專(zhuān)利名稱(chēng)：濺鍍式鍍膜裝置及鍍膜方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜裝置及鍍膜方法，尤其涉及一種濺鍍式鍍膜裝置及采用該濺鍍式鍍 膜裝置的鍍膜方法。
背景技術(shù)：
濺鍍是利用等離子體產(chǎn)生的離子去撞擊陰極靶材，將靶材內(nèi)的原子撞出而沉積在基材表 面上堆積成膜層。由于濺鍍可以達(dá)成較佳的沉積效率、精確的成份控制，以及較低的制造成 本，因此在工業(yè)上被廣泛應(yīng)用。
當(dāng)前手機(jī)數(shù)碼相機(jī)鏡頭的應(yīng)用已日漸普及，因此有必要提升其關(guān)鍵零部件的制造技術(shù)， 以有效地降低其制造成本及提升其良率。作為相機(jī)鏡頭關(guān)鍵零部件之一的鏡頭模組通常包括 鏡座、鏡筒以及收容在鏡筒內(nèi)的鏡片、墊片(Spacer)、光圈、紅外截止濾光片(IR-cut Filter)等元件。鏡片的設(shè)計(jì)方法請(qǐng)參閱Chao等人在2000年IEEE系統(tǒng)、超聲波會(huì)議(2000 IEEE Ultrasonics Symposium)上發(fā)表的論文Aspheric lens design。
在鏡頭模組組裝過(guò)程中，通常需將所述鏡片、墊片、光圈、紅外截止濾光片等元件通過(guò) 一定順序裝入鏡筒，再將鏡筒旋入鏡座以組裝成一個(gè)完整的鏡頭模組。如圖1所示，為了降 低所述鏡頭模組受電磁干擾的程度，在對(duì)所述鏡頭模組進(jìn)行組裝前， 一般需于鏡座2a的外圓 周面20a上濺鍍上一層防電磁干擾(Electromagnetic Interference, EMI)膜層，以提升組裝 后鏡頭模組抗電磁干擾的能力。鍍膜后的產(chǎn)品需要做多項(xiàng)環(huán)境測(cè)試，比如高溫高壓測(cè)試、熱 沖擊測(cè)試、腐蝕測(cè)試等，如果鍍上的膜層不均勻，其容易脫落，且膜層薄的區(qū)域電阻值較高 ，防電磁干擾(EMI)的效果不佳，因此，膜層厚度的均勻性非常重要。
現(xiàn)有技術(shù)以濺鍍法來(lái)制備所述鏡座2a外圓周面20a的膜層時(shí)，該鏡座2a在靶材下方保持 一定速度朝下方延伸方向行進(jìn)，在行進(jìn)過(guò)程中，對(duì)于鏡座2a外圓周面來(lái)講，不同部位20b、 20c相對(duì)于靶材的幾何位置不一致，且鍍?cè)谄渖系陌惺鴏b、 lc射程也不一致，因此，容易造 成鍍膜時(shí)膜層厚度不均勻，為了提高所述膜層厚度的均勻度， 一般靶材要比鏡座大很多，且 靶材射束分散，因此，靶材消耗較多，且一定程度上鍍膜均勻度不理想。
有鑒于此，有必要提供一種相較于現(xiàn)有技術(shù)，能進(jìn)一步提高膜層均勻度，且能夠提高靶 材利用率的濺鍍式鍍膜裝置及鍍膜方法。

發(fā)明內(nèi)容
下面將以實(shí)施例說(shuō)明一種提高膜層均勻度，且能夠提高靶材利用率的濺鍍式鍍膜裝置及 鍍膜方法。
本發(fā)明提供一種濺鍍式鍍膜裝置，其包括一個(gè)鍍膜工作室；至少一靶材，其設(shè)置在所述 鍍膜工作室內(nèi)，用于對(duì)所述工件進(jìn)行鍍膜； 一個(gè)運(yùn)載裝置，其可沿所述鍍膜工作室的底部的 延伸方向做線性運(yùn)動(dòng)，該運(yùn)載裝置包括一個(gè)固定架及至少一個(gè)承載軸，該固定架用于固定該 至少一個(gè)承載軸，所述至少一個(gè)承載軸，用于承載工件，并且?guī)?dòng)所述工件繞該至少一個(gè)承 載軸旋轉(zhuǎn)。所述濺鍍式鍍膜裝置，還可以進(jìn)一步包括一個(gè)獨(dú)立控制的輔助旋轉(zhuǎn)裝置，所述輔 助旋轉(zhuǎn)裝置可以相對(duì)于傳輸方向移動(dòng)，從而協(xié)助所述至少一個(gè)承載軸繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。 以及， 一種采用上述濺鍍式鍍膜裝置的濺鍍式鍍膜方法，其包括以下步驟 (1)提供一種如權(quán)利要求l所述的濺鍍式鍍膜裝置；(2)所述至少一個(gè)承載軸沿接近于所 述至少一靶材的方向作線性運(yùn)動(dòng)；同時(shí)，所述輔助旋轉(zhuǎn)單元協(xié)助所述至少一個(gè)承載軸繞其中
心軸旋轉(zhuǎn)。(3)所述工件隨該至少一個(gè)承載軸一起，沿接近于所述至少一靶材的方向作線性 運(yùn)動(dòng)，并同時(shí)，繞該至少一個(gè)承載軸旋轉(zhuǎn)；(4)所述至少一靶材對(duì)所述工件進(jìn)行鍍膜。
相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，所述濺鍍式鍍膜裝置及鍍膜方法經(jīng)由設(shè)置一個(gè)可沿鍍膜工作室作線性 運(yùn)動(dòng)的運(yùn)載裝置，并將該運(yùn)載裝置的至少一個(gè)承載軸設(shè)置為可繞其中心軸旋轉(zhuǎn)， 一方面，可 經(jīng)由所述運(yùn)載裝置帶動(dòng)至少一個(gè)承載軸上承載的工件依次進(jìn)行鍍膜，從而可實(shí)現(xiàn)鍍膜的連續(xù) 作業(yè)；另一方面，至少一個(gè)承載軸帶動(dòng)工件一起繞其軸旋轉(zhuǎn)，提高膜層厚度的均勻度，進(jìn)而 提高良率。


圖l是現(xiàn)有采用濺渡法對(duì)鏡座進(jìn)行鍍膜的示意圖。
圖2是本發(fā)明第一實(shí)施例提供的濺鍍式鍍膜裝置的示意圖。
圖3是鏡座的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是圖2所示濺鍍式鍍膜裝置的運(yùn)載裝置立體放大示意圖。 圖5是圖2所示的濺鍍式鍍膜裝置對(duì)鏡座的外圓周面進(jìn)行鍍膜的示意圖。 圖6是本發(fā)明第二實(shí)施例所示的濺鍍式鍍膜裝置的示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。
請(qǐng)參閱圖2，本發(fā)明第一實(shí)施例提供的一種濺鍍式鍍膜裝置20，所述濺鍍式鍍膜裝置20 包括一個(gè)鍍膜工作室21， 一個(gè)運(yùn)載裝置22以及一個(gè)靶材23。
所述鍍膜工作室21用以提供一真空濺鍍環(huán)境。通常，該鍍膜工作室21包括一個(gè)與該鍍膜
工作室21相連通的氣體入口(圖未示)及一氣體出口(未標(biāo)示)。其中，氣體入口用于向鍍膜工 作室21內(nèi)導(dǎo)入放電氣體，例如氬氣、氮?dú)獾?，氣體出口用于使鍍膜工作室21在工作時(shí)保持一 定的真空度。該氣體出口通常與一個(gè)抽真空裝置24相連，該抽真空裝置24可為分子泵、洛茨 真空泵或干式機(jī)械真空泵等。
所述靶材23設(shè)置在所述鍍膜工作室21內(nèi)，本實(shí)施例中，該靶材23為銅靶材，其數(shù)目可設(shè) 置為三個(gè)，且該三個(gè)靶材沿圖2中箭頭方向分布。另外，該三個(gè)靶材23分別可裝載于三個(gè)靶 電極230，且該三個(gè)靶電極230可為板狀電極，其在濺鍍過(guò)程通常充當(dāng)陰極且其開(kāi)關(guān)狀態(tài)可分 別獨(dú)立控制。通過(guò)轟擊靶材23可以對(duì)如圖3所示的鏡座30的待鍍膜表面300b進(jìn)行鍍膜。所述 鏡座30通常包括一個(gè)底座30a及從該底座30a上延伸出來(lái)的一個(gè)圓筒形結(jié)構(gòu)30b，所述防電磁 干擾膜層形成于該圓筒形結(jié)構(gòu)30b的外圓周面300b上。
請(qǐng)參閱圖4，所述運(yùn)載裝置22包括一個(gè)傳輸裝置221、 一個(gè)固定架222、至少一個(gè)承載軸 223，以及一個(gè)獨(dú)立控制的輔助旋轉(zhuǎn)單元224。所述傳輸裝置221設(shè)置于所述鍍膜工作室21的 底部并可沿該底部的延伸方向(如圖2中箭頭所示方向)做線性運(yùn)動(dòng)。優(yōu)選地，該傳輸裝置 221可為一傳輸帶。所述固定架222設(shè)置于所述傳輸裝置221上，由傳輸裝置221帶動(dòng)其移動(dòng)， 所述至少一個(gè)承載軸223設(shè)置于該固定架221上并可繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。
具體地，該至少一個(gè)承載軸223兩端套設(shè)在該固定架222的兩個(gè)固定環(huán)222a、 221b內(nèi)，該 至少一個(gè)承載軸223隨固定架222—起由傳輸裝置221帶動(dòng)運(yùn)動(dòng)。該至少一個(gè)承載軸223在隨固 定架222運(yùn)動(dòng)同時(shí)，可以繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。具體地，該至少一個(gè)承載軸223可通過(guò)一個(gè)輔助旋 轉(zhuǎn)單元224帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)，優(yōu)選地，該輔助旋轉(zhuǎn)單元224包括兩件板條224a、 224b，其中板條 224a、 224b分別具有一齒狀接觸面，該板條224a、 224b的一齒狀接觸面分別與該至少一個(gè)承 載軸的兩端齒狀部分223a、 223b機(jī)械嚙合，該輔助旋轉(zhuǎn)單元224可以相對(duì)于傳輸裝置221移動(dòng) ，帶動(dòng)所述至少一個(gè)承載軸223繞其中心軸旋轉(zhuǎn)，具體地，該板條224a、 224b由位置40向位 置41移動(dòng)，帶動(dòng)所述至少一個(gè)承載軸223繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。當(dāng)然該輔助旋轉(zhuǎn)單元224也可以只 包括一件板條，如設(shè)置于所述承載軸223—端的板條224a，其相對(duì)于傳輸裝置221移動(dòng)，也可 以帶動(dòng)223繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。
所述至少一個(gè)承載軸223用于承載鏡座30，其兩端穿過(guò)設(shè)置于所述固定架222上的兩個(gè)固 定環(huán)222a、 222b，隨固定架222如所述向接近于靶材的方向做線性運(yùn)動(dòng)，具體地，該至少一 個(gè)承載軸223可由導(dǎo)電材料，如鐵、鋁等金屬制成，其在濺鍍過(guò)程中充當(dāng)陽(yáng)極。
請(qǐng)進(jìn)一步參閱圖2、圖4和圖5，下面將簡(jiǎn)要描述一種利用本發(fā)明第一實(shí)施例所提供的濺 鍍式鍍膜裝置20于鏡座30的外圓周面300b上制作具有防電磁干擾膜層的濺鍍式鍍膜方法，其
包括以下步驟
(1) 將待鍍膜工件30裝載在所述至少一個(gè)承載軸223上。
如圖4所示，將所述鏡座30固定在所述至少一個(gè)承載軸223上，且與該至少一個(gè)承載軸共 軸，并能夠被至少一個(gè)承載軸223帶動(dòng)繞自身中心軸旋轉(zhuǎn)。
(2) 所述至少一個(gè)承載軸223沿接近于所述至少一靶材23的方向作線性運(yùn)動(dòng)，并同時(shí)繞其 中心軸旋轉(zhuǎn)。
所述至少一個(gè)承載軸223兩端套在固定架222的固定環(huán)222上，且可以隨意繞其中心軸轉(zhuǎn) 動(dòng)，其將與固定架222—起，隨傳輸裝置221沿該傳輸裝置221的運(yùn)動(dòng)方向(如圖5中水平箭頭 所示方向)運(yùn)動(dòng)并接近所述靶材23。同時(shí)，該輔助旋轉(zhuǎn)單元224帶動(dòng)該至少一個(gè)承載軸223繞 其中心軸旋轉(zhuǎn)，使得套在該至少一個(gè)承載軸223上的工件30也繞自身中心軸旋轉(zhuǎn)。具體地， 該輔助旋轉(zhuǎn)單元224的兩塊板條224a、 224b，可以相對(duì)于傳輸裝置221移動(dòng)，其中，板條 224a、 224b分別具有一齒狀接觸面，該板條224a、 224b的一齒狀接觸面分別與至少一個(gè)承載 軸223兩端齒狀部分223a、 223b機(jī)械嚙合，該輔助旋轉(zhuǎn)單元224如所述相對(duì)于傳輸裝置221移 動(dòng)，帶動(dòng)至少一個(gè)承載軸223旋轉(zhuǎn)。
可以理解的是，當(dāng)所述固定架222在所述傳輸裝置221的帶動(dòng)下進(jìn)入所述鍍膜工作室21時(shí) ，可經(jīng)由與鍍膜工作室21相連通的抽真空裝置24對(duì)鍍膜工作室21抽真空至預(yù)定壓力的真空狀 態(tài)，并經(jīng)由與鍍膜工作室21相連通的氣體入口向鍍膜工作室21通入放電氣體，如氬氣等。
(3) 所述至少一耙材23對(duì)所述工件30進(jìn)行鍍膜。
所述至少一靶材23可以根據(jù)需要設(shè)置，例如， 一般鍍防電磁輻射膜，所需要的靶材分為 兩區(qū)，第一區(qū)為銅靶，第二區(qū)為不銹鋼靶，每一區(qū)可由3個(gè)靶材組成，控制靶材數(shù)量可鍍不 同的厚度，如，先鍍一層銅(銅膜層厚度約2um以?xún)?nèi))，鍍完后再將所述鏡座30送入第二區(qū)， 進(jìn)一步在所述鏡座30的外圓周面300b的銅膜層上濺鍍上一層不銹鋼膜層(不銹鋼膜層厚度約 0. 5y m以?xún)?nèi))。
如圖5所示，當(dāng)所述鏡座30運(yùn)動(dòng)至至少一靶材23正下方時(shí)，可由外部電源(圖未示)向所 述耙電極230施加負(fù)電壓，同時(shí)至少一個(gè)承載軸223接地(圖未示)，使得所述銅耙材23表面上 的放電氣體電離并產(chǎn)生等離子，通過(guò)該等離子的離子在銅靶材23上撞擊出原子或原子團(tuán)，并 將該原子團(tuán)沉積在所述待鍍膜的外圓周面300b，可在該外圓周面300b上形成一膜層。
可以理解的是，當(dāng)所述鏡座30運(yùn)動(dòng)至與所述銅靶材23相對(duì)時(shí)，鏡座30繞自身中心軸旋轉(zhuǎn) ，鏡座30的外圓周面300b上任意部位相對(duì)于銅耙材23幾何位置一致，因此在該外圓周面 300b上形成的膜層厚度均勻?？刂菩D(zhuǎn)速度可以獲得適當(dāng)?shù)哪ず瘛６?，?duì)于本發(fā)明的濺鍍
式鍍膜裝置，由于不需要設(shè)置較大的靶材，且靶束不需要分散，因此，可以提高靶材利用率 ，達(dá)到降低成本的功效。
請(qǐng)參閱圖6，本發(fā)明第二實(shí)施例提供的一種濺鍍式鍍膜裝置60，其與本發(fā)明第一實(shí)施例 提供的濺鍍式鍍膜裝置20結(jié)構(gòu)基本相同，其區(qū)別在于所述濺鍍式鍍膜裝置60還進(jìn)一步包括 一個(gè)裝載室62、 一個(gè)卸載室63、 一個(gè)加熱室64及一個(gè)清洗室65，所述傳輸裝置221分別設(shè)置 于該裝載室62、加熱室64、清洗室65、鍍膜工作室21及卸載室63的底部210，所述抽真空裝 置24分別通過(guò)一抽氣管與所述裝載室62、加熱室64、清洗室65及卸載室63相連通。
具體地，所述裝載室62、加熱室64、清洗室65、鍍膜工作室21及卸載室63依次相鄰設(shè)置 。其中，所述裝載室62用于收容待鍍膜的鏡座30，所述卸載室63用于收容已鍍膜的鏡座30。
所述加熱室64用于在將所述待鍍膜的鏡座30送入所述清洗室65進(jìn)行等離子清洗前，收容 并加熱該鏡座30，以對(duì)該鏡座30進(jìn)行干燥，并提升該鏡座30在所述鍍膜工作室21進(jìn)行鍍膜時(shí) 的鍍膜品質(zhì)。
所述清洗室65用于在將所述鏡座30送入鍍膜工作室21進(jìn)行鍍膜前，對(duì)該鏡座30的待鍍膜 外圓周面300b進(jìn)行等離子體清洗(plasma cleaning),以使所述鏡座30的待鍍膜外圓周面 300b保持潔凈，從而于所述鍍膜工作室21內(nèi)獲得較佳的鍍膜效果。
所述傳輸裝置221設(shè)置于所述裝載室62、加熱室64、清洗室65、鍍膜工作室21及卸載室 63的底部，從而可帶動(dòng)所述鏡座30在依次分別在該裝載室62、加熱室64、清洗室65、鍍膜工 作室21及卸載室63作線性運(yùn)動(dòng)。
另外，所述抽真空裝置24可分別獨(dú)立地對(duì)所述裝載室62、加熱室64、清洗室65、鍍膜工 作室21及卸載室63抽真空，使該裝載室62、加熱室64、清洗室65、鍍膜工作室21及卸載室 63的真空度可根據(jù)作業(yè)需要進(jìn)行調(diào)整。
本發(fā)明第一實(shí)施例及第二實(shí)施例分別所提供的濺鍍式鍍膜裝置20、 60，其經(jīng)由設(shè)置一個(gè) 可沿鍍膜工作室21作線性運(yùn)動(dòng)的運(yùn)載裝置22、并將該運(yùn)載裝置22的至少一個(gè)承載軸223設(shè)置 為可繞其中心軸旋轉(zhuǎn)，可經(jīng)由所述運(yùn)載裝置22帶動(dòng)所述至少一個(gè)承載軸223及其上承載的鏡 座30依次進(jìn)行鍍膜，從而可實(shí)現(xiàn)鍍膜的連續(xù)作業(yè)；并同時(shí)經(jīng)由一獨(dú)立控制的輔助旋轉(zhuǎn)單元帶 動(dòng)所述至少一個(gè)承載軸223及其上承載的鏡座30繞其中心軸旋轉(zhuǎn)，從而實(shí)現(xiàn)鏡座30需鍍膜的 外圓周面300b獲得均勻膜層。
可以理解的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其它 各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
權(quán)利要求1一種濺鍍式鍍膜裝置，其包括一個(gè)鍍膜工作室；一個(gè)運(yùn)載裝置，該運(yùn)載裝置包括一個(gè)傳輸裝置、一個(gè)固定架及至少一個(gè)承載軸，所述傳輸裝置設(shè)置于所述工作室的底部，并可沿該工作室的底部的延伸方向做線性運(yùn)動(dòng)，所述固定架設(shè)置于所述傳輸裝置上，并由所述傳輸裝置帶動(dòng)沿所述鍍膜工作室的底部的延伸方向做線性運(yùn)動(dòng)，該至少一個(gè)承載軸設(shè)置于該固定架之上，且用于承載工件，并且?guī)?dòng)所述工件繞其旋轉(zhuǎn)；以及至少一靶材，其設(shè)置在所述鍍膜工作室內(nèi)，用于對(duì)所述工件進(jìn)行鍍膜。
2.如權(quán)利要求l所述的濺鍍式鍍膜裝置，其特征在于，所述運(yùn)載裝置 進(jìn)一步包括一輔助旋轉(zhuǎn)單元，該輔助旋轉(zhuǎn)裝置耦接該至少一個(gè)承載軸，使該至少一個(gè)承載軸 繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。
3.如權(quán)利要求2所述的濺鍍式鍍膜裝置，其特征在于，所述至少一個(gè) 承載軸一端具有一齒輪，所述一輔助旋轉(zhuǎn)單元包含至少一個(gè)板件，其具有一鋸齒面，該鋸齒 面與所述至少一個(gè)承載軸一端的齒輪機(jī)械嚙合，當(dāng)該至少一個(gè)板件相對(duì)于所述固定架移動(dòng)， 使所述至少一個(gè)承載軸可以繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。
4.如權(quán)利要求l所述的濺鍍式鍍膜裝置，其特征在于，所述傳輸裝置為傳輸帶。
5.如權(quán)利要求l所述的濺鍍式鍍膜裝置，其特征在于，所述濺鍍式鍍 膜裝置進(jìn)一步包括一個(gè)清洗室，所述清洗室與所述鍍膜工作室相鄰設(shè)置，用于收容并清洗所 述工件。
6.如權(quán)利要求5所述的濺鍍式鍍膜裝置，其特征在于，所述濺鍍式鍍 膜裝置進(jìn)一步包括一個(gè)加熱室，所述加熱室與所述清洗室相鄰設(shè)置，用于收容并對(duì)所述工件 進(jìn)行干燥。
7.如權(quán)利要求6所述的濺鍍式鍍膜裝置，其特征在于，所述濺鍍式鍍 膜裝置進(jìn)一步包括一個(gè)裝載室及一個(gè)卸載室，所述裝載室與所述加熱室相鄰設(shè)置，所述卸載 室與所述鍍膜工作室相鄰設(shè)置，所述裝載室用于收容待鍍膜的工件，所述卸載室用于收容已 鍍膜的工件。
8.如權(quán)利要求7所述的濺鍍式鍍膜裝置，其特征在于，所述濺鍍式鍍 膜裝置進(jìn)一步包括一個(gè)抽真空裝置，所述抽真空裝置通過(guò)一抽氣管分別與所述裝載室、所述 加熱室、所述清洗室、所述鍍膜工作室及所述卸載室相連通，以分別獨(dú)立地對(duì)該裝載室、加 熱室、清洗室、鍍膜工作室及卸載室抽真空。
9.如權(quán)利要求l所述的濺鍍式鍍膜裝置，其特征在于，所述濺鍍式鍍 膜裝置進(jìn)一步包括設(shè)置在所述工作室內(nèi)的至少一耙電極，所述每一耙電極分別對(duì)應(yīng)裝載每一 靶材。
10. 一種濺鍍式鍍膜方法，其包括以下步驟(1) 提供一種如權(quán)利要求l所述的濺鍍式鍍膜裝置；(2) 所述至少一個(gè)承載軸上套設(shè)至少一工件，所述傳輸裝置帶動(dòng)該至少一個(gè)承載軸沿接 近于所述至少一靶材的方向作線性運(yùn)動(dòng)；同時(shí)，所述至少一個(gè)承載軸繞其中心軸旋轉(zhuǎn)。(3) 轟擊所述至少一靶材對(duì)所述至少一工件進(jìn)行鍍膜。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種濺鍍式鍍膜裝置，其包括一個(gè)鍍膜工作室；至少一靶材，其設(shè)置在所述鍍膜工作室內(nèi)，用于對(duì)工件進(jìn)行鍍膜；一個(gè)運(yùn)載裝置，其沿所述鍍膜工作室的底部的延伸方向運(yùn)載所述工件，該運(yùn)載裝置包括一個(gè)承載架和至少一個(gè)承載軸，所述至少一個(gè)承載軸用來(lái)承載所述工件，并帶動(dòng)所述工件一起繞至少一個(gè)承載軸中心軸旋轉(zhuǎn)；以及一輔助旋轉(zhuǎn)單元，該輔助旋轉(zhuǎn)單元用于協(xié)助所述至少一個(gè)承載軸做所述繞中心軸旋轉(zhuǎn)。所述濺鍍式鍍膜裝置及鍍膜方法可對(duì)工件的表面進(jìn)行鍍膜，達(dá)到該表面膜層均勻的效果。
文檔編號(hào)C23C14/34GK101376964SQ20071020155
公開(kāi)日2009年3月4日 申請(qǐng)日期2007年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月31日
發(fā)明者顏士杰 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司