不僅形成在屏蔽10的表面上，還以塞住本來應(yīng)使有機材料1通過的多個孔11的方式而在孔11的周邊形成突緣部1a。
這樣，屏蔽10的孔11會因由有機材料所構(gòu)成的突緣部而變窄，因而存在著該有機材料蒸鍍于絕緣基板上的精密度降低的問題。
作為解決前述問題的相應(yīng)措施，有一種不多次使用同一屏蔽，而是在每預(yù)定的蒸鍍次數(shù)后即廢棄使用過的屏蔽，換為未使用的屏蔽的方法。但是，使用該方法時，使用在前述有機EL用的有機材料的蒸鍍時未使用過的屏蔽較昂貴，因此存在著成本增大的問題。
因此，本發(fā)明提供一種可去除附著在由金屬薄膜所構(gòu)成的屏蔽上的有機EL用的有機材料的清洗裝置。
解決問題的手段本發(fā)明的清洗裝置是針對上述問題而研創(chuàng)的，該清洗裝置是用以去除附著在由金屬薄膜所構(gòu)成的屏蔽上的有機EL用的有機材料的清洗裝置，具有以下的特征。(本文中清洗裝置為cleaning device，沖洗裝置為rinsing device)也就是，本發(fā)明的清洗裝置具有由預(yù)定的清洗液來清洗處理屏蔽的清洗槽(cleaning tank)；從清洗槽真空蒸餾溢流的清洗液的真空蒸餾器；將由真空蒸餾器真空蒸餾的清洗液冷卻至室溫的第1冷卻器；使由第1冷卻器所冷卻的清洗液回流至清洗槽的第1回流管；利用預(yù)定的沖洗液(rinsing liquid)對屏蔽進行沖洗處理的沖洗槽(rinsing tank)；在常壓下蒸餾從沖洗槽溢流的清洗液的常壓蒸餾器；將由常壓蒸餾器常壓蒸餾的沖洗液冷卻至室溫的第2冷卻器；使由第2冷卻器所冷卻的沖洗液回流至沖洗槽的第2回流管。再者，本發(fā)明的清洗裝置除了上述構(gòu)成以外，還具有在清洗槽內(nèi)將清洗液振動的第1超聲波振動器，并且具有用以感測出清洗槽內(nèi)的清洗液的溫度的第1溫度傳感器；依該第1溫度傳感器的感測結(jié)果使清洗槽內(nèi)的清洗液的溫度調(diào)整在室溫的第1溫度調(diào)整器。在此，第1溫度調(diào)整器具有第1熱交換器，該第1溫度調(diào)整器通過使由該第1熱交換器所冷卻的清洗液流入清洗槽，而調(diào)整該清洗槽內(nèi)的清洗液的溫度。
再者，本發(fā)明的清洗裝置除了上述構(gòu)成以外，在沖洗槽內(nèi)也具有將前述沖洗液振動的第2超聲波振動器，并且具有用以感測出沖洗槽內(nèi)的沖洗液的溫度的第2溫度傳感器；依第2溫度傳感器的感測結(jié)果使沖洗槽內(nèi)的沖洗液的溫度調(diào)整在室溫的第2溫度調(diào)整器。在此，第2溫度調(diào)整器具有第2熱交換器，該第2溫度調(diào)整器是通過使由該第2熱交換器所冷卻的沖洗液流入沖洗槽，而調(diào)整該沖洗槽內(nèi)的沖洗液的溫度。
再者，本發(fā)明的清洗裝置除了上述構(gòu)成以外，還具備具有第3冷卻器的回收槽，回收槽通過該第3冷卻器冷卻，而回收在沖洗槽內(nèi)所蒸發(fā)的沖洗液，并使該回收的沖洗液通過第2回流管回流至沖洗槽。在此，回收槽具有感測出該回收槽內(nèi)溫度的第3溫度傳感器，第3冷卻器使用第3溫度傳感器冷卻回收槽內(nèi)，以便在沖洗槽內(nèi)與回收槽內(nèi)產(chǎn)生蒸氣壓差。
再者，本發(fā)明的清洗裝置除了上述構(gòu)成以外，還具有將由回收槽所回收的沖洗液中的水分予以分離的水分離槽，并且使通過水分離槽的沖洗液，通過第2回流管回流至沖洗槽。
再者，本發(fā)明的清洗裝置除了上述構(gòu)成以外，還具有將含有清洗液的沖洗液分離為清洗液與沖洗液的分離器；以及蓄積槽，用以蓄積由該分離器所分離的清洗液、利用常壓蒸餾器所蒸餾的清洗液的沖洗液，再流入分離器。在此，蓄積槽具有檢測出清洗液及前述沖洗液的液面下限的下限傳感器，依該下限傳感器的檢測結(jié)果，使分離的清洗液流入真空蒸餾器。
發(fā)明的效果依據(jù)本發(fā)明的清洗裝置，在有機EL用的有機材料的蒸鍍步驟中，可適當?shù)厝コ街谟山饘俦∧に鶚?gòu)成的屏蔽上的有機材料。
因此，即使重復(fù)使用同一屏蔽，在屏蔽孔的周緣不會形成由該有機材料所構(gòu)成的突緣部，因此孔不會變窄。結(jié)果，可盡量抑制有機材料的蒸鍍的精密度降低。
并且，在有機材料的蒸鍍步驟中，可使用同一屏蔽，因此可盡量避免如傳統(tǒng)蒸鍍步驟中因交換未使用的屏蔽而造成的成本增大。由于無須將使用過的遮罩廢棄掉，因此可盡量抑制因該廢棄所造成的環(huán)境污染。


圖1是本發(fā)明實施例的清洗裝置的清洗系統(tǒng)的說明圖。
圖2是本發(fā)明實施例的清洗裝置的清洗系統(tǒng)的說明圖。
圖3是本發(fā)明實施例的清洗裝置的清洗系統(tǒng)的說明圖。
圖4是本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的剖面圖。
圖5是本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的剖面圖。
圖6是本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的剖面圖。
圖7是本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的剖面圖。
圖8是本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的剖面圖。
圖9是說明本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的立體圖。
圖10是說明本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的立體圖。
圖11是說明本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的立體圖。
圖12是說明本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的立體圖。
圖13是說明本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的立體圖。
圖14是說明本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的立體圖。
圖15是說明傳統(tǒng)例子的有機EL用的屏蔽的俯視圖。
圖16是沿圖15的X-X線的剖面圖。
圖17是沿圖15的Y-Y線的剖面圖。
圖18是蒸鍍有機材料的屏蔽的剖面圖。
主要組件符號說明1有機材料1a 突緣部10 屏蔽11 孔12 金屬框 13 扣止部21 第1清洗槽 22 第2清洗槽21a、22a 第1超聲波振動器21b、22b 第1攪拌器 21c、21c 第1溫度傳感器21d、22d 第1液中載體 23、53 溢流槽30 真空蒸餾器 30r 冷卻鍋40 第1溫度調(diào)整器 42、47 泵51a、52a 第2超聲波振動器52b、52b 第2攪拌器 51c、52c 第2溫度傳感器51d、52d 第2液中載體 52 第1沖洗槽52 第2沖洗槽 54 回收槽55 第3冷卻器 60 常壓蒸餾器61 第2冷卻器 70 第2溫度調(diào)整器
70h 第2熱交換器7780 水分離槽90 分離器 91 蓄積槽91f 上限傳感器 91e 下限傳感器101 第1回流管 102 第2回流管200 臺 210 盒匣221 第1臂部 222 第2臂部230 第2移載裝置 240 搬送裝置241 保持具 242 鉤部具體實施方式
現(xiàn)在說明本發(fā)明實施例的清洗裝置。作為被清洗體的屏蔽是與在圖15至圖17所示的傳統(tǒng)蒸鍍步驟中所使用的同樣的屏蔽10。也就是，該屏蔽是沿著形成有機材料的預(yù)定圖案，由形成有縱橫各數(shù)微米程度的孔11的金屬薄膜所構(gòu)成的。該金屬薄膜是由例如鎳(Ni)及鐵(Fe)所構(gòu)成的。另外，在該屏蔽的緣部固定有由鎳(Ni)及鐵(Fe)所構(gòu)成的金屬框12。該金屬框12具有扣止部13。以下，將固定在金屬框12的屏蔽10簡稱為“屏蔽10”。
本實施例的清洗裝置在使有機EL用的有機材料蒸鍍在形成有驅(qū)動TFT的絕緣性基板上的蒸鍍步驟中，去除附著在由用于蒸鍍的金屬薄膜所構(gòu)成的屏蔽10上的前述有機材料。本實施例的清洗裝置的整體構(gòu)成與用以去除附著在屏蔽10上的有機EL用的有機材料的清洗系統(tǒng)、以及用以搬送屏蔽10的搬送系統(tǒng)大不相同。
首先，參照附圖來說明本實施例的清洗裝置的清洗系統(tǒng)的構(gòu)成。圖1是本實施例的清洗裝置的清洗系統(tǒng)的說明圖。在圖1中省略了搬送系統(tǒng)的構(gòu)成要素。
如圖1所示，本實施例的清洗裝置的清洗系統(tǒng)具有由預(yù)定的清洗液來清洗處理屏蔽10的第1及第2清洗槽21、22；以及利用預(yù)定的沖洗液對由第1及第2清洗槽21、22予以清洗處理的屏蔽10進行沖洗處理的第1及第2沖洗槽51、52。
前述預(yù)定的清洗液是例如碳化氫(HC)系的清洗液。另外，前述預(yù)定沖洗液是具有沸點比前述清洗液低的包含氟(F)的溶媒，例如氫氟醚(hydrofluoroether，HFE)。該沖洗液的比重比水分大。而且，通過利用表面張力小的前述沖洗液對表面張力大的前述清洗液進行沖洗，具有沖洗液進入更細微之處且確實捕捉清洗液的效果。
其次，說明本實施例的清洗裝置的清洗系統(tǒng)中第1及第2清洗槽21、22的構(gòu)成。
該清洗裝置在第1清洗槽21處具有蓄積從該第1清洗槽21溢流的清洗液的溢流槽23。并且，該清洗裝置具有用以從包含以清洗裝置自屏蔽10去除的有機材料的清洗液，利用真空蒸餾僅抽出清洗液的真空蒸餾器30。包含有機材料的清洗液從第1清洗槽21溢流至溢流槽23，并從該溢流槽23流入真空蒸餾器30。沉淀在真空蒸餾器30處的有機材料在冷卻鍋30r處冷卻并排出至外部。
前述清洗液的蒸餾中，在真空狀態(tài)下加熱該清洗液并予以蒸餾。由此，可使該清洗液的155℃左右的沸點降低，使蒸餾時的加熱溫度盡量降低。
該清洗裝置具有將由真空蒸餾器30所真空蒸餾的清洗液冷卻至室溫的第1冷卻器31。由前述第1冷卻器31冷卻至室溫的清洗液通過第1回流管101回流至第2清洗槽22。
在本發(fā)明中，室溫在“10℃至40℃”，優(yōu)選為“20℃至30℃”，更優(yōu)選為25℃。
通過前述清洗液的真空蒸餾、冷卻及回流，可在室溫進行屏蔽10的處理。因此，可盡量抑制因熱應(yīng)力所產(chǎn)生的張力或損傷。
再者，前述第1及第2清洗槽21、22具有用以使前述清洗液振動的未圖標的第1超聲波振動器，以使清洗液確實到達屏蔽10的表面。再者，為了應(yīng)對由該第1超聲波振動器的振動所造成的清洗液的溫度上升，第1及第2清洗槽21、22具有將清洗液的溫度予以微調(diào)整的第1溫度調(diào)整器40。
這里，第1溫度調(diào)整器40具有第1熱交換器40h及泵42，由該第1熱交換器40h冷卻第1及第2清洗槽21、22的清洗液。并且第1溫度調(diào)整器40是依據(jù)是否使由該第1熱交換器40h所冷卻的清洗液通過泵42流入第1及第2清洗槽21、22，而將該各槽的清洗液的溫度微調(diào)整在室溫。
再者，清洗液是循環(huán)由過濾器所過濾的。如圖1所示，在其循環(huán)經(jīng)路，也就是清洗槽21、第1溫度調(diào)整器40、泵42、清洗槽21的路徑上設(shè)置有過濾器，但該過濾器是與該路徑不同的其它路徑，也可設(shè)置與該路徑并設(shè)的路徑，即清洗槽21、過濾器、泵42、清洗槽21的路徑。
如上所述，通過第1溫度調(diào)整器40可對第1及第2清洗槽21、22的清洗液進行微調(diào)整。
其次，說明本實施例的清洗裝置的清洗系統(tǒng)中第1及第2沖洗槽51、52的構(gòu)成。
該清洗裝置在第1沖洗槽51處具有蓄積從該第1沖洗槽51溢流的沖洗液的溢流槽53。
該清洗裝置具備用以從包含通過屏蔽10進入第1沖洗槽51的第2清洗槽22的微量清洗液或微量有機材料等的雜質(zhì)的沖洗液，利用常壓下的常壓蒸餾去除該雜質(zhì)的常壓蒸餾器60。沖洗液從第1沖洗槽51溢流至溢流槽53，并從該溢流槽53流入常壓蒸餾器60。
前述沖洗液的沸點為例如60℃程度時，如具有約160℃程度的沸點的清洗液的蒸餾，無須進行用以使該沸點降低的真空蒸餾。因此，利用常壓蒸餾器60進行常壓(大氣壓)下的常壓蒸餾。蒸餾時所蒸發(fā)的沖洗液是通過使沖洗液液化的溫度的凝汽管圈(trap coil)60t而液化的。
該清洗裝置具有將由常壓蒸餾器60所常壓蒸餾的沖洗液冷卻至室溫的第2冷卻器61。由前述第2冷卻器61所冷卻至室溫的沖洗液通過第2回流管102回流至第2沖洗槽52。
這里，在第2冷卻器與第2回流管102之間具有水分離槽80，該水分離槽80將經(jīng)過常壓蒸餾而含有水分的沖洗液中的水分與沖洗液相分離。沖洗液經(jīng)過水分離后，通過第2回流管102而回流至第2沖洗槽52。
另外，該清洗裝置具有回收從第1沖洗槽51或第2沖洗槽52所蒸發(fā)的沖洗液的回收槽54。例如，將回收槽54內(nèi)的溫度設(shè)定為使得第2沖洗槽52內(nèi)的蒸氣壓與回收槽54內(nèi)的蒸氣壓之比為150∶1至10∶1的溫度即可?；厥詹?4具有第3冷卻器55。該第3冷卻器55使回收槽54冷卻至例如零下25℃左右，這樣回收槽54內(nèi)的蒸氣壓會低到第1沖洗槽51或第2沖洗槽52內(nèi)的大約100分之1左右，且蒸發(fā)的沖洗液會流入回收槽54。流入回收槽54的沖洗液流入水分離槽80，在含有的水分分離后，通過第2回流管回流至第2沖洗槽52。
通過前述清洗液的真空蒸餾、冷卻及回流，可在室溫進行屏蔽10的沖洗處理。因此，可盡量抑制因熱應(yīng)力所產(chǎn)生的張力或損傷。
另外，在上述清洗裝置中，由于將浸漬在清洗液中的屏蔽10浸漬在沖洗液中，因此將有微量的清洗液通過屏蔽10移動至第1沖洗槽51的沖洗液，而與該沖洗液相混合。因此，該清洗裝置具有將含有清洗液的沖洗液分離為清洗液與沖洗液的分離器90。該分離器90是通過在使含有清洗液的沖洗液蒸發(fā)后，利用冷卻器等冷卻所蒸發(fā)的沖洗液而液化回收的。如此分離的沖洗液流入水分離槽80，將所含的水分經(jīng)分離后，通過第2回流管102回流至第2沖洗槽52。
再者，該清洗裝置具有蓄積槽91，該蓄積槽91蓄積由該分離器90所分離的清洗液、從常壓蒸餾器60流入的經(jīng)常壓蒸餾前的沖洗液(含有清洗液)，再流入分離器90。
這里，蓄積槽91具有檢測出流入蓄積的清洗液及沖洗液的液面上限的上限傳感器91f，以及檢測出該液面下限的下限傳感器91e。通過閥60b的開閉，使來自常壓蒸餾器60的沖洗液流入蓄積槽91，直到上限傳感器91f檢測出液面。隨著反復(fù)進行該清洗液與沖洗液的分離的次數(shù)增加，蓄積在蓄積槽91內(nèi)的沖洗液包含有許多從分離器90流入且在蓄積槽91蓄積的清洗液。因此，含有該清洗液的沖洗液是在分離器90處蒸發(fā)的，并且分離的速度會變慢。
因此，在蓄積槽91內(nèi)，依據(jù)下限傳感器91e的檢測結(jié)果，來計測從分離器90的分離開始時間點至沖洗液的液面到達下限的時間，該到達時間比預(yù)定時間長時，包含在該蓄積槽內(nèi)的沖洗液中的清洗液被視為是飽和狀態(tài)的，而結(jié)束分離器90的分離。結(jié)束分離器90的分離后，在蓄積槽91內(nèi)分離的清洗液流入真空蒸餾器30。
通過以上的處理，分離包含于沖洗液中的清洗液，可僅對沖洗液加以再利用。
此外，前述第1沖洗槽51及第2沖洗槽52具有用以使前述沖洗液振動的未圖標的第2超聲波振動器，以使該沖洗液確實到達屏蔽10的表面。再者，為了應(yīng)對由該第2超聲波振動器的振動所造成的清洗液的溫度上升，第1及第2沖洗槽51、52具有將清洗液的溫度予以微調(diào)整的第2溫度調(diào)整器70。
這里，第2溫度調(diào)整器70具有第2熱交換器70h及泵72，由該第2熱交換器70h冷卻第1及第2沖洗槽51、52的沖洗液。并且，第2溫度調(diào)整器70依據(jù)是否使由該第2熱交換器70h所冷卻的沖洗液通過泵72流入第1及第2清洗槽51、52，而將該各槽的沖洗液的溫度微調(diào)整在室溫。
如上所述，通過第2溫度調(diào)整器70可對第1及第2沖洗槽51、52的清洗液進行微調(diào)整。
其次，說明第1及第2清洗槽21、22以及第1及第2沖洗槽51、52的各槽內(nèi)的詳細構(gòu)成。圖2是說明第1及第2清洗槽21、22的剖面圖。圖3是說明第1及第2沖洗槽51、52及回收槽54的剖面圖。在圖2及圖3中省略了溢流槽23、53的圖式。
如圖2所示，第1及第2清洗槽21、22分別具有第1超聲波振動器21a、22a，第1攪拌器21b、22b，第1溫度傳感器21c、21c，以及可動式第1液中載體21d、22d。這里，第1超聲波振動器21a、22a使該清洗液產(chǎn)生振動即可，以使清洗液確實到達遮罩10的表面，并使其與遮罩正對向，但1個1個清洗遮罩10的表面的枚舉式與清洗多枚的總括式的情形相比較，前者的第1超聲波振動器21a、22a的效果較大。且第1攪拌器21b、22b是用以攪拌該清洗液的，以使清洗液在第1及第2清洗槽21、22內(nèi)流動。
此外，第1溫度傳感器21c、21c是在以第1溫度調(diào)整器40對第1及第2清洗槽21、22內(nèi)的清洗液進行溫度調(diào)整時，檢測出該清洗液的溫度，以作為參考溫度。另外，第1液中載體21d、22d具有在對屏蔽10進行清洗處理時保持該屏蔽10且浸漬在清洗液中的功能。且第1液中載體21d、22d優(yōu)選具有使屏蔽10整體朝垂直方向振動的振動功能，以使沖洗液確實到達屏蔽10的表面。
如上所述，在第1及第2清洗槽21、22中，通過以第1超聲波振動器21a、22a進行清洗液的振動，以第1攪拌器21b、22b進行清洗液的攪拌，以第1液中載體21d、22d進行屏蔽10的搖動，而確實可利用該清洗液對屏蔽10進行清洗處理。
同樣地，如圖3所示，第1及第2沖洗槽51、52分別具有第2超聲波振動器51a、52a，第2攪拌器52b、52b，第2溫度傳感器51c、52c，以及可動式第2液中載體51d、52d。這里，第2超聲波振動器51a、52a是使該沖洗液產(chǎn)生振動的振動器。且第1攪拌器51b、52b是用以攪拌該沖洗液的，以使沖洗液在第1及第2沖洗槽51、52內(nèi)流動。
第2溫度傳感器51c、52c是在以第2溫度調(diào)整器70對第1及第2沖洗槽51、52內(nèi)的沖洗液進行溫度調(diào)整時，檢測出該沖洗液的溫度，以作為參考溫度。另外，第2液中載體51d、52d具有在對屏蔽10進行沖洗處理時保持該屏蔽10且浸漬在沖洗液中的功能。且第2液中載體51d、52d優(yōu)選具有使屏蔽10整體朝垂直方向振動的振動功能，以使沖洗液確實到達屏蔽10的表面。
再者，與第2沖洗槽52導(dǎo)通的回收槽54具有第3冷卻器55及第3溫度傳感器54c。第3冷卻器55使回收槽54冷卻至比第1及第2沖洗槽51、52低的溫度。該冷卻溫度如前所述在例如零下25℃左右。導(dǎo)入回收槽54的經(jīng)蒸發(fā)的沖洗液通過所謂凝汽管圈54t而液化并回收在該回收槽54內(nèi)。
此外，在第1及第2沖洗槽51、52的沖洗液的液面上方，具有第3及第4溫度調(diào)整器57、58以及2個第4溫度傳感器50c。第3溫度調(diào)整器57通過使第1及第2沖洗槽51、52的沖洗液的液面上方的溫度冷卻至例如零下10℃左右，而形成用以抑制所蒸發(fā)的沖洗液擴散至第1及第2沖洗槽51、52的外部的第1空氣層59a。另外，第4溫度調(diào)整器58將第1空氣層59a的上方溫度調(diào)整在比室溫略高的溫度，而形成用以抑制第1及第2沖洗槽51、52的外部大氣流入該槽內(nèi)的第2空氣層59b。
這里，第3及第4溫度調(diào)整器57、58的前述溫度調(diào)整優(yōu)選依據(jù)2個第4溫度傳感器50c的溫度檢測結(jié)果來進行。且前述第3及第4溫度調(diào)整器57、58的前述溫度調(diào)整是調(diào)整為預(yù)設(shè)的預(yù)定溫度時，也可省略2個第4溫度傳感器50c的任1個或全部。
如上所述，第1及第2沖洗槽51、52中，通過以第2超聲波振動器51a、52a進行清洗液的振動，以第2攪拌器51b、52b進行沖洗液的攪拌，以第2液中載體51d、52d進行屏蔽10的搖動，而確實可利用該沖洗液對屏蔽10進行沖洗處理。
在第1及第2沖洗槽51、52的沖洗液的液面上方，具有第3及第4溫度調(diào)整器57、58，因此可以在不會使從第1及第2沖洗槽51、52蒸發(fā)的沖洗液擴散至大氣中的狀態(tài)下，通過回收槽54進行回收。
其次，說明本實施例的清洗裝置的清洗系統(tǒng)中清洗液的流動。在第1清洗槽21及第2清洗槽22浸漬屏蔽10并進行清洗處理時，從屏蔽10去除的有機材料會混入清洗液中。并且，在通過第1回流管101而回流的清洗液流入第2清洗槽時，第1及第2清洗槽21、22的清洗液會溢流至第1溢流槽23。溢流的清洗液流入真空蒸餾器30。這里，真空蒸餾器30內(nèi)減壓至0.8氣壓左右，且加熱至例如120℃左右，以進行清洗液的真空蒸餾。沉淀在真空蒸餾器30的底部的有機材料在冷卻鍋30r處冷卻并定期性地排出至外部。
該清洗液的沸點是例如160℃左右，但在真空狀態(tài)中加熱并蒸餾該清洗液，這樣可使該沸點降低，并使蒸餾時的加熱溫度降低至例如120℃左右。而且，上述蒸餾是真空蒸餾，因此在蒸餾的過程中在清洗液中不會含有水分。
經(jīng)真空蒸餾且去除有機材料的清洗液由第1冷卻器31冷卻至室溫，且通過第1回流管101而回流至第2清洗槽。
另外，第1及第2清洗槽21、22的清洗液的一部分是通過裝設(shè)在第1溫度調(diào)整器40的第1熱交換器40h而冷卻的，該冷卻的清洗液通過泵42而適當?shù)亓魅氲?清洗槽22。
其次，說明本實施例的清洗裝置的清洗系統(tǒng)中沖洗液的流動。在第1沖洗槽51、第2沖洗槽52浸漬屏蔽10并進行沖洗處理時，從屏蔽10去除的有機材料會混入沖洗液中。并且，在通過第2回流管102而回流的沖洗液流入第2沖洗槽52時，第1及第2沖洗槽51、52的沖洗液會溢流至第2溢流槽53。
該溢流的沖洗液流入真空蒸餾器60。這里，沖洗液的沸點為例如60℃程度，因此如具有約160℃程度的沸點的清洗液的蒸餾，無須進行用以使該沸點降低的真空蒸餾。因此，常壓蒸餾器60是在常壓(大氣壓)下被加熱至超過該沸點的例如65℃左右，以進行沖洗液的常壓蒸餾。
通過常壓蒸餾，去除包含在沖洗液中的有機材料(透過附著有清洗液的遮罩10搬送)等雜質(zhì)。經(jīng)常壓蒸餾的沖洗液是在常壓蒸餾的過程中混合有水分，但利用比該水分大的比重而分離為水分與沖洗液。該沖洗液通過第2冷卻液62冷卻至室溫，而流入至水分離槽80。
在水分離槽80處去除水分的沖洗液通過第2回流管102而回流至第2沖洗槽52。
另外，雖流入常壓蒸餾器60但未經(jīng)常壓蒸餾的沖洗液的一部分，也就是包含微量的清洗液(通過屏蔽10而混合在沖洗液中)的沖洗液是依據(jù)閥60b的開閉，流入蓄積槽91，在到達蓄積槽91的上限后，閥60b會關(guān)閉，而停止沖洗液的流入。且蓄積槽91內(nèi)的沖洗液流入分離器90，開始沖洗液與清洗液的分離。
通過下限傳感器91e檢測出蓄積槽91內(nèi)的沖洗液的液面時，再打開閥60b，使沖洗液從常壓蒸餾器60流入蓄積槽91內(nèi)。
由分離器90所分離的沖洗液利用比該水分大的比重，在利用水分離槽80去除水分后，通過第2回流管102而回流至第2清洗槽52。由分離器90所分離的清洗液流入蓄積槽91。
隨著反復(fù)進行該清洗液與沖洗液的分離，蓄積在蓄積槽91內(nèi)的沖洗液包含有許多從分離器90流入且在蓄積槽91內(nèi)蓄積的清洗液。因此，含有該清洗液的沖洗液是在分離器90蒸發(fā)的，且分離的速度會變慢。
因此，在蓄積槽91內(nèi)，依據(jù)下限傳感器91e對蓄積槽91的沖洗液的液面的檢測結(jié)果，來計測從分離器90的分離開始時間點至沖洗液的液面到達下限的時間，該到達時間比預(yù)定時間長時，包含在該蓄積槽91內(nèi)的沖洗液中的清洗液被視為是飽和狀態(tài)的，而結(jié)束分離器90的分離。然后打開原本關(guān)閉的閥91b，使在蓄積槽91內(nèi)分離的清洗液流入真空蒸餾器30。
再者，從第1及第2沖洗槽51、52所蒸發(fā)的沖洗液通過第3冷卻器55，導(dǎo)入冷卻至比第1及第2沖洗槽51、52更低的例如零下25℃左右的回收槽54，并予以回收。回收至回收槽54的沖洗液流入水分離槽80，并利用1.5左右的比重來去除水分，通過第2回流管102而回流至第2清洗槽52。
其次，參照

本實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)。圖4至圖8、圖11至圖14是說明本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的剖面圖。圖9及圖10是說明本發(fā)明實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的立體圖。在圖4至圖14中，清洗系統(tǒng)的構(gòu)成要素僅僅是附圖搬送系統(tǒng)的說明所需的一部分構(gòu)成要素。
如圖4至圖14所示，本實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)具有設(shè)置在臺200上且將多個屏蔽10收納在水平方向的盒匣210；具有從盒匣210取出1個屏蔽10的第1臂部221的第1移載裝置220；具有握持屏蔽10的第2臂部222的第2移載裝置230；將屏蔽10搬送至第1及第2清洗槽21、22和第1及第2沖洗槽51、52的搬送裝置240。這里，搬送裝置240在搬送屏蔽10時，具有保持屏蔽10的一邊的鉤部242。
其次，說明本實施例的清洗裝置的搬送系統(tǒng)的動作。如圖4所示，第1移載裝置220的第1臂部221會伸縮，從盒匣210取出1個屏蔽10。其次，如圖5所示，第1移載裝置220使第1臂部221下降，并將遮罩10載置在臺200的預(yù)定位置。其次，如圖6所示，第2移載裝置230利用第2臂部222握持遮罩10，并且如圖7所示，將遮罩10載置在搬送裝置240上。
再者，如圖8所示，載置有屏蔽10的搬送裝置240在垂直方向旋轉(zhuǎn)90度左右，且立起至垂直狀態(tài)。并且在搬送裝置240上載置的屏蔽10也同時朝垂直方向旋轉(zhuǎn)90度而立起。此時的搬送裝置240及載置在搬送裝置240上的屏蔽10的狀態(tài)是顯示在圖9中的立體圖。
這樣，為了使搬送裝置240及屏蔽10成為垂直狀態(tài)，在構(gòu)成屏蔽10的金屬薄膜施加應(yīng)力(對金屬薄膜施加的重力所產(chǎn)生的應(yīng)力或由液體的搖動所產(chǎn)生的應(yīng)力)，可盡量避免金屬疲勞或損傷。此外，通過使屏蔽10靠在垂直方向上，也具有不錯的去除液體的效果。
前述搬送裝置240與屏蔽10旋轉(zhuǎn)時的角度不一定為90度左右。也就是，只要利用因重力所產(chǎn)生的應(yīng)力構(gòu)成屏蔽10的金屬薄膜盡量不會產(chǎn)生金屬疲勞或損傷的角度，搬送裝置240與屏蔽10也可旋轉(zhuǎn)至水平及垂直以外的角度。
另外，如圖10的立體圖所示，預(yù)先裝設(shè)在搬送裝置240的保持具是以與屏蔽10的扣止部13嵌合的方式而壓接在該屏蔽10的扣止部13。由此，屏蔽10不會對其金屬薄膜的表面造成損傷，而由搬送裝置240的保持具241與鉤部242所挾持保持。
上述保持在該搬送裝置240處的屏蔽10與搬送裝置240一同搬送至清洗裝置的清洗系統(tǒng)，也就是第1及第2清洗槽21、22(以及第1及第2沖洗槽51、52)。在此，搬送時，搬送裝置240如圖11的剖面圖所示，連續(xù)地進行垂直方向及水平方向的移動，如該圖中軌跡1及8所示，依據(jù)近似圓弧狀的曲線狀的預(yù)定軌跡而移動。另外，圖11中的A、B、C是顯示清洗液或沖洗液的液面情報的垂直方向的位置(高度)。
通過具有預(yù)定軌跡的搬送裝置240的移動，可盡量避免因該移動從垂直方向切換至水平方向或從水平方向切換至垂直方向時的沖擊所產(chǎn)生的應(yīng)力，造成在由金屬薄膜所構(gòu)成的屏蔽10處產(chǎn)生金屬疲勞或損傷。
另外，搬送裝置240是以預(yù)定的速度而移動的。該預(yù)定的速度是通過搬送裝置240移動時的風壓或沖擊所產(chǎn)生的應(yīng)力，在由金屬薄膜所構(gòu)成的屏蔽10處不會產(chǎn)生金屬疲勞或損傷的程度的速度?；蛘?，前述預(yù)定的速度是通過搬送裝置240移動時所產(chǎn)生的亂流，不會促使第1及第2沖洗槽51、52內(nèi)的沖洗液的蒸發(fā)的預(yù)定速度。
其次，如圖12所示，載置遮罩10的搬送裝置240搬送至第1清洗槽21上。且如圖3所示，裝設(shè)在第1清洗槽21的第1液中載體21d會上升至清洗液的液面上方。且第1液中載體21d上升至與搬送裝置240同一位置后，或搬送裝置240移動到與上升至清洗液的液面上方的第1液中載體21d同一位置后，解除搬送裝置240的保持具241的壓接，且屏蔽10會位移至液中載體21d。
然后，如圖14所示，載置有屏蔽10的第1液中載體21d會下降至清洗液中，屏蔽10會浸漬在清洗液中。并且，將遮罩10從清洗液取出時，依序進行圖14、圖13、圖12所示的過程。與圖12至圖14所示的第1清洗槽21同樣地，載置有屏蔽10的搬送裝置240搬送到第2清洗槽22上。且在屏蔽10通過第1液中載體21d浸漬在清洗液后，予以取出。
如上所述，在第1及第2清洗槽21、22的清洗液浸漬屏蔽10時，在未將搬送裝置240浸漬在清洗液中的情況下，可進行清洗處理。也就是，可盡量避免清洗液附著在搬送裝置240上。因此，可盡量避免第1及第2清洗槽21、22的清洗液通過搬送裝置240而被搬送至第1及第2沖洗槽51、52的沖洗液。
與圖12至圖14所示的第1清洗槽21同樣地，載置有屏蔽10的搬送裝置240搬送到第1沖洗槽51上。且在屏蔽10通過第2液中載體51d浸漬在沖洗液中后，予以取出。再者，載置有屏蔽10的搬送裝置240搬送到第2沖洗槽52上。且在屏蔽10通過第2液中載體52d浸漬在沖洗液中后，予以取出。
如上所述，在第1及第2沖洗槽51、52的沖洗液浸漬屏蔽10時，在未將搬送裝置240浸漬在沖洗液中的情況下，可進行沖洗處理。也就是，可盡量避免沖洗液附著在搬送裝置240上。因此，可盡量避免在進行清洗處理時，沖洗液附著在搬送裝置240上，該沖洗液被搬送至第1及第2沖洗槽51、52內(nèi)的清洗液。
此外，前述搬送裝置240在將屏蔽10浸漬在清洗液或沖洗液中時，優(yōu)選依圖11的軌跡1至4而移動。也就是，最初搬送裝置240依軌跡1從A移動至B的高度再暫時停止。在停止時，并非突然停止，而是緩慢地減速同時使之停止，以便不會對遮罩10施加應(yīng)力。而且，在未圖示的液中載體21d、22d、51d、52d上升至B的高度后，搬送裝置240在液中載體21d、22d、51d、52d交付遮罩10，同時從B移動至C的高度。然后，搬送裝置240以返回A的高度的方式而依軌跡4朝垂直方向移動。
再者，前述搬送裝置240在將屏蔽10從清洗液或沖洗液的液中取出時，優(yōu)選依圖11的軌跡5至8而移動。也就是，最初搬送裝置240依軌跡5從A移動至C的高度。其次，以接近液中載體21d、22d、51d、52d的方式，依軌跡6朝水平方向移動。然后，搬送裝置240依軌跡7從C移動至B的高度再暫時停止。接著，搬送裝置240是以從上升至B的高度的液中載體21d、22d、51d、52d將屏蔽10撈起的方式位移，同時依軌跡8從B移動至A的高度。此時，為了使搬送裝置240不會急劇朝上方向移動，優(yōu)選緩慢地增加移動速度。通過以上方式，搬送裝置240可在不對屏蔽施加前述應(yīng)力的狀態(tài)下移動。
這里，搬送裝置240在將1個屏蔽10搬送至第1及第2清洗槽21、22或第1及第2沖洗槽51、52的任一槽后，也可將與完成該搬送的屏蔽10不同的其它屏蔽10搬送至其它槽。
最后，載置有屏蔽10的搬送裝置240搬送至圖1所示的真空干燥器99并予以干燥。
如上所述，通過在圖11所示的軌跡1或8中以圓弧狀的方式移動，且在軌跡1中緩慢地將移動速度(下方向)予以減速，且在軌跡8中緩慢地將移動速度(上方向)予以加速，可使施加在屏蔽10的應(yīng)力減少。另外，未搬送屏蔽10時的搬送裝置240的動作只要不會與液槽的液壁或液中載體碰撞即可，可為圓弧狀，也可急劇地移動。
并且，在前述實施例中，是將清洗液及沖洗液作為碳化氫系的清洗液及氟系的沖洗液，但本發(fā)明并不限定于此。也就是，前述清洗液及沖洗液可對屏蔽10進行清洗處理(有機EL用的有機材料的去除)及沖洗處理，只要具有與碳化氫系的清洗液及氟系的沖洗液同樣的沸點、以及相對于水分的比重，即可作為前述以外的清洗液及沖洗液。
權(quán)利要求
1.一種清洗裝置，用以去除附著在由金屬薄膜所構(gòu)成的屏蔽上的有機EL用的有機材料，其特征為具有由預(yù)定的清洗液清洗處理前述屏蔽的清洗槽；從前述清洗槽真空蒸餾溢流的前述清洗液的真空蒸餾器；將由前述真空蒸餾器真空蒸餾的前述清洗液冷卻至室溫的第1冷卻器；使由前述第1冷卻器所冷卻的前述清洗液回流至前述清洗槽的第1回流管；利用預(yù)定的沖洗液對通過前述清洗槽清洗的前述屏蔽進行沖洗處理的沖洗槽；在常壓下蒸餾從前述沖洗槽溢流的前述沖洗液的常壓蒸餾器；將由前述常壓蒸餾器常壓蒸餾的前述沖洗液冷卻至室溫的第2冷卻器；使由前述第2冷卻器所冷卻的前述沖洗液回流至前述沖洗槽的第2回流管。
2.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其中，在前述清洗槽內(nèi)具有使前述清洗液振動的第1超聲波振動器。
3.如權(quán)利要求2所述的清洗裝置，其中，具有用以感測出前述清洗槽內(nèi)的清洗液的溫度的第1溫度傳感器；及依前述第1溫度傳感器的感測結(jié)果，使前述清洗槽內(nèi)的前述清洗液的溫度調(diào)整至室溫的第1溫度調(diào)整器。
4.如權(quán)利要求3所述的清洗裝置，其中，在第1溫度調(diào)整器處具有第1熱交換器，該第1溫度調(diào)整器是通過使利用該第1熱交換器冷卻的前述清洗液流入前述清洗槽，而調(diào)整該清洗槽內(nèi)的前述清洗液的溫度。
5.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其中，在前述沖洗槽內(nèi)具有使前述沖洗液振動的第1超聲波振動器。
6.如權(quán)利要求5所述的清洗裝置，其中，具有用以感測出前述沖洗槽內(nèi)的前述沖洗液的溫度的第2溫度傳感器；及依前述第2溫度傳感器的感測結(jié)果，使前述沖洗槽內(nèi)的前述沖洗液的溫度調(diào)整至室溫的第2溫度調(diào)整器。
7.如權(quán)利要求6所述的清洗裝置，其中，在第2溫度調(diào)整器處具有第2熱交換器，該第2溫度調(diào)整器是通過使利用該第2熱交換器冷卻的前述沖洗液流入前述沖洗槽，而調(diào)整該前述沖洗槽內(nèi)的前述沖洗液的溫度。
8.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其中，具備具有第3冷卻器的回收槽，前述回收槽是通過該第3冷卻器冷卻，回收在前述沖洗槽內(nèi)蒸發(fā)的前述沖洗液，并使該回收的前述沖洗液通過前述第2回流管回流至前述沖洗槽。
9.如權(quán)利要求8所述的清洗裝置，其中，在前述回收槽處具有檢測出該回收槽內(nèi)的溫度的第3溫度傳感器，前述第3冷卻器是利用第3溫度傳感器冷卻回收槽內(nèi)，以使在沖洗槽內(nèi)與回收槽內(nèi)產(chǎn)生蒸氣壓差。
10.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其中，具有將由前述第3冷卻器所冷卻的前述沖洗液中的水分予以分離的水分離槽，并且使通過水分離槽的前述沖洗液，通過前述第2回流管回流至前述沖洗槽。
11.如權(quán)利要求8或9所述的清洗裝置，其中，具有將由前述回收槽所回收的前述沖洗液中的水分予以分離的水分離槽，并且使通過前述水分離槽的前述沖洗液，通過前述第2回流管回流至前述沖洗槽。
12.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其中，具有分離器，將含有清洗液的沖洗液分離為清洗液與沖洗液；及蓄積槽，蓄積由該分離器所分離的清洗液、含有常壓蒸餾器的清洗液的沖洗液，再流入前述分離器。
13.如權(quán)利要求12所述的清洗裝置，其中，在前述蓄積槽處具有檢測出前述清洗液及前述沖洗液的液面下限的下限傳感器，依該下限傳感器的檢測結(jié)果，使分離的清洗液流入前述真空蒸餾器。
14.如權(quán)利要求1至13中任一項所述的清洗裝置，其中，前述預(yù)定沖洗液是包含氟的溶媒。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能去除附著在由金屬薄膜所構(gòu)成的屏蔽上的有機材料的清洗裝置。本發(fā)明的清洗裝置具有由預(yù)定的清洗液清洗處理屏蔽10的第1及第2清洗槽21、22；用以真空蒸餾該清洗槽21、22的清洗液的真空蒸餾器30；將真空蒸餾的清洗液冷卻至室溫的第1冷卻器31；使由第1冷卻器31所冷卻的清洗液回流至第2清洗槽22的第1回流管101；利用預(yù)定的沖洗液對屏蔽10進行沖洗處理的第1及第2沖洗槽51、52；在常壓下蒸餾該沖洗槽51、52的清洗液的常壓蒸餾器60；將常壓蒸餾的沖洗液冷卻至室溫的第2冷卻器61；使由第2冷卻器61所冷卻的沖洗液回流至第2沖洗槽52的第2回流管102。
文檔編號C23C14/12GK1746330SQ20051009369
公開日2006年3月15日 申請日期2005年9月1日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月1日
發(fā)明者木野村芳孝, 平岡照雄, 大川光治郎 申請人:三洋電機株式會社, 十億科技株式會社, 大川興產(chǎn)株式會社