專利名稱：拋光墊、拋光裝置、以及使用拋光墊的工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及拋光墊、拋光裝置以及使用拋光墊的工藝，更具體地， 涉及具有墊窗口的拋光墊、包含該拋光墊的拋光裝置以及使用它的工 藝。
背景技術(shù)：
拋光墊中的墊窗口可以作為激光路徑的一部分，用于在拋光工藝 期間對(duì)工件進(jìn)行測(cè)量。墊窗口會(huì)因其在化學(xué)機(jī)械拋光裝置中的配置而引發(fā)問題。圖1包括化學(xué)機(jī)械拋光("CMP")裝置10和工件128的 截面圖。化學(xué)機(jī)械拋光裝置10可以包括臺(tái)板12和現(xiàn)有的拋光墊14。 臺(tái)板12包括臺(tái)板窗口 16。 CMP裝置IO還包括激光器18和可以用于 終點(diǎn)檢測(cè)的檢測(cè)器110。現(xiàn)有的拋光墊14包括具有開口 114的第一層 112和基本上平坦的拋光表面116。墊窗口 122位于第一層112中的 開孔114內(nèi)。墊窗口 122具有拋光表面126?，F(xiàn)有的拋光墊14具有第 二層118，位于第一層112和臺(tái)板12之間。由于第二層118對(duì)于來自 激光器18的輻射光束基本上不透明，在第二層中形成開孔120以使 得具有使輻射光束從激光器18到工件表面并返回檢測(cè)器110的路徑。 該路徑間斷地形成，使得當(dāng)墊窗口 122位于臺(tái)板12和工件128 之間時(shí)可以使用激光器18和檢測(cè)器110進(jìn)行測(cè)量。但是，在拋光期 間的溫度變化會(huì)使墊窗口 122的拋光表面變形。變形會(huì)引起拋光工藝 的問題。這種問題例如對(duì)終點(diǎn)檢測(cè)的誤讀或者漏讀，墊窗口 122的一 部分或者全部從現(xiàn)有的拋光墊14的其他部分分離，過度磨損或墊窗 口122的破裂，或者它們的任意組合。由變形引起的其他問題可以包 括對(duì)工件128或者CMP裝置的損壞。


參考附圖，更易于理解本發(fā)明，其許多的特征和優(yōu)點(diǎn)對(duì)于本領(lǐng)域 技術(shù)人員更為清晰。本發(fā)明通過示例進(jìn)行說明，但并不僅限于附圖。圖l是包括晶片和包含拋光墊(既有技術(shù))的CMP裝置的一部 分的截面圖。圖2是拋光墊的實(shí)施方式之一的截面圖。 圖3是拋光塾的另一實(shí)施方式的截面圖。 圖4是拋光墊的又一實(shí)施方式的截面圖。 圖5是拋光墊的又一實(shí)施方式的截面圖。圖6是根據(jù)實(shí)施方式之一，是在拋光期間，工件和包含拋光墊的 拋光裝置的一部分的截面圖；本領(lǐng)域技術(shù)人員可理解，圖中的元素是為簡單和清楚之目的而示 出的，而并非按照比例畫出。例如，圖中某些元素的尺寸可相對(duì)其他 元素放大以有助于提高對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式的理解。不同附圖中使用的 相同附圖標(biāo)記代表相似或者相同的對(duì)象。
具體實(shí)施方式
拋光墊可包括墊窗口。在第一方面，拋光墊可以包括第一層。第 一層可以包括第一拋光表面和與第一拋光表面相對(duì)的第一對(duì)置表面。 第 一層還可以包括延伸穿過第 一層的第 一開口 。拋光墊還可以包括第 二層。第二層可以包括附著表面和與附著表面相對(duì)的第二對(duì)置表面。 第二對(duì)置表面離第一層的第一對(duì)置表面可以比離第一層的第一拋光 表面更近。第二層可以包括延伸穿過第二層的笫二開口，第二開口可 以基本上與第一層的第一開口相連續(xù)。拋光墊還可以包括位于第一開 口中的墊窗口。墊窗口可以包括基本上與第一拋光表面相連續(xù)的第二 拋光表面、以及與第二拋光表面相對(duì)的第三對(duì)置表面。第三對(duì)置表面 可以位于第一層的第一拋光表面與第二層的附著表面之間的區(qū)域。墊 窗口可以包括透氣材料。在第二方面，拋光裝置可以包括臺(tái)板。臺(tái)板可以包括第一附著表 面。拋光裝置還可以包括拋光墊。拋光墊可以包括位于臺(tái)板上方并與 臺(tái)板間隔開的第一層。第一層可以包括第一拋光表面和與第一拋光表 面相對(duì)的第一對(duì)置表面。第一層還可以包括延伸穿過第一層的第一開 口。拋光墊還可以包括位于第一層與臺(tái)板之間的第二層。第二層可以 包括與臺(tái)板的第一附著表面相鄰接的第二附著表面。第二層還可以包 括與第二附著表面相對(duì)的第二對(duì)置表面，該第二對(duì)置表面離第一層的第 一對(duì)置表面比離第 一層的第 一拋光表面更近。第二層還可以包括延 伸穿過第二層的第二開口 ，第二開口基本上與第一層的第一開口相連 續(xù)。拋光墊還可以包括位于第一層的第一開口中的墊窗口。墊窗口可 以包括基本上與第一層的第一拋光表面相連續(xù)的第二拋光表面。墊窗 口還可以包括與第二拋光表面相對(duì)的第三對(duì)置表面。墊窗口可以包括 透氣材料。在第三方面，拋光工藝可以包括在拋光墊與臺(tái)板之間形成間隔區(qū) 域。間隔區(qū)域可以包含氣體，該氣體可以具有第一平均溫度。該工藝 還可以包括拋光工件的步驟，其中在拋光期間的某個(gè)時(shí)刻，間隔區(qū)域 位于臺(tái)板與工件之間。該工藝還可以包括在開始對(duì)工件進(jìn)行拋光后， 將間隔區(qū)域中的氣體的溫度從第一平均溫度改變成第二平均溫度的 步驟。該工藝還可以包括在開始對(duì)工件進(jìn)行拋光后形成跨過拋光墊的 氣流。參考以下說明和附圖，更容易理解本發(fā)明的具體實(shí)施方式
。某些術(shù)語被限定或明確為如在本說明中使用時(shí)所指的意思。當(dāng)術(shù) 語"平均，，修飾某個(gè)值時(shí)，其意思是高值與低值之間的中間值。例如， 平均值可以為平均數(shù)、幾何平均數(shù)或者中點(diǎn)。此處所用的術(shù)語"包含"、"包括"、"具有"或其任何其他變化，意 指非排它性包含。例如，包括一系列要素的工藝、方法、物品、或者 裝置并不僅限于這些要素，還可包括其他未明確列出的要素或者該工 藝、方法、物體或者裝置固有的要素。此外，除非明確相反地表明，"或，，的意思是包含性的或而非排它性的或。例如，條件A或B被以下 任一情況滿足A為真(出現(xiàn))且B為假(未出現(xiàn))；A為假(未出 現(xiàn))且B為真(出現(xiàn))；A和B均為真(出現(xiàn))。 成物質(zhì)的化學(xué)構(gòu)成。成分可以是元素、化合物、 混合物、溶液、合金或者它們的任何組合。例如，纖維的成分可以是 羊毛和棉纖維的混合物。術(shù)語"連續(xù)"指兩個(gè)或者更多物品或者其他物體位于或者被放置 為在兩個(gè)或者更多物體或者其他物體之間沒有明顯的東西。例如物品 或者其他物體中的一個(gè)可以與物品或者其他物體中的另一個(gè)相接觸。術(shù)語"干燥"指沒有液態(tài)成分。例如，干燥區(qū)域可以有水蒸汽或者 水出現(xiàn)，但沒有液態(tài)水。術(shù)語"標(biāo)高，，指層或者其他物體與參考平面之間的最近距離。此處所用"材料"指物質(zhì)的物理結(jié)構(gòu)。材料可以具有其中包括孔或 者間隙的結(jié)構(gòu)。例如紡織品是由纖維制成的材料并具有孔(例如纖維 之間的間隙)。這些孔被認(rèn)為與作為結(jié)構(gòu)中斷的洞不同。扣眼為織物 中的洞的一個(gè)例子。術(shù)語"工件"指襯底、以及——如果有的話——在工藝序列的任何 具體點(diǎn)上附著在襯底上的一個(gè)層或者更多的層、 一個(gè)或者更多的結(jié) 構(gòu)、或者它們的任何組合。注意，在工藝序列期間，襯底可能不會(huì)發(fā) 生顯著變化，而工件會(huì)發(fā)生顯著變化。例如，在工藝序列開始時(shí)，襯 底和工件是相同。而在襯底上方形成一層之后，襯底未發(fā)生變化，但 此時(shí)工件包括襯底與該層的組合。此外，為清晰之目的以及給出此處所說明的實(shí)施方式的一般意義 上的范圍，"一個(gè)，，用來描述其所指向的一個(gè)或者多個(gè)物體。因此，當(dāng) 使用"一個(gè)，，時(shí)，說明應(yīng)被理解為包括一個(gè)或者至少一個(gè)，除非明確說 明意思相反，否則單數(shù)也包含復(fù)數(shù)。除非另有定義，此處所用的所有技術(shù)和科學(xué)術(shù)語均具有本發(fā)明所 屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員 一般理解上的相同含義。此處所提及的所有出 版物、專利申請(qǐng)、專利和其他參考文獻(xiàn)均作為整體被包含在內(nèi)。為了 避免沖突，包括定義的本說明書將會(huì)予以控制。此外，材料、方法和 示例僅為說明之目的而非限定性的。至于此處未述的范疇，有關(guān)于具體材料、工藝動(dòng)作以及電路的諸
多細(xì)節(jié)均為現(xiàn)有的，可以見于教科書以及半導(dǎo)體和微電子技術(shù)中的其 他資料。通過以下詳細(xì)說明以及所附的權(quán)利要求，本發(fā)明的其他特征 和優(yōu)點(diǎn)將更為清晰。圖2是拋光墊20的截面圖，拋光墊20包括層22、層24以及墊 窗口 26。層22可以包括拋光表面212，該拋光表面212被設(shè)計(jì)為當(dāng) 拋光墊20要被附著于臺(tái)板時(shí)是基本上平坦的。拋光212可以具有紋 理或者基本上是光滑。例如，在一個(gè)實(shí)施方式中，拋光表面212可以 被開槽的或者被穿孔。層22還可以包括與拋光表面212相對(duì)的對(duì)置 表面222。層22可以包括如下材料固體材料、開口單元材料、封閉 單元材料、織物材料、氈制材料或者它們的任意組合。層22的成分 可以包括橡膠化合物、聚氨酯化合物、膠粘化合物、復(fù)合磨料或者它 們的任意組合。層22可以包括開口 28。層22的厚度范圍為約 0.05mm ~ 12.7mm (約2 ~ 500mils )。在一個(gè)實(shí)施方式中，開口 28 可以延伸穿過層22的整個(gè)厚度。層24可以包括附著表面214，該附著表面214被設(shè)計(jì)為允許拋 光墊20附著于臺(tái)板的相應(yīng)的附著表面。層24還可以具有與附著表面 214相對(duì)的對(duì)置表面224。層24的厚度范圍可以為約0.05mm ~ 12.7mm (約2 500mil)。在一個(gè)實(shí)施方式中，對(duì)置表面224可以與層22的 對(duì)置表面222相鄰接。在另一個(gè)實(shí)施方式中，層22可以與層24緊鄰。 層24可以包括與用于說明層22的相同或不同的材料或者成分。層24 可以具有與層22相同或者不同的材料或成分。層24可以包括開口 210。在一個(gè)實(shí)施方式中，開口 20延伸穿過層24的整個(gè)厚度并與開 口 28相連續(xù)。開口 28的周長可以與開口 210的周長相同或者不同。 開口 28可以與開口 210相鄰接，使得每個(gè)開口 28和開口 210可以包 括連續(xù)區(qū)域的一部分，墊窗口 26位于開口 28內(nèi)，包括拋光表面216和對(duì)置表面226。 拋光表面216與拋光表面2連接。拋光表面216和拋光表面212沿拋 光平面218放置。當(dāng)拋光塾要固定至臺(tái)板時(shí)，對(duì)置表面226設(shè)置成離 開臺(tái)板外表面一定間距。這樣，墊窗口 26填充開口 28的一部分并且
填充或者不填充開口 210的一部分。墊窗口 26包括透氣的材料、成 分或者其任意組合。在實(shí)施方式之一中，墊窗口 26具有能夠允許預(yù) 定波長或者光鐠的輻射光傳輸?shù)某煞?。在?shí)施方式之一中，墊窗口 26 包括氨基鉀酸酯材料，聚乙烯，聚四氟乙烯樹脂("PTFE，，)，聚丙 烯，或者其任意組合。在特定實(shí)施方式中，墊窗口 26沿開口 28的周邊 與層22緊鄰。拋光墊20的層22和層24可以分別形成，然后用現(xiàn)有的或者專 用的技術(shù)附著在一起。在一個(gè)實(shí)施方式中，層22中的開口 28和層24 中的開口 210可以在將層22和層24附著在一起之前形成。在另一個(gè) 實(shí)施方式中，層22和層24可以在形成開口 28和開口 210之前結(jié)合 在一起。墊窗口 26可以通過在包括開口 28和開口 210的區(qū)域中接合、 粘接、固定，模鑄在適當(dāng)?shù)奈恢谩⒒蚴褂矛F(xiàn)有的或者專用的技術(shù)來附 著。在另一個(gè)實(shí)施方式中，墊窗口可以以不同的形狀、厚度或者它們 的任意組合來形成，使得墊窗口的對(duì)置表面可以位于相對(duì)于拋光表面 不同標(biāo)高的位置。圖3表示了拋光墊30,包括層22、層24、和墊窗 口 36，其中墊窗口 36具有不同于前述實(shí)施方式的形狀。層22可以包 括開口 38、拋光表面212、以及對(duì)置表面222。層24可以包括開口 310、附著表面214、以及對(duì)置表面224。墊窗口 36可以包括如前述 的墊窗口 26中的材料、成分或者它們的任意組合。在所示實(shí)施方式 中，墊窗口 36可以包括拋光表面316和對(duì)置表面"6。拋光表面212 和拋光表面316可以沿拋光平面318放置。從墊窗口 26的對(duì)置表面 326到拋光平面318的標(biāo)高可以小于從拋光表面214到拋光平面318 的標(biāo)高。在更為具體的實(shí)施方式中，墊窗口 36可以沿開口 210的周 界與層24相鄰接。圖4是拋光墊40，包括層22、層24以及墊窗口46,其中墊窗 口 46具有不同于此前的實(shí)施方式所述的形狀。層22可以包括開口 48、 拋光表面212和對(duì)置表面222。層24可以包括開口 410、附著表面214 以及對(duì)置表面224。墊窗口 46包括如前述的用于墊窗口 26的材料、
成分或者它們的任意組合。墊窗口 46可以具有拋光表面416和對(duì)置 表面426。拋光表面212和拋光表面416可以沿拋光平面418放置。 在具體實(shí)施方式
中，從墊窗口 46的對(duì)置表面426到拋光平面418的 標(biāo)高小于從對(duì)置表面222到拋光平面418的標(biāo)高。在又一個(gè)實(shí)施方式中，在包括拋光表面的層與包括附著表面的層 之間可以具有中間層。圖5示出了拋光墊50，包括層22、層24、墊 窗口 56、以及層54，其中層54位于層22和層24之間。層22可以 包括開口 58、拋光表面212以及對(duì)置表面222。層24可以包括開口 開口510、附著表面214以及對(duì)置表面224。層54可以包括第一表面 522和第二表面524以及延伸穿過層54的開口 59。笫一表面522可 以是層54的最靠近層22的表面，第二表面524可以是層54的最靠 近層24的表面。層54可以具有如前述的層22的厚度范圍。墊窗口 56可以具有拋光表面516、對(duì)置表面526，并基本上填充 開口 58的一部分。拋光表面212和拋光表面516可以拋光平面放 置。墊窗口 56可以包括如前述的墊窗口 26的材料、成分或者它們的 任意組合。在一個(gè)實(shí)施方式，墊窗口 56可以也可以不基本上填充 開口 58的一部分、沿開口 58的周界與層54相鄰接、或者它們的任 意組合。在另一個(gè)實(shí)施方式中，墊窗口 56可以也可以不填充開口 510 的一部分、沿開口 510的周界與層24相鄰接、或者它們的任意組合。 在另一個(gè)實(shí)施方式中，墊窗口 56的對(duì)置表面526與拋光平面518之 間的標(biāo)高可以小于對(duì)置表面222與拋光平面518之間的標(biāo)高。在又一 個(gè)實(shí)施方式中，對(duì)置表面526與拋光平面518之間的標(biāo)高可以小于附 著表面214與拋光平面518之間的標(biāo)高。拋光墊可以有許多其他替代的實(shí)施方式，當(dāng)拋光墊附著于拋光設(shè) 備時(shí)在拋光墊的透氣部分與臺(tái)板之間形成間隔區(qū)域。通過改變層數(shù)、 延伸穿過層的開口的相對(duì)尺寸以及形狀、墊窗口部分的相對(duì)厚度、層 和墊窗口部分的材料，或者它們的任意組合，可以制備幾乎無數(shù)的這 種拋光墊。在具體實(shí)施方式
中，包括拋光表面的層的透氣部分與包含 附著表面的層中的開口相接。例如，在拋光墊20的情況下，層22可
以是連續(xù)的并且可以不包括開口 28。鄰接并延伸穿過開口 210的層 22的一部分是透氣的。這樣的拋光墊無需在間隔區(qū)域與拋光表面之間 的墊窗口部分。圖6給出了在拋光期間，工件64以及包括拋光墊20和臺(tái)板62 的拋光裝置60的一部分的截面圖。盡管所示實(shí)施方式是就拋光墊20 進(jìn)行說明的，但是在另一個(gè)實(shí)施方式中，可以使用另一個(gè)拋光墊(例 如，拋光墊30、拋光墊40或者拋光墊50)代替該拋光墊20。拋光墊 20可以位于工件64和臺(tái)板62之間。拋光墊20可以具有拋光表面614。 在一個(gè)實(shí)施方式中，拋光表面614可以包括層22的拋光表面212和 墊窗口 26的拋光表面216，并沿拋光平面218放置。工件64可以包 括具有多個(gè)層的襯底。該襯底可以包含部分形成了的電子器件。臺(tái)板 62可以包括附著表面68。附著表面68可以與拋光墊20的附著表面 214相鄰接。在一個(gè)實(shí)施方式中，附著表面68和附著表面214可以基 本上沿同一平面放置。在另一個(gè)實(shí)施方式中，附著表面68可附著于 附著表面214。臺(tái)板62的附著表面68可以被設(shè)計(jì)為剛性的或者柔性 的。臺(tái)板62的材料可以包括包括陶瓷、金屬、石材、橡膠、塑料、 PTFE、環(huán)氧樹脂、或者它們的任意組合。在另一個(gè)實(shí)施方式中，拋 光墊20的拋光表面614可以基本上平行于沿附著表面214的相同平 面。在一個(gè)實(shí)施方式中，臺(tái)板62還可以包括臺(tái)板窗口 66。在另一個(gè) 實(shí)施方式中，臺(tái)板窗口 66可以具有容許預(yù)定波長或者光譜的輻射透 射通過臺(tái)板窗口 66的成分。臺(tái)板窗口 66的外部表面620可以沿與附 著表面68相同或不同的放置。間隔區(qū)域610可以形成于拋光墊20和 臺(tái)板62之間。拋光表面614可以位于間隔區(qū)域610的上方。間隔區(qū) 域610可以包括處于平均溫度的氣體。在一個(gè)實(shí)施方式中，間隔區(qū)域 610可以位于墊窗口 26和臺(tái)板窗口 66之間。在另一個(gè)實(shí)施方式中， 間隔區(qū)域內(nèi)的氣體可以包括空氣。在又一個(gè)實(shí)施方式中，間隔區(qū)域內(nèi) 的氣體還可以包括氬、氮、氧、二氧化碳、能夠通過墊窗口材料的其 他氣體、或者它們的任意組合。在又一個(gè)實(shí)施方式中，間隔區(qū)域可以
是基本上干燥的。臺(tái)板62可以被機(jī)械地驅(qū)動(dòng)。流體612可以被施加于拋光墊20 的拋光表面614。流體612可以是溶液、混合物、懸濁液、漿液、凝 膠、液體、水或者它們的任意組合，并且可以包括酸、堿、緩沖劑、 磨料、膠體或者它們的任意組合。工件64可以與拋光墊20相鄰接地 放置?？梢酝ㄟ^對(duì)工件64、臺(tái)板62或者它們的任意組合施加壓力， 將拋光塾20壓縮在工件64和臺(tái)板62之間。拋光墊20可以相對(duì)于工 件64移動(dòng)、工件64可相對(duì)與拋光墊20移動(dòng)、或者它們的任意組合。在對(duì)工件64進(jìn)行拋光期間，間隔區(qū)域610內(nèi)的氣體的平均溫度 可以變化并影響間隔區(qū)域610內(nèi)的氣體的壓力、體積或者它們的任意 組合。這樣，平均溫度的變化可以在間隔區(qū)域邊界上產(chǎn)生相對(duì)于周圍 環(huán)境的壓力差。該壓力差可以作為使氣流通過拋光墊20的透氣部分 的驅(qū)動(dòng)力。在一個(gè)實(shí)施方式中，氣流可以通過墊窗口 26。在具體實(shí)施 方式中，當(dāng)流體612被施加于拋光塾20的拋光表面614時(shí)，間隔區(qū) 域610可以保持基本上干燥。如果壓力差不緩和，這種壓力差會(huì)導(dǎo)致 與間隔區(qū)域相鄰的拋光墊20的一部分變形。在一個(gè)實(shí)施方式中，塾 窗口可以彎曲，這種彎曲會(huì)改變影響輻射的特性或者拋光墊20的其 他物理特性。在一個(gè)實(shí)施方式中，輻射源616可以被設(shè)置為使得輻射光束可以 通過拋光墊20的墊窗口 26。輻射光束可以包括可見光、相干輻射、 紅外輻射、紫外輻射、X射線、無線電波、聲波，次聲波、極超聲振 動(dòng)或者它們的任意組合。輻射光束可以與工件64接觸，然后由檢測(cè) 器618檢測(cè)。在所示實(shí)施方式中，工件64的表面可以反射輻射光束， 使得每個(gè)輻射源616和檢測(cè)器618可以位于臺(tái)板窗口 66的相同一側(cè)。 在另一個(gè)實(shí)施方式中，檢測(cè)器618的放置位置可以不同。例如，檢測(cè) 器618可以與最初的光束線共線，使得輻射光束可以在檢測(cè)之前通過 工件64。在又一個(gè)實(shí)施方式中，可以對(duì)檢測(cè)到的波長或光譜進(jìn)行分析 并用作工藝的終點(diǎn)準(zhǔn)據(jù)。在更具體的實(shí)施方式中，除了對(duì)檢測(cè)到的波 長或光譜的分析之外，其他的準(zhǔn)據(jù)，諸如時(shí)間、來自拋光裝置60的
另一個(gè)輸出信號(hào)(例如來自拋光裝置上的另一個(gè)傳感器)、來自相關(guān) 聯(lián)的設(shè)備(例如化學(xué)藥劑發(fā)送系統(tǒng)或者測(cè)量工具)的信號(hào)、或者它們 的任意組合也可使用作為工藝的終點(diǎn)準(zhǔn)據(jù)。在具體實(shí)施方式
中，流體612可以對(duì)來自輻射源616的預(yù)定波長 或者光i脊的輻射光束基本上不透明，使得約lmm厚的層即能夠?qū)⑤?射光束的強(qiáng)度降低到檢測(cè)器618的檢測(cè)極限之下。在更具體的實(shí)施方 式中，在拋光表面216和工件64之間匯聚流體612能夠基本上阻止 來自輻射源616的輻射到達(dá)檢測(cè)器618。此處所述的實(shí)施方式能夠更好地控制拋光工藝，尤其是用于終點(diǎn) 檢測(cè)。包含透氣材料的拋光墊可以改善拋光工藝。拋光墊與臺(tái)板之間 的間隔區(qū)域中的氣體的平均溫度的變化可以使得氣流通過拋光墊，而 不是使拋光墊顯著變形。拋光墊可以包括含有透氣材料或者成分的墊 窗口。與現(xiàn)有的拋光墊相比，這種墊窗口在拋光工藝期間變形小。與 終點(diǎn)檢測(cè)、墊窗口從拋光墊的剩余部分分離、墊窗口的過度損耗、墊 窗口的破裂或者它們的任意組合有關(guān)的問題可以實(shí)質(zhì)上被降低或者 消除。變形較小的拋光表面在拋光工藝期間對(duì)工件或者拋光裝置造成 損害也可以較小。這樣，拋光裝置和相關(guān)的拋光工藝所具有的問題也 更少。本發(fā)明可以有許多不同的方面和實(shí)施方式。下面說明其中的某些 方面和實(shí)施方式。在閱讀本說明書之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員會(huì)理解，這 些方面和實(shí)施方式僅為說明之目的，并不對(duì)本發(fā)明的范圍造成限制。第一方面，拋光墊可以包括第一層。第一層可以包括第一拋光表 面、與第一拋光表面相對(duì)的第一對(duì)置表面、以及延伸穿過第一層的第 一開口。拋光墊還可以包括第二層。第二層可以包括附著表面。第二 層還可以包括與附著表面相對(duì)的第二對(duì)置表面，該第二對(duì)置表面離第 一層的第 一對(duì)置表面比離第 一層的第 一拋光表面更近。第二層還可以 包括延伸穿過第二層的第二開口，第二開口基本上與第一層的第一開 口相連續(xù)。拋光墊還可以包括位于第一開口中的墊窗口。墊窗口可以 包括與第一拋光表面基本上連續(xù)的第二拋光表面。墊窗口還可以包括 與第二拋光表面相對(duì)的第三對(duì)置表面，其中第三對(duì)置表面位于第一層 的第一拋光表面和第二層的附著表面之間的區(qū)域。墊窗口還可以包括 透氣材料。在第一方面的一個(gè)實(shí)施方式中，墊窗口可以具有能夠允許預(yù)定波 長或者光譜的輻射光透射的成分。在另一個(gè)實(shí)施方式中，第一層和墊 窗口的每個(gè)可以包含聚氨酯材料、聚乙烯、聚四氟乙烯、聚丙烯、或者它們的任意組合。在又一個(gè)實(shí)施方式中，第一層的第一對(duì)置表面與 第二層的第二對(duì)置表面相鄰接。在第一方面的另一個(gè)實(shí)施方式中，第一開口的第一周長不同于第二開口的第二周長。在又一個(gè)實(shí)施方式中，第一層的第一拋光表面和 墊窗口的第二拋光表面基本上沿拋光平面放置。從墊窗口的第三對(duì)置表面到拋光平面的第一標(biāo)高小于從附著表面至拋光平面的第二標(biāo)高。 在又一個(gè)實(shí)施方式中，第一標(biāo)高小于從第一層的第一對(duì)置表面至拋光 平面的第三標(biāo)高。第二方面，拋光裝置可以包括具有第一附著表面的臺(tái)板。拋光裝 置還可以包括具有位于臺(tái)板上方并與臺(tái)板間隔開的第一層的拋光墊。 第一層可以包括第一拋光表面、與第一拋光表面相對(duì)的第一對(duì)置表 面、以及延伸穿過第一層的第一開口。拋光墊還可以包括位于第一層 與臺(tái)板之間的第二層。第二層可以包括與臺(tái)板的第一附著表面相鄰接 的第二附著表面。第二層還可以包括與笫二附著表面相對(duì)的第二對(duì)置 表面，該第二對(duì)置表面離第一層的第一對(duì)置表面比離第一層的第一拋 光表面更近。第二層還可以包括延伸穿過第二層的第二開口，第二開 口與第一層的第一開口基本上連續(xù)。拋光墊還可以包括位于第一層的 第一開口中的墊窗口。墊窗口可以包括與第一層的第一拋光表面基本上連續(xù)的第二拋光表面。墊窗口還可以包括與第二拋光表面相對(duì)的第三對(duì)置表面。墊窗口可以包含透氣材料。在第二方面的一個(gè)實(shí)施方式中，臺(tái)板還可以包括臺(tái)板窗口，墊窗 口可以位于臺(tái)板窗口上方。該裝置還可以包括輻射源，該輻射源被設(shè) 置為引導(dǎo)預(yù)定波長或者光譜的輻射光穿過墊窗口的第二拋光表面。在 另一個(gè)實(shí)施方式中，每個(gè)臺(tái)板窗口和墊窗口能夠容許預(yù)定波長或者光 譜的輻射光透射。在又一個(gè)實(shí)施方式中，在墊窗口的第三對(duì)置表面與 臺(tái)板之間具有間隔區(qū)域。在第二方面的具體實(shí)施方式
中，間隔區(qū)域中的氣體可以包括空 氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕?、二氧化碳、或者它們的任意組合。在又一個(gè) 實(shí)施方式中，第一層的第一對(duì)置表面可以與第二層的第二對(duì)置表面緊 鄰。在又一個(gè)實(shí)施方式中，第一層的第一拋光表面與墊窗口的第二拋 光表面可以位于同一平面。在更為具體的實(shí)施方式中，第三對(duì)置表面 離該同一平面可以比離沿第二層的第二附著表面的平面更遠(yuǎn)。在又一 個(gè)實(shí)施方式中，墊窗口的成分可以包括聚氨酯、聚乙烯、聚四氟乙烯 樹脂、聚丙烯、或者它們的任意組合。第三方面，拋光工藝可以包括在拋光墊與臺(tái)板之間形成間隔區(qū) 域。間隔區(qū)域可以包含氣體，該氣體可以具有第一平均溫度。該工藝 還可以對(duì)工件進(jìn)行拋光，其中在拋光期間的某個(gè)時(shí)刻，間隔區(qū)域位于 臺(tái)板與工件之間。該工藝還可以包括在開始對(duì)工件進(jìn)行拋光后，將間 隔區(qū)域中的氣體的溫度從第一平均溫度改變成第二平均溫度。該工藝 還可以包括在開始對(duì)工件進(jìn)行拋光后形成跨過拋光墊的氣流。在第三方面的一個(gè)實(shí)施方式中，該工藝還可以包括對(duì)拋光墊的拋 光表面施加流體。拋光表面可以位于間隔區(qū)域上方，且間隔區(qū)域可以 保持基本上干燥。在另一個(gè)實(shí)施方式中，臺(tái)板還可以包括臺(tái)板窗口， 拋光墊還可以包括墊窗口。此外，間隔區(qū)域可以位于臺(tái)板窗口和墊窗 口之間。在更具體的實(shí)施方式中，工藝還可以包括將輻射光束引導(dǎo)至 工件，使得輻射光束穿過拋光墊的拋光表面。該工藝還可以包括根據(jù)輻射光束檢測(cè)輻射光的預(yù)定波長或者光i普。該工藝還可以包括在檢測(cè) 到輻射光的預(yù)定波長或者光i昝之后分析輻射光束。該工藝還包括是否 到達(dá)了終點(diǎn)。注意，并非以上一般說明或示例中所述的所有活動(dòng)都是必須的， 個(gè)別活動(dòng)的一部分是不必要的，而除了所述活動(dòng)之外還可進(jìn)行一個(gè)或 者更多的其他活動(dòng)。此外，所列出的活動(dòng)的次序并不一定是這些活動(dòng)
要被執(zhí)行的順序。在閱讀本說明書之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠確定使 用或者不使用哪個(gè)或哪些活動(dòng)或者哪個(gè)或哪些部分，而這些活動(dòng)的順 序應(yīng)按照其具體需要或要求來進(jìn)行。以上關(guān)于一個(gè)或更多的具體實(shí)施方式
，對(duì)其好處、優(yōu)點(diǎn)、對(duì)一個(gè) 或更多問題的解決方法、或者它們的任意組合進(jìn)行了說明。但是，這 些好處、優(yōu)點(diǎn)、問題的解決方法或者會(huì)使任何好處、優(yōu)點(diǎn)或者問題的 解決方案產(chǎn)生或變得更為顯著的任何要素，并不解釋為任何或者所有 權(quán)利要求的關(guān)鍵的、必需的、或者必要特征或者要素。以上公開之內(nèi)容為解釋性的而非限定性的，所附的權(quán)利要求將覆 蓋所有這樣的修正、改善以及其他落入本發(fā)明范圍的實(shí)施方式。這樣， 在法律所允許的最大限度上，本發(fā)明的范圍確定為對(duì)所附的權(quán)利要求 及其等價(jià)物所允許的最寬解釋，而不受上述詳細(xì)說明的限定。
權(quán)利要求
1、一種拋光墊，包括第一層，包括第一拋光表面；與第一拋光表面相對(duì)的第一對(duì)置表面；和延伸穿過第一層的第一開口；第二層，包括附著表面；與附著表面相對(duì)的第二對(duì)置表面，該第二對(duì)置表面離第一層的第一對(duì)置表面比離第一層的第一拋光表面更近；延伸穿過第二層的第二開口，該第二開口與第一層的第一開口基本上連續(xù)；以及位于第一開口中的墊窗口，包括與第一拋光表面基本上連續(xù)的第二拋光表面；以及與第二拋光表面相對(duì)的第三對(duì)置表面，其中第三對(duì)置表面位于第一層的第一拋光表面與第二層的附著表面之間的區(qū)域，墊窗口包含透氣材料。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l的拋光墊，其中，墊窗口包含能夠容許預(yù)定波長或者光譜的輻射光透射的成分。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l的拋光墊，其中，第一層和墊窗口的每個(gè)包含聚氨酯、聚乙烯、聚四氟乙烯、聚丙 烯、或者它們的任意組合。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l的拋光墊，其中， 第一層的第一對(duì)置表面與第二層的第二對(duì)置表面相鄰接。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l的拋光墊，其中，第一開口的第一周長具有與第二開口的第二周長不同的長度。
6、 根據(jù)權(quán)利要求l的拋光墊，其中，第一層的第一拋光表面和墊窗口的第二拋光表面基本上沿拋光 平面放置；從墊窗口的第三對(duì)置表面到拋光平面的第一標(biāo)高小于從附著表 面至拋光平面的第二標(biāo)高。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6的拋光墊，其中，第一標(biāo)高小于從第一層的第一對(duì)置表面到拋光平面的第三標(biāo)高。
8、 一種拋光裝置，包括 具有第一附著表面的臺(tái)板；和 拋光墊，包括位于臺(tái)板上方并與臺(tái)板間隔開的第一層，其中第一層包括 第一拋光表面；與第一拋光表面相對(duì)的第一對(duì)置表面；和延伸穿過第一層的第一開口； 位于第一層和臺(tái)板之間的第二層，其中第二層包括與臺(tái)板的第一附著表面相鄰接的第二附著表面；與第二附著表面相對(duì)的第二對(duì)置表面，該第二對(duì)置表 面離第一層的第一對(duì)置表面比離第一層的第一拋光表面更近5和延伸穿過第二層的第二開口，該第二開口與第一層的第一開口基本上連續(xù)；和位于第一層的第一開口中的墊窗口，包括與第一層的第一拋光表面基本上連續(xù)的第二拋光表 面5 和與第二拋光表面相對(duì)的第三對(duì)置表面， 墊窗口包含透氣材料。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8的拋光裝置，其中， 臺(tái)板還包括臺(tái)板窗口； 墊窗口位于臺(tái)板窗口上方；所述拋光裝置還包括輻射源，該輻射源被配置為引導(dǎo)預(yù)定波長或 者光譜的輻射光穿過墊窗口的第二拋光表面。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9的拋光裝置，其中，臺(tái)板窗口和墊窗口的每個(gè)能夠容許預(yù)定波長或者光鐠的輻射光透射。
11. 根據(jù)權(quán)利要求8的拋光裝置，其中，在墊窗口的第三對(duì)置表面與臺(tái)板之間具有間隔區(qū)域。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11的拋光裝置，其中，間隔區(qū)域包含空氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕?、二氧化碳、或者它們?任意組合。
13. 根據(jù)權(quán)利要求8的拋光裝置，其中，第 一層的第 一對(duì)置表面與第二層的第二對(duì)置表面緊鄰。
14. 根據(jù)權(quán)利要求8的拋光裝置，其中，第一層的第一拋光表面與墊窗口的第二拋光表面位于同一平面。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14的拋光裝置，其中，第三對(duì)置表面離上述同一平面比離沿第二層的第二附著表面的 平面更遠(yuǎn)。
16. 根據(jù)權(quán)利要求8的拋光裝置，其中，墊窗口的成分包括聚氨酯、聚乙烯、聚四氟乙烯、聚丙烯、或者 它們的任意組合。
17. —種拋光工藝，包括以下步驟在拋光墊和臺(tái)板之間形成間隔區(qū)域，其中間隔區(qū)域包含氣體，所 述氣體具有第一平均溫度；對(duì)工件進(jìn)行拋光，其中在拋光期間的某個(gè)時(shí)刻，間隔區(qū)域位于臺(tái) 板和工件之間；在開始對(duì)工件進(jìn)行拋光后，將間隔區(qū)域內(nèi)的氣體的溫度從第 一平 均溫度改變成第二平均溫度；在開始對(duì)工件進(jìn)行拋光后，形成跨拋光墊的氣流。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17的工藝，還包括以下步驟 對(duì)拋光墊的拋光表面施加流體，其中拋光表面位于間隔區(qū)域上方，間隔區(qū)域保持為基本上干燥。
19. 根據(jù)權(quán)利要求17的工藝，其中， 臺(tái)板還包括臺(tái)板窗口；以及 拋光墊還包括墊窗口 ，間隔區(qū)域位于臺(tái)板窗口和墊窗口之間。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19的工藝，還包括以下步驟 將輻射光束引導(dǎo)至工件，使得輻射光束穿過拋光墊的拋光表面; 根據(jù)輻射光束檢測(cè)輻射光的預(yù)定波長或者光譜； 在檢測(cè)到輻射光的預(yù)定波長或者光鐠之后分析輻射光束； 確定是否到達(dá)了終點(diǎn)。
全文摘要
一種拋光墊(40)，可以包括第一層(22)和第二層(24)。第一層可以具有第一拋光表面(212)和第一開口(410)。第二層可以具有附著表面(214)和與第一開口(410)基本上連續(xù)的第二開口。拋光墊(40)還可以包括位于第一開口中的墊窗口(46)。墊窗口(46)可以包括第二拋光表面(416)和透氣材料。一方面，裝置可以包括與拋光墊的附著表面相鄰接的、臺(tái)板(62)的附著表面(214)。另一方面，拋光工藝可以包括改變形成于拋光墊(20)和臺(tái)板(62)之間的間隔區(qū)域(610)內(nèi)的氣體的溫度。該工藝還包括在拋光開始后形成跨拋光墊的氣流。
文檔編號(hào)B24B1/00GK101400479SQ200780008662
公開日2009年4月1日 申請(qǐng)日期2007年2月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月27日
發(fā)明者A·P·帕瑪塔特, B·E·伯特瑪, S·F·阿布拉哈姆 申請(qǐng)人:飛思卡爾半導(dǎo)體公司