專利名稱：機(jī)械加工無機(jī)非金屬工件的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
0001本發(fā)明一般涉及機(jī)械加工工件的方法，以及在機(jī)械加工作業(yè)過
程中使用的流體。
背景技術(shù)：
0002機(jī)械加工作業(yè)——廣泛地包括磨削、研磨和拋光操作，遍及各 種工廠被廣泛地使用，以便得到所需的表面光潔度和使部件成形。機(jī)械 加工作業(yè)被廣泛地用在非金屬無機(jī)構(gòu)件例如玻璃、玻璃-陶瓷和陶瓷構(gòu)件 的情況中，所述玻璃、玻璃-陶瓷和陶瓷構(gòu)件在很多種最終用途中被應(yīng)用。 例如，玻璃和玻璃-陶瓷構(gòu)件在商業(yè)和住宅應(yīng)用中被廣泛用作建筑材料。 而且，玻璃材料被廣泛地用于電子封裝、光學(xué)應(yīng)用和太陽能應(yīng)用中，以 及在照明和建筑應(yīng)用中作為高級材料使用，而且日益增加地被用作平板
0003玻璃、玻璃-陶瓷和陶瓷的苛求應(yīng)用所寄予的各種設(shè)計(jì)要求進(jìn)一 步強(qiáng)調(diào)了對精密機(jī)械加工作業(yè)的需求，由于不希望的刮痕、蝕損斑、擦 傷或其它表面缺陷機(jī)理，所述精密機(jī)械加工作業(yè)理想地以高材料移除速 率以及受控的或最小化的表面缺陷為特征。
0004具體地，在平面工件制備的情況下，研磨和拋光操作被廣泛地 使用，其引入對固定磨料的應(yīng)用，其中該磨料粒被固定在適當(dāng)?shù)奈恢谩?這里，固定磨料通常被限定為兩種類型磨料構(gòu)件——粘結(jié)磨料構(gòu)件或砂 帶(coated abrasive)構(gòu)件之一。砂帶通常具有與磨料粒粘結(jié)的柔性背襯， 而粘結(jié)磨料通常由磨料粒組成，所述磨料粒例如通過形成粒間粘結(jié)相的 基質(zhì)被粘結(jié)在一起。這樣的固定磨料應(yīng)該與自由磨料或磨料槳形成對照， 在磨料槳中磨料粒一般是松散的，通常是流體懸浮液，例如水懸浮液。 固定磨料在機(jī)械加工作業(yè)過程中提供多種優(yōu)點(diǎn)，包括潛在提高的平面度 和改進(jìn)的過程控制。但是在本領(lǐng)域中，特別是在玻璃、玻璃-陶瓷和陶瓷構(gòu)件的情況中對使用固定磨料構(gòu)件的改進(jìn)的機(jī)械加工作業(yè)持續(xù)存在需 要。

發(fā)明內(nèi)容
0005根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供機(jī)械加工工件的方法，其中流體 被應(yīng)用在固定磨料構(gòu)件和工件之間，并且該固定磨料構(gòu)件和工件相對于 彼此而移動(dòng)，以便從工件上去除材料。根據(jù)具體的特征，該工件主要由 玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷成分形成，并且該流體包括防阻塞劑。該防阻塞 劑由含磷有機(jī)化學(xué)物質(zhì)組成。
0006根據(jù)另一個(gè)實(shí)施方式，提供機(jī)械加工玻璃工件的方法，其中流 體被提供在固定磨料構(gòu)件和玻璃工件之間，并且該固定磨料構(gòu)件和玻璃 工件相對于彼此被平移，以便從該工件上去除材料。防阻塞劑可以由具 有膦酸酯官能團(tuán)的有機(jī)化學(xué)物質(zhì)組成。
0007根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)方面，提供機(jī)械加工玻璃工件的方法，其 中非磨料研磨流體被提供在固定磨料構(gòu)件和玻璃工件之間，并且該固定 磨料構(gòu)件和玻璃工件相對于彼此被移動(dòng)。該研磨流體通常包含防阻塞劑 和潤滑成分，該防阻塞劑包含具有膦酸酯官能團(tuán)的有機(jī)化學(xué)物質(zhì)以及潤 滑成分，所述潤滑成分選自非離子官能化學(xué)物質(zhì)、陰離子官能化學(xué)物質(zhì)、 陽離子官能化學(xué)物質(zhì)和兩性官能化學(xué)物質(zhì)。
具體實(shí)施例方式
0008根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供機(jī)械加工工件的方法，其始于在 固定磨料構(gòu)件和工件之間應(yīng)用流體。通常，固定磨料構(gòu)件如上所述被定 義，也就是說，其中磨料粒被固定在適當(dāng)位置的構(gòu)件通常相對于彼此被 固定在適當(dāng)?shù)奈恢?粘結(jié)磨料)，或相對于彼此和相對于背襯部件被固 定在適當(dāng)?shù)奈恢?砂帶)。固定磨料的實(shí)際構(gòu)造可以依據(jù)應(yīng)用而廣泛地 變化。例如，砂帶可以利用紙、布、縫編布、非制造和織造材料、纖維 或薄膜背襯，以及砂帶可以采用幾種不同的幾何形狀，包括帶、圓盤、 薄片、夾層式套管(interlined sleeve)、巻、百葉輪(flap disc)、翼片 砂輪和其它幾何構(gòu)造。另一個(gè)方面，粘結(jié)磨料典型的形式是固體的整體結(jié)構(gòu)，例如形式為砂輪、筒形砂輪、杯形砂輪、蝶形砂輪、扇形體、圓 錐輪、懸掛式砂輪和點(diǎn)狀物、磚形物和棍狀物。該粘結(jié)磨料構(gòu)件的粘結(jié) 基質(zhì)可以是玻璃相的形式，例如陶瓷結(jié)合劑，或可替代地，可以是樹脂 結(jié)合劑的形式，或其組合的形式。
0009而且，在砂輪的具體情況下，該固定磨料可以是工程磨料的形
式，其通常具有凸起表面特征圖案，例如以金字塔、隆起、背脊或其它 表面特征的形式。
轉(zhuǎn)到該工件，通常本發(fā)明的方面限于非金屬的無機(jī)材料.，例如玻璃、玻 璃-陶瓷或陶瓷成分。在上述這些材料中，依據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式， 具有明顯玻璃相的那些成分諸如玻璃和玻璃-陶瓷復(fù)合材料被機(jī)械加工， 并且確實(shí)，該工件通?；旧峡捎刹ＡЫM成，也就是說，其不含有實(shí)質(zhì) 影響其機(jī)械加工性的其它非無定形種類。關(guān)于玻璃工件，該玻璃可以是 二氧化硅基的，具有二氧化硅微結(jié)構(gòu)構(gòu)架。二氧化硅基玻璃的具體種類
包括含顯著含量的B203以及任選地含其它氧化物諸如Na20/K20和Al203 的硼硅酸鹽玻璃。其它種類包括堿石灰玻璃，其含有顯著含量的Na20、 CaO、 MgO和Al203。
0010該工件的實(shí)際幾何構(gòu)造可以變化，例如處于凸起或凹入輪廓的
形式，包括管道、光學(xué)纖維和其它構(gòu)造。通常，該工件的至少一個(gè)主表 面是平面的，并且該表面可以經(jīng)歷如本文所描述的機(jī)械加工作業(yè)。工件 可以是顯微光刻部件的形式，例如堿石灰玻璃或I-線玻璃、熔融石英和
氟化鈣、晶片切割基板(wafer blank substrates)、激光窗和其它形式。 該工件還可以是平面玻璃的形式，例如在商業(yè)和住宅建設(shè)工業(yè)中使用， 以及可以廣泛地包括玻璃-陶瓷成分。其它常用的工件包括用于光學(xué)設(shè)備 的玻璃成分，例如，范圍涉及干擾濾波器到平行平面工件和儀表玻璃。
0011固定磨料粒的組成可以改變，其包括氧化鋁、氧化鋯、氧化鈰、 二氧化硅、碳化硅、碳化硼、石榴石、立方氮化硼、金剛石和被使用的 任何其它常用磨料，以及其它物質(zhì)。本發(fā)明的實(shí)施方式使用特別具有侵 蝕性的磨料，并在這些情況中展示其高效性，例如利用金剛石磨料、碳 化物磨料如碳化硼(包括立方碳化硼)和碳化硅以及石榴石的情況。
0012而且，固定磨粒的中值粒度可以是小的，例如在大約0.01微米到大約1.5微米的范圍內(nèi)，典型地，在稍微更窄的范圍內(nèi)，例如在大約0.1到 1.0微米例如0.10到0.50微米的范圍內(nèi)。在l微米以下的中值粒度規(guī)格通常 表示拋光過程，在該過程中通過以低材料去除速率進(jìn)行加工操作而提供 高級表面光潔度。但是，根據(jù)其它實(shí)施方式，固定磨料的中值粒度可以 更高，高于1微米，例如在2到50微米或2到10微米的級別。在這種情況下， 典型地，該機(jī)械加工操作以研磨操作為特征。
0013根據(jù)各種實(shí)施方式，機(jī)械加工工件的方法繼續(xù)在該固定磨料構(gòu) 件和該工件之間應(yīng)用流體，隨后固定磨料構(gòu)件和工件相對于彼此移動(dòng)， 以從工件上去除材料。在這個(gè)方面，固定磨料可以保持固定而工件移動(dòng)， 工件可以保持固定而固定磨料構(gòu)件移動(dòng)，或可替代地，固定磨料構(gòu)件和 工件兩者都被移動(dòng)。移動(dòng)可以沿著不同的路徑例如線性移動(dòng)來進(jìn)行，如 在固定的工件上移動(dòng)閉環(huán)砂布帶的情況，移動(dòng)可以是旋轉(zhuǎn)的，如旋轉(zhuǎn)砂 輪片或砂輪的情況，或者移動(dòng)可以是旋轉(zhuǎn)和軌道的結(jié)合，如旋轉(zhuǎn)固定磨 料構(gòu)件的情況，其中工件或固定磨料構(gòu)件圍繞著中心軸繞軌道移動(dòng)。
0014根據(jù)具體的特征，該流體含有防阻塞劑，該防阻塞劑通常包含 含磷有機(jī)化學(xué)物質(zhì)。含磷有機(jī)化學(xué)物質(zhì)可以具有選自膦酸酯、磷酸酯、 磷酰胺、膦酰胺(phosphonamide)、硫代磷酸酯、硫代膦酸酯、和亞磷 酸酯的官能團(tuán)。根據(jù)具體的實(shí)施方式，該官能團(tuán)是膦酸酯。例如，膦酸 酯可以選自甘氨酸-N,N-二(GDMP)、氨基三(ATMP)、 N-2羥乙基-二 (HEMPA)、乙二胺四(EDTMPA)、亞己基二胺四、二亞乙基三胺五、膦酰 甲酸鹽、羥基膦酰乙酸(HPA)、 2-膦?；≯?l，2，4-三羧酸(PBTC)、 1-羥 基次乙基-l,l'-二膦酸(HEDP)及其鹽。根據(jù)本文所描述的具體加工實(shí)施方 式，該防阻塞劑至少包括HEDP。
0015根據(jù)另一種特征，該流體還可以包括潤滑成分，該潤滑成分選 自1)非離子官能化學(xué)物質(zhì)，包括醇、硫醇、酉旨、酰胺、胺、氧化胺、 或酰亞胺及其衍生物，2)陰離子官能化學(xué)物質(zhì)，包括磷酸鹽、膦酸鹽、 硫酸鹽、磺酸鹽或羧酸鹽及其衍生物，3)陽離子官能化學(xué)物質(zhì)，例如季 胺或胺鹽和其衍生物，和4)兩性官能化學(xué)物質(zhì)，包括丙酸鹽、甜菜堿、 甘氨酸或磺基甜菜堿和其衍生物。
0016典型地，該潤滑成分選自非離子和陰離子官能化學(xué)物質(zhì)，以及在非離子化學(xué)物質(zhì)的情況中，可以選自醇、硫醇、酯、酰亞胺、酰胺、 酰亞胺和其衍生物。
0017該流體優(yōu)選地使用水作為載體溶劑，但是其它適合的溶劑，例 如乙二醇、醇和碳酸鹽可以被使用。在溶劑使用方面主要的考慮因素是 該溶劑溶解防阻塞劑和潤滑成分的能力。在將來自固定磨料構(gòu)件的碎片 溶劑化和輸送的過程中，該溶劑也對防阻塞劑起協(xié)助作用。該防阻塞劑
的具體濃度在0.001。/ow/w與10"/ow/w之間，例如0.1。/。w/w與1.0yow/w之間
(W/W:防阻塞劑的重量/流體的重量)。相似地，該潤滑成分典型地在
0.01 %w/w與49%w/w之間的濃度使用。該溶劑濃度被認(rèn)為是達(dá)到 100。/c)w/w濃度的余量。在一些實(shí)施方式中，當(dāng)使用乙二醇作為達(dá)到 100c/。w/w濃度的余量時(shí)，溶劑和潤滑成分被認(rèn)為是相同的?？捎玫膒H值 ——?dú)潆x子濃度的負(fù)對數(shù)，在1.0到14.0的范圍內(nèi)，對于一些流體而言， 具體的pH范圍在7.0到13.0之間。在流體pH超過溶解在水中的防阻塞劑pH 的情況下，使用堿以得到希望的pH。對于本發(fā)明的巨的，堿被考慮路易 斯堿或能夠提供電子密度的任何化學(xué)物質(zhì)。適合堿的實(shí)施例包括氫氧化 鈉、氨或乙醇胺，但是許多其它堿是可接受的。優(yōu)選的堿是氫氧化鉀。
0018實(shí)施例
組合物A
0.175% l-羥基次乙基-U'-二膦酸(HEDP)
0.125%氫氧化鉀(KOH)
99.700%水
pH=7.0
組合物B
0.175% l-羥基次乙基-l,l'-二膦酸(HEDP)
0.185%氫氧化鉀(KOH)
0.100% Ucon 50-HB-660
99.540%水
pH=11.0組合物C
0.175% l-羥基次乙基-U'-二膦酸(HEDP)
0.185%氫氧化鉀(KOH)
0.200o/QTomahAO-405
99.440%水
pH=11.0
組合物D
0.175% l-羥基次乙基-U'-二膦酸(HEDP)
0.125%氫氧化鉀(KOH)
0.220% Acusol 445
99.480%水
pH=7.0
0019測試設(shè)備是用固定磨料墊裝備的生產(chǎn)大小的雙面研磨機(jī) (Speedfam 16B)。僅僅使用水和冷卻液作為載體流體進(jìn)行比較研磨試 驗(yàn)，而對應(yīng)于如上所述的本發(fā)明實(shí)施方式的實(shí)施例結(jié)合上面所提到的實(shí) 施例引入含磷有機(jī)化學(xué)物質(zhì)，特別是HEDP。加工針對的是各種類型的光 學(xué)玻璃并且目的是在拋光步驟之前快速去除材料。
0020在比較研磨試驗(yàn)中，在一個(gè)或兩個(gè)生產(chǎn)周期之后，磨料墊將加 載來自研磨的碎片，并且將發(fā)生兩件事情1)平面度將下降；2)材料 去除將明顯地下降，因?yàn)樵撃チ媳槐┞兜眠^少。相反，HEDP添加劑改進(jìn) 材料去除性能并保持高達(dá)一周的研磨。此外，發(fā)現(xiàn)在潤滑劑被省去的情 況下，HEDP加入僅僅與水有效。
0021根據(jù)本文的實(shí)施方式，申請人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，在如上所述的工件的 具體固定磨料加工應(yīng)用的情況中，使用摻入防阻塞劑的機(jī)械加工流體對 機(jī)械加工性能具有顯著的影響。例如，在機(jī)械加工工業(yè)中通常熟知的是， 在機(jī)械加工操作情況中，使用固定磨料，任選地使用流體添加劑，以幫 助材料的去除和金屬屑的去除。此外，通常應(yīng)當(dāng)理解，在一些機(jī)械加工 操作中，期望使用與進(jìn)行機(jī)械加工的工件具有化學(xué)相互作用的化學(xué)品種， 以幫助材料去除以及任選地幫助工件平面化，如使用松散磨料的CMP操作的情況。相反，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在固定磨料機(jī)械加 工操作中，使用如上所述的特定防阻塞劑對防止固定磨料阻塞具有顯著 的影響。
0022在機(jī)械加工硼硅酸鹽玻璃的具體情況下，在研磨操作中已經(jīng)使 用固定金剛石墊，例如3MTrizact墊。但是，在機(jī)械加工期間，這樣的墊 時(shí)常被從工件(基底)上移除的材料完全裝載或阻塞，有時(shí)僅在兩個(gè)至 三個(gè)周期內(nèi)就發(fā)生。這類阻塞具有顯著的負(fù)面影響，諸如不利地影響工 件的平面度。為了解決阻塞和裝載問題，墊可以用陶瓷成分覆蓋，例如 氧化鋁覆蓋墊，以去除阻塞物質(zhì)。但是，由于在覆蓋應(yīng)用的情況下它們 主要被消耗的事實(shí)，這樣的覆蓋墊通常迅速磨損并且購買昂貴。即使當(dāng) 與本領(lǐng)域潤滑流體——諸如上面所描述的那些，包括例如Saberlnbe 9016
——情況結(jié)合使用時(shí)，申請人已經(jīng)注意到這種墊的大量阻塞。0023在硼硅酸鹽玻璃加工操作的情況中，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)摻入防阻塞劑大 大地改進(jìn)了在清理操作之間的機(jī)械加工時(shí)間。確實(shí)，發(fā)現(xiàn)機(jī)械加工可以 被操作整周而無需清理，其代表比每天具有相同數(shù)量周期的本領(lǐng)域狀況 具有90%的改進(jìn)。
0024盡管官能化學(xué)物質(zhì)如膦酸酯官能化學(xué)物質(zhì)已經(jīng)被用在使用自由 磨料漿以幫助材料去除的機(jī)械加工操作情況中，本發(fā)明的方面在固定磨 料機(jī)械加工的情況下利用防阻塞現(xiàn)象。與固定磨料機(jī)械加工的這類組合 顯著地提高了無機(jī)非金屬工件例如玻璃、玻璃-陶瓷和陶瓷的可加工性。
0025盡管本發(fā)明的實(shí)施方式已經(jīng)以膦酸酯基防阻塞劑及摻入其的組 合物予以示例說明和描述，但是本發(fā)明并不意欲限于所顯示的細(xì)節(jié)，因 為可以做出各種修改和替代，而不以任何方式脫離本發(fā)明的范圍。例如， 可以提供附加的或等價(jià)的替代物以及可以應(yīng)用附加的或等價(jià)的生產(chǎn)步 驟。照此而言，本領(lǐng)域技術(shù)人員僅利用常規(guī)試驗(yàn)就可以想到本文所公開 的發(fā)明的進(jìn)一步的修改和相等物，并且所有這樣的修改和等價(jià)物被認(rèn)為 是在由所附權(quán)利要求所限定的本發(fā)明范圍中。
權(quán)利要求
1.機(jī)械加工工件的方法在固定磨料構(gòu)件和工件之間應(yīng)用流體，所述工件主要由玻璃、玻璃-陶瓷、或陶瓷成分形成，所述流體含有防阻塞劑，所述防阻塞劑包括含磷的有機(jī)化學(xué)物質(zhì)；以及使所述固定磨料構(gòu)件和所述工件相對于彼此移動(dòng)，以便從所述工件上去除材料。
2. 如權(quán)利要求l所述的方法，其中所述含磷的有機(jī)化學(xué)物質(zhì)具有選自 膦酸酯、磷酸酯、磷酰胺、膦酰胺、硫代磷酸酯、硫代膦酸酯、和亞磷酸 酯的官能團(tuán)。
3. 如權(quán)利要求2所述的方法，其中所述官能團(tuán)包括膦酸酯。
4. 如權(quán)利要求3所述的方法，其中所述膦酸酯選自甘氨酸-N,N-二 (GDMP)、氨基三(ATMP)、 N-2羥乙基-二(HEMPA)、乙二胺四(EDTMPA)、 亞己基二胺四、二亞乙基三胺五、膦酰甲酸鹽、羥基膦酰乙酸(HPA)、 2-膦 ?；⊥?1,2,4-三羧酸(PBTC) 、 1 -羥基次乙基-1,1 '-二膦酸(HEDP)及其鹽。
5. 如權(quán)利要求4所述的方法，其中所述膦酸酯包括l-羥基次乙基-l,^-二膦酸(HEDP)及其鹽。
6. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中機(jī)械加工包括研磨。
7. 如權(quán)利要求6所述的方法，其中固定磨料包括磨料粒，所述磨料粒 具有在大約1.5微米到50微米范圍內(nèi)的中值粒度。
8. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中機(jī)^^加工包括拋光。
9. 如權(quán)利要求8所述的方法，其中固定磨料包括磨料粒，所述磨料粒具有在大約0.01微米到1.5微米范圍內(nèi)的中值粒度。
10. 如權(quán)利要求l所述的方法，其中所述流體包含潤滑成分，所述潤滑成分選自1)非離子官能化學(xué)物質(zhì)，其包括醇、硫醇、酯、酰胺、胺、 氧化胺、或酰亞胺及其衍生物，2)陰離子官能化學(xué)物質(zhì)，其包括磷酸鹽、膦酸鹽、硫酸鹽、磺酸鹽或羧酸鹽及其衍生物，3)陽離子官能化學(xué)物質(zhì)， 例如季胺或胺鹽和其衍生物，和4)兩性官能化學(xué)物質(zhì)，其包括丙酸鹽、 甜菜堿、甘氨酸或磺基甜菜堿和其衍生物。
11. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述潤滑成分選自所述的1)非離 子官能化學(xué)物質(zhì)和2)陰離子官能化學(xué)物質(zhì)。
12. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述潤滑成分包括非離子官能化學(xué) 物質(zhì)，所述非離子官能化學(xué)物質(zhì)選自醇、硫醇、酉旨、酰胺、胺、氧化胺、 或酰亞胺和其衍生物。
13. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述固定磨料構(gòu)件包括砂帶或粘結(jié) 磨料。
14. 如權(quán)利要求13所述的方法，其中所述固定磨料包括砂帶，所述砂 帶包括背襯基底，所述背襯基底具有通過粘結(jié)劑系統(tǒng)粘結(jié)到其上的磨料粒。
15. 如權(quán)利要求13所述的方法，其中所述固定磨料包括粘結(jié)磨料，所 述粘結(jié)磨料包含通過粘結(jié)劑系統(tǒng)粘結(jié)在一起的磨料粒。
16. 如權(quán)利要求13所述的方法，其中所述固定磨料包括固定磨料粒， 所述固定磨料粒選自金剛石、碳化硼、立方氮化硼、碳化硅、氮化硅、 二氧化硅、氧化鋁、氮化鋁、氧化鋯、氧化鈰、氧化鉻、氧化鐵、以及 它們的復(fù)合材料。
17. 如權(quán)利要求l所述的方法，其中所述工件主要由玻璃、陶瓷、或玻璃-陶瓷復(fù)合材料組成。
18. 如權(quán)利要求17所述的方法，其中所述工件主要由玻璃組成。
19. 如權(quán)利要求18所述的方法，其中所述工件主要由二氧化硅基玻璃組成。
20. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述工件主要包含陶瓷成分。
21. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中移動(dòng)包括將所述工件保持在固定的 位置以及相對于所述工件移動(dòng)固定磨料。
22. 如權(quán)利要求21所述的方法，其中所述固定磨料相對于所述工件旋轉(zhuǎn)。
23. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中移動(dòng)包括將固定磨料保持在固定的 位置以及移動(dòng)所述工件。
24. 機(jī)械加工玻璃工件的方法在固定磨料構(gòu)件和玻璃工件之間應(yīng)用流體，所述流體含有防阻塞劑， 所述防阻塞劑包含具有膦酸酯官能團(tuán)的有機(jī)化學(xué)物質(zhì)；以及使所述固定磨料構(gòu)件和所述玻璃工件相對于彼此移動(dòng)，以便從所述工 件上去除材料。
25. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述防阻塞劑包括1-羥基次乙基 -U'-二膦酸(HEDP)及其鹽。
26. 如權(quán)利要求24所述的方法，其中所述玻璃工件主要由二氧化硅基 玻璃組成。
27. 機(jī)械加工玻璃工件的方法在固定磨料構(gòu)件和玻璃工件之間應(yīng)用非磨料研磨流體，所述研磨流 體包含防阻塞劑和潤滑成分，所述防阻塞劑包含具有膦酸酯官能團(tuán)的有 機(jī)化學(xué)物質(zhì)，以及所述潤滑成分選自1)非離子官能化學(xué)物質(zhì)，2)陰 離子官能化物質(zhì)，3)陽離子官能化學(xué)物質(zhì)，和4)兩性官能化學(xué)物質(zhì)； 以及使所述固定磨料構(gòu)件和所述玻璃工件相對于彼此移動(dòng)，以便從所述工 件上去除材料。
全文摘要
機(jī)械加工工件的方法，包括在固定磨料構(gòu)件和工件之間應(yīng)用流體，隨后該固定磨料構(gòu)件和該工件相對于彼此移動(dòng)。該流體包含防阻塞劑，所述防阻塞劑含有含磷的有機(jī)化學(xué)物質(zhì)。
文檔編號B24B37/04GK101588894SQ200780047069
公開日2009年11月25日 申請日期2007年12月13日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月20日
發(fā)明者D·E·沃德, R·W·拉孔托 申請人:圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司