專利名稱：平面拋光磨盤快速修正盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于磨削工裝技術(shù)領(lǐng)域，特別是用于大型鏡面平面拋光機(jī)研 磨盤表面修整的平面拋光磨盤快速修正盤。
背景技術(shù)：
在公知的技術(shù)中，對(duì)于大型鏡面的拋光加工，所用研磨盤是機(jī)械加工成 形，由于研磨表面高低起伏較大，不平度達(dá)幾毫米以上，因此需要通過手工
刮研進(jìn)行修整，不僅勞動(dòng)強(qiáng)度大，而且修整效率低，周期長(zhǎng)， 一般需要1 2 個(gè)月，對(duì)于磨面起伏過大的，甚至需要3個(gè)月以上。由于手工刮研沒有基準(zhǔn)， 使研磨盤的修正質(zhì)量及修正精度得不到保證。另外，在使用過程中由于磨料 的摩擦，研磨盤表面會(huì)因磨損而出現(xiàn)凸凹不平，容易破壞基準(zhǔn)，影響工件的 拋光質(zhì)量，因此還需要對(duì)研磨盤定期進(jìn)行修正。目前的修正方法一般是將待 修磨盤置于旋轉(zhuǎn)的工作臺(tái)上，其上置一玻璃或大理石的平板狀修正盤，并在 中間加放磨料，在磨盤的旋轉(zhuǎn)作用下進(jìn)行研磨修正，由于研磨面積過大，其 摩擦力造成相對(duì)移動(dòng)速度緩慢，而且磨料粒度小，導(dǎo)致磨削速度慢，修正效 率很低，周期太長(zhǎng)，費(fèi)工費(fèi)時(shí)，造成生產(chǎn)成本的加大及產(chǎn)品交付不及時(shí)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種能夠快速修正研磨盤，保證研磨盤基準(zhǔn)和 精度的平面拋光磨盤快速修正盤。
實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的所采取的技術(shù)方案是該修正盤具有一個(gè)環(huán)狀盤 體，盤體一側(cè)的端面上均布粘敷有金剛石丸片。所述金剛石丸片為金剛石粉末壓制件。 所述金剛石丸片與盤體之間采用非加熱膠粘接。
所述盤體粘敷端面的不平度在0.1mm以內(nèi)。
按照上述方案制成的拋光磨盤快速修正盤，可將修正研磨盤的時(shí)間由原 來的1 2個(gè)月縮短至4 5個(gè)小時(shí)，由此節(jié)省了大量的人力和時(shí)間，而且可以 保證修正精度，大幅度提高工作效率。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

參看圖l，本實(shí)用新型的拋光磨盤快速修正盤，具有一個(gè)環(huán)狀盤體l，該 盤體1的兩個(gè)端面平行，是由密度均勻、物理性能穩(wěn)定、堅(jiān)硬耐磨的金屬材 料或石料等制成，使其在修正磨削時(shí)，各部壓力一致，而且線脹系數(shù)小，不 易翹曲變形。在盤體1一側(cè)的端面上用非加熱膠均勻粘敷有金剛石丸片2，丸 片是由金剛石粉末壓制而成，具有較大的粒度，以加大磨削速度，提高修正 效率。盤體1粘敷端面的不平度要求在O.lmm以內(nèi)，以保證磨削的質(zhì)量。使 用時(shí)，將待修磨盤置于旋轉(zhuǎn)的工作臺(tái)上，修正盤粘敷有丸片的端面朝下，偏 離旋轉(zhuǎn)中心放在磨盤上，通過磨盤旋轉(zhuǎn)的離心力帶動(dòng)修正盤作無規(guī)則磨削移 動(dòng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)磨盤的均勻磨削。由于修正盤磨削面的相對(duì)減小，加之金剛石丸 片粒度較大，因而使修正磨削效率大大提高， 一般只需4 5小時(shí)即可完成一 塊磨盤的修正。
權(quán)利要求1、一種平面拋光磨盤快速修正盤，其特征在于該修正盤具有一個(gè)環(huán)狀盤體，盤體一側(cè)的端面上均布粘敷有金剛石丸片。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面拋光磨盤快速修正盤，其特征在于所述 金剛石丸片是由金剛石粉末壓制而成。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面拋光磨盤快速修正盤，其特征在于所述 金剛石丸片與盤體之間采用非加熱膠粘接。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的平面拋光磨盤快速修正盤，其特征在于所述 盤體粘敷端面的不平度在0.1mm以內(nèi)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于大型鏡面平面拋光機(jī)研磨盤表面修整的平面拋光磨盤快速修正盤，它具有一個(gè)環(huán)狀盤體，盤體一側(cè)的端面上均布粘敷有金剛石丸片。使用該修正盤可以節(jié)省大量的人力和時(shí)間，而且能夠保證修正精度，大幅度提高工作效率。
文檔編號(hào)B24B53/12GK201140362SQ20072018767
公開日2008年10月29日 申請(qǐng)日期2007年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月27日
發(fā)明者李付中, 王天洲, 琨 羊, 阮順全, 良 馬 申請(qǐng)人:利達(dá)光電股份有限公司