專利名稱：：高精度球雙自轉(zhuǎn)v形槽高效研磨裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本實用新型涉一種球形零件研磨裝置，特別涉及高速、高精度陶瓷球軸承中高精度陶瓷球的精密研磨/拋光加工裝置，屬于高精度球形零件加工
技術(shù)領(lǐng)域：
。
背景技術(shù)：
：高精度球是是圓度儀、陀螺、軸承和精密測量中的重要元件，并常作為精密測量的基準(zhǔn)，在精密設(shè)備和精密加工中具有十分重要的地位。特別是在球軸承中大量使用，是球軸承的關(guān)鍵零件，軸承球的精度(球形偏差、球直徑變動量和表面粗糙度)直接影響著球軸承的運動精度、噪聲及壽命等技術(shù)指標(biāo)，進(jìn)而影響設(shè)備、儀器的性能。與傳統(tǒng)的軸承鋼球材料(GCrl5)相比，氮化硅等先進(jìn)陶瓷材料具有耐磨、耐高溫、耐腐蝕、無磁性、低密度(為軸承鋼的40%左右)，熱脹系數(shù)小(為軸承鋼的25%)及彈性模量大(為軸承鋼的1.5倍)等一系列優(yōu)點，被認(rèn)為是制造噴氣引擎、精密高速機(jī)床、精密儀器中高速、高精度及特殊環(huán)境下工作軸承球的最佳材料。由于氮化硅等先進(jìn)陶瓷屬硬脆難加工材料，材料燒結(jié)后的陶瓷球毛坯主要采用磨削(粗加工)一研磨(半精加工)一拋光(精加工)的方法進(jìn)行加工。對于陶瓷球的研磨/拋光工藝而言，加工過程采用游離磨料，在機(jī)械、化學(xué)效應(yīng)的作用下，對陶瓷球坯表面材料進(jìn)行微小的去除，以達(dá)到提高尺寸精度，提高表面完整性的目的。傳統(tǒng)的陶瓷球研磨/拋光加工主要是在加工鋼質(zhì)軸承球的V形槽研磨設(shè)備上進(jìn)行的，采用硬質(zhì)、昂貴的金剛石磨料作為磨料，加工周期長(完成一批陶瓷球需要幾周時間)。漫長的加工過程以及昂貴的金剛石磨料導(dǎo)致了高昂的制造成本，限制了陶瓷球的應(yīng)用。隨著儀器設(shè)備精度的不斷提高，對陶瓷球等特殊材質(zhì)球體的加工精度提出了更高的要求，同時需要提高加工效率和一致性以降低生產(chǎn)成本。研磨/拋光裝置對陶瓷球的研磨精度和效率有著重要的影響。研磨過程中，球坯和研具的研磨方式直接決定了球坯的研磨成球運動。而在保證毛坯球本身質(zhì)量和其它加工條件(壓力、速度、磨料)的前提下，研磨跡線能否均勻覆蓋球面是高效研磨球坯，提高球度，獲得高精密球的關(guān)鍵。因此，必須對研磨/拋光裝置的運行過程及陶瓷球在研磨/拋光過程的運動狀態(tài)進(jìn)行深入分析，掌握影響精度和效率的原因，才能為陶瓷球的加工提供合理的設(shè)備和相應(yīng)的加工工藝。對于陶瓷球的研磨加工，國內(nèi)外已有一些相應(yīng)的加工裝置，如V形槽研磨加工裝置、圓溝槽研磨加工裝置、錐形盤研磨加工裝置、自轉(zhuǎn)角主動控制研磨裝置、磁懸浮研磨加工裝置等。在V形槽研磨加工裝置、圓溝槽研磨加工裝置、錐形盤研磨加工裝置等設(shè)備的加工過程中，球坯只能作"不變相對方位"研磨運動，即球坯的自旋軸對公轉(zhuǎn)軸的相對空間方位固定，球坯繞著一固定的自旋軸自轉(zhuǎn)。實踐和理論分析都表明"不變相對方位"研磨運動對球的研磨是不利的，球坯與研磨盤的接觸點在球坯表面形成的研磨跡線是一組以球坯自轉(zhuǎn)軸為軸的圓環(huán)，研磨盤沿著三接觸點的三個同軸圓跡線對球坯進(jìn)行"重復(fù)性"研磨，不利于球坯表面迅速獲得均勻研磨，在實際加工中需要依靠球坯打滑、攪動等現(xiàn)象，使球坯的自旋軸與公轉(zhuǎn)軸的相對工件方位發(fā)生緩慢變化，達(dá)到均勻研磨的目的，但這種自旋角的變化非常緩慢，是隨機(jī)、不可控的，從而限制了加工的球度和加工效率。自轉(zhuǎn)角主動控制研磨裝置具有可獨立轉(zhuǎn)動的三塊研磨盤，可以通過控制研磨盤轉(zhuǎn)速變化來調(diào)整球坯的自旋軸的方位，球坯能作"變相對方位"研磨運動，球坯表面的研磨跡線是以球坯自轉(zhuǎn)軸為軸的空間球面曲線，能夠覆蓋大部分甚至整個球坯表面，有利于球坯表面獲得均勻、高效的研磨。但裝置動力源多，結(jié)構(gòu)及控制系統(tǒng)復(fù)雜，對制造和裝配精度都有較高的要求，加工成本高。陶瓷球磁懸浮研磨加工的主要特征是采用磁流體技術(shù)實現(xiàn)對球坯的高效研磨，除了對球坯的加壓的方式不同外，其研磨運動方式同V形槽研磨加工和錐形盤研磨加工中的運動方式基本相同，因此，在其加工過程中球度同樣受到了限制。磁懸浮研磨加工裝置和控制復(fù)雜，磁流體的成本也較高。
實用新型內(nèi)容為了克服已有球形零件研磨裝置的不能同時兼顧加工成本和加工精度、加工效率的不足，本實用新型提供一種結(jié)構(gòu)簡單、加工成本低，同時具有較高的加工精度和加工效率的高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置。本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是—種高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置，包括機(jī)架、安裝在機(jī)架上的研磨盤裝置和載荷加壓裝置，所述研磨盤裝置包括上研磨盤，所述上研磨盤上端安裝載荷加壓裝置，所述的高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置還包括下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤，所述的下研磨盤外盤和下研磨盤內(nèi)盤以同軸形式布置，所述下研磨盤內(nèi)盤嵌套在所述下研磨盤外盤內(nèi)，所述下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和所述下研磨盤外盤內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，所述下研磨盤內(nèi)盤固定安裝在機(jī)架上，所述上研磨盤安裝在轉(zhuǎn)軸上，所述轉(zhuǎn)軸連接上研磨盤驅(qū)動電機(jī)，所述下研磨盤外盤安裝在主軸上，所述主軸連接下研磨盤外盤驅(qū)動電機(jī)。進(jìn)一步，所述的載荷加壓裝置為液壓-彈簧載荷加壓裝置，所述載荷加壓裝置下端浮動地安裝所述上研磨盤和測力計，載荷加壓裝置上還設(shè)有當(dāng)上研磨盤下降到位后將上研磨盤鎖緊定位的鎖緊裝置。更進(jìn)一步，所述機(jī)架包括底座、立柱和橫梁，所述底座上安裝立柱，兩個立柱之間安裝橫梁，所述液壓_彈簧載荷加壓裝置的液壓缸安裝在所述橫梁上。本實用新型的技術(shù)構(gòu)思為雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置采用三塊研磨盤構(gòu)成構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，與陶瓷球構(gòu)成三點接觸進(jìn)行研磨，上研磨盤、下研磨盤外盤作為原動件就完全可以實現(xiàn)球坯在兩個自由度方向上的旋轉(zhuǎn)運動，通過調(diào)整這兩塊研磨盤的轉(zhuǎn)速組合，實現(xiàn)球坯自轉(zhuǎn)角的變化，使研磨軌跡能均勻覆蓋整個球坯表面，快速修正球形誤差；下研磨盤內(nèi)盤固定不動；液壓_彈簧載荷加壓裝置通過上研磨盤對球坯施加載荷。該V形槽研磨裝置采用一塊上研磨盤和兩塊下研磨盤構(gòu)成研磨盤組件。上研磨盤在加工過程中由單獨的電機(jī)驅(qū)動通過齒輪傳動做旋轉(zhuǎn)運動，下端面為研磨面，液壓_彈簧載荷加壓裝置通過上研磨盤對球坯施加彈性載荷，使較大的球受到較大的載荷，從而在加工過程中始終能保證較好的磨削尺寸選擇性——磨大球，不磨或少磨小球；磨球坯的長軸，不磨或少磨短軸。下研磨盤由內(nèi)外兩個盤組成，下研磨盤外盤由單獨的電機(jī)驅(qū)動，做獨立轉(zhuǎn)動；下研磨盤內(nèi)盤與機(jī)架相連；下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和下研磨盤外盤的內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)。加工過程中，陶瓷球坯在V形槽中受到研磨盤的驅(qū)動公轉(zhuǎn)并自轉(zhuǎn)，在磨料的作用下實現(xiàn)材料去除，研磨成球。由于存在兩個驅(qū)動，完全可以實現(xiàn)球坯兩個自由度方向的旋轉(zhuǎn)，實現(xiàn)完整的成球運動，即通過控制上研磨盤和下研磨盤外盤的轉(zhuǎn)速組合，可使研磨過程中球坯的自旋軸與公轉(zhuǎn)軸的相對方位發(fā)生變化，實現(xiàn)球坯"變相對方位"的成球運動，使球坯表面獲得均勻研磨，快速修正球形偏差，從而提高加工精度與加工效率。陶瓷球研磨/拋光過程中，其單個陶瓷球研磨機(jī)理分析如下下研磨盤內(nèi)盤不轉(zhuǎn)動，上研磨盤和下研磨盤外盤獨立轉(zhuǎn)動；假設(shè)球坯為標(biāo)準(zhǔn)球體，球坯和研磨盤接觸點之間無變形，無相對滑動，球坯之間無推擠現(xiàn)象，陶瓷球只受研磨盤作用，下研磨盤通過與陶瓷球的接觸點無滑動地帶動陶瓷球作研磨運動。設(shè)定研磨盤與陶瓷球的接觸點分別為A、B、C。三接觸點到下研磨盤回轉(zhuǎn)軸的距離分別為m下研磨盤外盤轉(zhuǎn)速為Qe，上研磨盤轉(zhuǎn)速為QA。半徑為rb的球坯在下研磨盤組成的V形槽內(nèi)以角速度Qb公轉(zhuǎn)，同時以角速度"b自轉(zhuǎn)。V形槽道的形狀由下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤的斜角a、13確定，并有&=RA+rbC0Sa，Rc=RA-rbC0S|3。在實際的工程應(yīng)用中，一般a=|3。陶瓷球的自轉(zhuǎn)軸恒保持在陶瓷球經(jīng)度剖面大圓平面上，自轉(zhuǎn)角速度"b矢量在此平面上的方向由9表示。在e角不變的情況下，A、B、C三接觸點在陶瓷球表面形成的三條研磨軌跡是同軸的三個圓。自轉(zhuǎn)角e的取值與輸入轉(zhuǎn)速Q(mào)pQe緊密相關(guān)，通過改變輸入轉(zhuǎn)速Q(mào)A、QB，自轉(zhuǎn)角e可以在0180°范圍內(nèi)取值。這樣就可以通過調(diào)整Qa和Qe的速度組合，使陶瓷球作"變相對方位"，使研磨跡均勻分布在球的表面上，實現(xiàn)對陶瓷球表面的均勻研磨。同時，加壓裝置對球坯施加彈性載荷，能使較大的球受到較大的載荷，從而在加工過程中始終能保證較好的磨削尺寸選擇性——磨大球，不磨或少磨小球；磨球坯的長軸，不磨或少磨短軸，因此能快速修正球形偏差，從而提高加工精度與加工效率。本實用新型對陶瓷球進(jìn)行研磨/拋光加工所涉及的幾何和工藝參數(shù)很多，但對陶瓷球研磨有重要影響的主要有幾何參數(shù)rb、RA、a、13等，以及加工載荷W、上研磨盤轉(zhuǎn)速Q(mào)A和下研磨盤外盤轉(zhuǎn)速Q(mào)e、磨料等工藝參數(shù)。這里著重探討其中最重要的三個參數(shù)——加工載荷W、上研磨盤轉(zhuǎn)速04和下研磨盤外盤轉(zhuǎn)速Q(mào)B。陶瓷球在研磨中的隨機(jī)打滑對陶瓷球研磨最為有害，不僅直接破壞陶瓷球的研磨質(zhì)量，而且還破壞正常的研磨運動，從而引起相鄰陶瓷球之間的擠碰，更嚴(yán)重的會影響到陶瓷球研磨加工的正常進(jìn)行。因此，分析加工載荷和兩塊下研磨盤轉(zhuǎn)速的出發(fā)點是，必須確保陶瓷球在研磨中作無隨機(jī)打滑研磨運動。而隨機(jī)打滑現(xiàn)象直接與加工載荷與研磨盤轉(zhuǎn)速參數(shù)是緊密相關(guān)的。提高加工載荷和研磨盤轉(zhuǎn)速有利于提高球坯的材料去除率，但由此造成的隨機(jī)打滑和尺寸旋轉(zhuǎn)性下降則會降低球度精度。因此，在確定具體值時，必須兼顧加工質(zhì)量和加工效率。例如，在粗研時可選擇較大的研磨壓力和研磨盤轉(zhuǎn)速，以提高加工余量的去除速度；如果側(cè)重于研磨精度，QA、QB、W應(yīng)該選小一點。QA、Qe、W的最后確定，還必須通過大量的分析、仿真和陶瓷球研磨的現(xiàn)場實驗，以取得最佳的研磨效果。本實用新型的有益效果主要表現(xiàn)在1、結(jié)構(gòu)較為簡單，能達(dá)到主動控制球坯在研磨過程中的運動狀態(tài)，實現(xiàn)"變相對方位"的研磨成球運動，同時通過研磨盤轉(zhuǎn)速的自動化控制，減少了人為因素的影響，提高了加工的一致性和穩(wěn)定性；2、結(jié)合合理的研磨加工工藝，可以有效提高陶瓷球的研磨精度和研磨效率，實現(xiàn)批量生產(chǎn)，在加工精度、效率及機(jī)械結(jié)構(gòu)上具有明顯的綜合優(yōu)勢；3、設(shè)備同時還可以用于加工高精度鋼制軸承球、瑪瑙球以及其它材料的球形零件，將對提高精密球批量生產(chǎn)的研磨精度和研磨效率，發(fā)展超高精度球和陶瓷球等特殊材質(zhì)球都將起到非常積極的作用，可為高速、高精度主軸系統(tǒng)提供關(guān)鍵的基礎(chǔ)零件，促進(jìn)數(shù)控機(jī)床、精密儀器等相關(guān)產(chǎn)業(yè)向著高速，高效，高精度的方向快步發(fā)展，而且可以逐步形成專業(yè)生產(chǎn)高精度陶瓷球軸承的高科技產(chǎn)業(yè)，培育新的經(jīng)濟(jì)增長點。圖1是本實用新型的的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實用新型中陶瓷球研磨機(jī)理圖。圖3為本實用新型中陶瓷球研磨幾何關(guān)系圖。圖4為本實用新型中陶瓷球研磨運動分析圖。圖5為陶瓷球表面研磨跡線仿真示意圖。具體實施方式以下結(jié)合附圖對本實用新型作進(jìn)一步描述。參照圖1圖5，一種高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置，包括機(jī)架1、安裝在機(jī)架1上的研磨盤裝置和載荷加壓裝置13，所述研磨盤裝置包括上研磨盤7，所述上研磨盤7上端安裝載荷加壓裝置13，所述的高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置還包括下研磨盤內(nèi)盤6和下研磨盤外盤5，所述的下研磨盤外盤5和下研磨盤內(nèi)盤6以同軸形式布置，所述下研磨盤內(nèi)盤6嵌套在所述下研磨盤外盤5內(nèi)，所述下研磨盤內(nèi)盤6外側(cè)的錐面研磨面和所述下研磨盤外盤5內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，所述下研磨盤內(nèi)盤6固定安裝在機(jī)架1上，所述上研磨盤7安裝在轉(zhuǎn)軸上，所述轉(zhuǎn)軸連接上研磨盤驅(qū)動電機(jī)9，所述下研磨盤外盤5安裝在主軸4上，所述主軸4連接下研磨盤外盤驅(qū)動電機(jī)2。所述的載荷加壓裝置13為液壓-彈簧載荷加壓裝置，所述載荷加壓裝置下端浮動地安裝所述上研磨盤和測力計12，載荷加壓裝置上還設(shè)有當(dāng)上研磨盤下降到位后將上研磨盤鎖緊定位的鎖緊裝置。所述機(jī)架包括底座、立柱14和橫梁ll，所述底座上安裝立柱14，兩個立柱14之間安裝橫梁ll，所述液壓_彈簧載荷加壓裝置的液壓缸10安裝在所述橫梁上。高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置包括設(shè)置在機(jī)架1上的上研磨盤7、下研磨外盤5、下研磨盤內(nèi)盤6，下研磨盤外盤驅(qū)動電機(jī)2，下研磨盤外盤傳動裝置3，主軸4，上研磨盤驅(qū)動電機(jī)9，上研磨盤傳動裝置8，液壓缸10，加壓裝置13，測力計12，橫梁11，立柱14，研磨臺15，下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和下研磨盤外盤的內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，和上研磨盤一起構(gòu)成研磨陶瓷球的三個加工接觸點；上研磨盤和下研磨盤外盤獨立轉(zhuǎn)動，所述的下研磨盤外盤與下研磨盤內(nèi)盤的驅(qū)動軸、上研磨盤的驅(qū)動軸與載荷加壓裝置之間均采用軸承連接。上研磨盤連接液壓_彈簧加壓載荷裝置。所述的下研磨內(nèi)盤和下研磨盤外盤的驅(qū)動軸具有同軸布置的形式，以及對上研磨盤施加的液壓_彈簧加壓載荷裝置。液壓-彈簧載荷加壓裝置安裝于橫梁中間，載荷加壓裝置下端裝有稍帶浮動的上研磨盤、測力計，載荷加壓裝置上還有當(dāng)上研磨盤下降到位后將上研磨盤鎖緊定位的鎖緊裝置；下研磨盤內(nèi)盤與機(jī)架相連。上研磨盤安裝在液壓-彈簧載荷加壓裝置的下端，稍帶浮動，上研磨下端面為研磨面。液壓-彈簧載荷加壓裝置可實現(xiàn)上研磨盤在上、下球坯時的升降。當(dāng)上研磨盤與球坯接觸后，載荷加壓裝置把壓力通過彈簧傳遞至上研磨盤，對球坯施加加壓載荷。通過調(diào)整液壓-彈簧載荷加壓裝置可控制壓力大小，壓力值可以通過測力計顯示。上研磨盤下降到位后，由鎖緊機(jī)構(gòu)將上研磨盤鎖緊，防止上研磨盤向上運動，保證穩(wěn)定加壓。下研磨盤組件由下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤組成，分別以同軸形式布置安裝；下研磨盤內(nèi)盤與機(jī)架相連。下研磨盤外盤和上研磨盤分別由各自電機(jī)驅(qū)動，做獨立旋轉(zhuǎn)運動，轉(zhuǎn)速可調(diào)。下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和下研磨盤外盤的內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)。研磨過程中球坯就放置在環(huán)形的V形槽內(nèi)，在研磨盤的帶動下公轉(zhuǎn)并自轉(zhuǎn)。下表1列出了雙自轉(zhuǎn)V形槽研磨法陶瓷球研磨加工條件工件氮化硅陶瓷球坯，05mm磨料研磨金剛石、b4c磨料拋光Ce02填加劑潤滑油、水、分散劑、煤油及其混合物磨料濃度5%~30%單批球數(shù)(個)40、60、80隔球(mm)05、04.75鋼球研磨壓力(N/球)0.5~15研磨盤材料鑄鐵，軟鋼，研磨盤轉(zhuǎn)速(rpm)仏=2o~8o,qs=-1ooj~ioa^(負(fù)號表示反方向旋轉(zhuǎn))研磨盤參數(shù)(mm)i^=150,^=153.5，ic=146.5，ct=^=45c表l研磨磨料使用金剛石磨料，也可以使用SiC，B^磨料。金剛石磨料成本較高，加工效率高。粗研磨有兩個作用一是消除球坯表面較大的制備缺陷，減少球形誤差，統(tǒng)一球徑；二是高效去初余量滿足球徑要求。粗研應(yīng)首先將球坯按最大直徑分組，縮短研磨初期的不穩(wěn)定過程，并盡量減少其跳動以提高研磨效率。精研的目的是提高球的精度和表面質(zhì)量，去除余量應(yīng)保證消除前道工序所遺留的缺陷，不僅如此，還應(yīng)保證足夠余量以便逐漸提高精度。拋光的主要目的是提高表面質(zhì)量。下表2列出了一個較合理的加工工藝參數(shù)<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>[0038]表3下表4給出了給定工藝條件下，在半精加工階段采用固著磨料技術(shù)，采用雙自轉(zhuǎn)研磨盤研磨設(shè)備加工G5和G305mm陶瓷球，精研_超精研_拋光所需的時間，與傳統(tǒng)的V形槽研磨設(shè)備相比，加工時間是傳統(tǒng)加工方法的1/21/4:<table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>權(quán)利要求一種高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置，包括機(jī)架、安裝在機(jī)架上的研磨盤裝置和載荷加壓裝置，所述研磨盤裝置包括上研磨盤，所述上研磨盤上端安裝載荷加壓裝置，其特征在于所述的高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置還包括下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤，所述的下研磨盤外盤和下研磨盤內(nèi)盤以同軸形式布置，所述下研磨盤內(nèi)盤嵌套在所述下研磨盤外盤內(nèi)，所述下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和所述下研磨盤外盤內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，所述下研磨盤內(nèi)盤固定安裝在機(jī)架上，所述上研磨盤安裝在轉(zhuǎn)軸上，所述轉(zhuǎn)軸連接上研磨盤驅(qū)動電機(jī)，所述下研磨盤外盤安裝在主軸上，所述主軸連接下研磨盤外盤驅(qū)動電機(jī)。2.如權(quán)利要求1所述的高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置，其特征在于所述的載荷加壓裝置為液壓_彈簧載荷加壓裝置，所述載荷加壓裝置下端浮動地安裝所述上研磨盤和測力計，載荷加壓裝置上還設(shè)有當(dāng)上研磨盤下降到位后將上研磨盤鎖緊定位的鎖緊裝置。3.如權(quán)利要求1或2所述的高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置，其特征在于所述機(jī)架包括底座、立柱和橫梁，所述底座上安裝立柱，兩個立柱之間安裝橫梁，所述液壓_彈簧載荷加壓裝置的液壓缸安裝在所述橫梁上。專利摘要一種高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置，包括機(jī)架、安裝在機(jī)架上的研磨盤裝置和載荷加壓裝置，研磨盤裝置包括上研磨盤，上研磨盤上端安裝載荷加壓裝置，高精度球雙自轉(zhuǎn)V形槽高效研磨裝置還包括下研磨盤內(nèi)盤和下研磨盤外盤，所述的下研磨盤外盤和下研磨盤內(nèi)盤以同軸形式布置，所述下研磨盤內(nèi)盤嵌套在所述下研磨盤外盤內(nèi)，所述下研磨盤內(nèi)盤外側(cè)的錐面研磨面和所述下研磨盤外盤內(nèi)側(cè)的錐形研磨面構(gòu)成V形槽結(jié)構(gòu)，所述下研磨盤內(nèi)盤固定安裝在機(jī)架上，上研磨盤安裝在轉(zhuǎn)軸上，所述轉(zhuǎn)軸連接上研磨盤驅(qū)動電機(jī)，下研磨盤外盤安裝在主軸上，主軸連接下研磨盤外盤驅(qū)動電機(jī)。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單、加工成本低，同時具有較高的加工精度和加工效率。文檔編號B24B37/02GK201455800SQ20092011674公開日2010年5月12日申請日期2009年3月27日優(yōu)先權(quán)日2009年3月27日發(fā)明者呂冰海,王志偉,范紅偉,袁巨龍申請人:浙江工業(yè)大學(xué);湖南大學(xué)