專利名稱：用于srp系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種擴(kuò)展電阻探針設(shè)備，具體涉及一種用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具。
背景技術(shù)：
擴(kuò)展電阻探針(Spreading Resistance Prober，SRP)是半導(dǎo)體工藝中常用的監(jiān)控 和失效分析設(shè)備，它用于測(cè)量電阻率和載流子濃度，以確定注入擴(kuò)展?fàn)顩r、結(jié)深狀況。擴(kuò)展電阻探針的工作原理是通過兩根探針在磨出斜面的樣品上接觸，測(cè)出兩探 針間的電阻值；將該電阻值經(jīng)過校準(zhǔn)曲線轉(zhuǎn)換為電阻率和載流子濃度；而將探針?biāo)幍奈?置，通過角度及距離換算，得到探針對(duì)應(yīng)位置的深度值。綜合以上數(shù)據(jù)，就可得到樣品的電 阻率或載流子濃度的深度分布曲線。SSM NanOSRP2000是目前較新型的SRP系統(tǒng)，它配備的樣品制備設(shè)備型號(hào)為J90研 磨機(jī)。J90研磨機(jī)配合相關(guān)夾具，可以磨出指定角度的樣品。現(xiàn)有的用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具如


圖1至圖3所示，包括套筒1、研磨座2、螺釘 3、研磨頭4 ；研磨座2設(shè)置于套筒1內(nèi)，研磨座2底部設(shè)置研磨頭4，研磨頭4通過螺釘3與 研磨座2固定連接；套筒1底部設(shè)有鋸齒6，用于支撐整個(gè)夾具。使用時(shí)，先將樣品5粘在研 磨頭4的底部，然后通過SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的固定支架夾持住夾具的套筒1外圈，并使樣品5 與毛玻璃接觸，通過毛玻璃的高速旋轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)樣品5與毛玻璃之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使樣品5的 底部被研磨出一斜面，如
圖1所示。利用這種結(jié)構(gòu)的夾具所研磨的樣品斜面，表面劃痕較粗，研磨過程中會(huì)損傷毛玻 璃，使毛玻璃表面變得粗糙，粗糙的毛玻璃則會(huì)使被磨出的樣品斜面的劃痕更加粗糙，而樣 品斜面的表面光滑程度會(huì)直接影響到探針的接觸情況，嚴(yán)重影響測(cè)量出的電阻率曲線的平 滑度和多次測(cè)量的重復(fù)性，最終影響測(cè)量數(shù)據(jù)的精確度。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具，它可以 在擴(kuò)展電阻測(cè)試用樣品上研磨出平滑的斜面。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具的技術(shù)解決方案 為包括套筒、研磨座、研磨頭；研磨座設(shè)置于套筒內(nèi)，研磨座底部設(shè)置研磨頭；所述 套筒的外表面套設(shè)有橡膠層。所述橡膠層覆蓋套筒的外緣、上表面及下表面。所述橡膠層的厚度為1 士0. 2毫米。本實(shí)用新型可以達(dá)到的技術(shù)效果是本實(shí)用新型能夠獲得有平滑斜面的擴(kuò)展電阻測(cè)試用樣品，通過該樣品測(cè)試得到的 電阻率和載流子濃度及其深度曲線或數(shù)據(jù)更加平滑和可靠，確保了測(cè)量數(shù)據(jù)的精確度和重復(fù)性。以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明
圖1是現(xiàn)有技術(shù)用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是
圖1的仰視圖；圖3是
圖1的俯視圖；圖4是本發(fā)明用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是圖4的仰視圖；圖6是圖4的俯視圖。圖中附圖標(biāo)記說明1為套筒，2為研磨座，3為螺釘，4為研磨頭，5為樣品，6為鋸齒，11為橡膠層。
具體實(shí)施方式
如圖4至圖6所示，本實(shí)用新型用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具，包括套筒1、研磨座 2、螺釘3、研磨頭4 ；研磨座2設(shè)置于套筒1內(nèi)，研磨座2底部設(shè)置研磨頭4，研磨頭4通過 螺釘3與研磨座2固定連接；套筒1底部設(shè)有鋸齒6 ；套筒1的外表面套設(shè)有橡膠層11。橡膠層11覆蓋套筒1的外緣、上表面及下表面，套筒1底部的12個(gè)用于支撐的鋸 齒6表面不覆蓋橡膠層。橡膠層11的厚度為1 士0. 2毫米，該厚度能夠保證套筒1與固定套筒1的固定支 架貼合緊密，以確保帶有橡膠層11的夾具能夠嵌入研磨機(jī)的固定支架。本實(shí)用新型在套筒1上套設(shè)有橡膠層11，使SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的固定支架與夾具的 夾持部位增加了減震和緩沖層，改變了 二者之間的硬接觸，使粘附在研磨頭4的樣品5在毛 玻璃上研磨的過程中，樣品5所受的硬摩擦力減小，從而使樣品5的研磨面受力更趨均勻和 緩和，最終使樣品的研磨斜面劃痕均勻和變淺，大大提高了樣品5表面的平滑度，從而獲得 有平滑斜面的擴(kuò)展電阻測(cè)試用樣品。
權(quán)利要求一種用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具，包括套筒、研磨座、研磨頭；研磨座設(shè)置于套筒內(nèi)，研磨座底部設(shè)置研磨頭；其特征在于所述套筒的外表面套設(shè)有橡膠層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具，其特征在于所述橡膠層覆蓋 套筒的外緣、上表面及下表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具，其特征在于所述橡膠層 的厚度為1 士0.2毫米。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于SRP系統(tǒng)研磨機(jī)的夾具，包括套筒、研磨座、研磨頭；研磨座設(shè)置于套筒內(nèi)，研磨座底部設(shè)置研磨頭；所述套筒的外表面套設(shè)有橡膠層。本實(shí)用新型能夠獲得有平滑斜面的擴(kuò)展電阻測(cè)試用樣品，通過該樣品測(cè)試得到的電阻率和載流子濃度及其深度曲線或數(shù)據(jù)更加平滑和可靠，確保了測(cè)量數(shù)據(jù)的精確度和重復(fù)性。
文檔編號(hào)B24B9/00GK201619013SQ20102003633
公開日2010年11月3日 申請(qǐng)日期2010年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月18日
發(fā)明者時(shí)俊亮, 賴華平 申請(qǐng)人:上海華虹Nec電子有限公司