專利名稱：制備含氧化銦的層的方法
制備含氧化銦的層的方法本發(fā)明涉及一種制備含氧化銦層的方法、可以利用該方法制備的層及其應(yīng)用。氧化銦(氧化銦(III)，In2O3)是一種很有前景的半導(dǎo)體，這是因?yàn)槠渚哂?. 6 3. 75eV 的大帶隙(針對蒸鍍層測量)[H. S. Kim, P. D. Byrne, A. Facchetti，Τ. J. Marks ;J. Am. Chem. Soc. 2008，130，12580-12581]。除此之外，厚度為幾百納米的薄膜在可見光譜范圍內(nèi)可以具有高的透明度，也即在^Onm透明度大于90%。此外，在特別高度有序的氧化銦單晶中能測量到至多160cm7Vs的載流子遷移率。通常主要將氧化銦與氧化錫(IV) (SnO2) 一起作為半導(dǎo)體混合氧化物ITO使用。由于ITO層的電導(dǎo)率比較高，同時(shí)在可見光譜范圍內(nèi)具有透明性，因此主要應(yīng)用于液晶屏幕 (LCD;liquid crystal display)，尤其作為“透明電極”。工業(yè)上主要通過成本密集的蒸鍍方法在高真空中制備這些通常經(jīng)過摻雜的金屬氧化物層。因此，含氧化銦的層及其制備、尤其是ITO層和純氧化銦層及其制備對于半導(dǎo)體和顯示器工業(yè)而言特別重要。有許多化合物種類被討論作為合成含氧化銦層的可能原料或前體。其中包括例如銦鹽。例如，Marks等人描述了使用InCl3構(gòu)成的前體溶液以及溶解于甲氧基乙醇中的堿單乙醇胺(MEA)制備的部件。在離心涂布(Spin-coating (旋涂))該溶液之后，通過400°C的熱處理產(chǎn)生相應(yīng)的氧化銦層。[H. S. Kim, P. D. Byrne, A. Facchetti，Τ. J. Marks ;J. Am. Chem. Soc. 2008，130，12580-12581 及附加資料]。在其他地方討論將銦醇鹽作為對于氧化銦合成可能的原料或前體。這里，所述銦醇鹽指的是由至少一個(gè)銦原子、至少一個(gè)式-OR(R =有機(jī)殘基)的烴氧基殘基和任選的一個(gè)或多個(gè)有機(jī)殘基-R、一個(gè)或多個(gè)鹵素殘基和/或一個(gè)或多個(gè)-OH或-OROH殘基構(gòu)成的化合物。與可能的用于形成氧化銦的應(yīng)用無關(guān)，在現(xiàn)有技術(shù)中描述了不同的銦醇鹽和氧聯(lián)銦醇鹽(Indiumoxoalkoxide)。與所提及的銦醇鹽相比，氧聯(lián)銦醇鹽還具有至少另一個(gè)直接與一個(gè)銦原子鍵合或者與至少兩個(gè)銦原子橋連的氧殘基(氧聯(lián)殘基)。Mehrotra等人描述了由氯化銦(III) (InCl3)與Na-OR制備銦三醇鹽In(OR)3, 其中R表示甲基、乙基、異丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基和正戊基、仲戊基、叔戊基殘基。 [S. Chatterjee, S. R. Bindal, R. C. Mehrotra ； J. Indian Chem. Soc. 1976, 53,867]。Carmalt 等人的綜述(Coordination Chemistry Reviews 25(^2006)，682-709)描述了不同的鎵(III)和銦(III)的醇鹽和芳基氧化物，它們有時(shí)也可以經(jīng)烷氧基基團(tuán)橋連存在。此外介紹了以氧為中心的簇合物，其式為化5(口-0) (0 ) 13，更精確地為[Ιη5(μ5-0) (μ 3-0iPr) 4 ( μ ^OiPr) 4 (OiPr) 5]，所涉及的是一種無法從[In (OiPr) 3]制備的氧聯(lián)醇鹽。N. Turova 等人的綜述 Russian Chemical Reviews 73(11), 1041-1064(2004))總結(jié)了金屬氧聯(lián)醇鹽的合成、特性和結(jié)構(gòu)，所述金屬氧聯(lián)醇鹽在此被視為通過溶膠-凝膠技術(shù)制備氧化物材料的前體。除了許多其它化合物之外，還描述了 [Sn3O(OiBu)ltl(iBuOH)2]、之前已提及的化合物[In5O(OiPr)13]以及[Sn6O4(OR)4] (R = Me, Pri)的合成和結(jié)構(gòu)。N. Turova 等人的文章(Journal of Sol-Gel Science and Technology,2,
417-23(1994))介紹了對醇鹽的研究結(jié)果，在此將這些研究結(jié)果作為開發(fā)醇鹽的溶膠-凝膠工藝和基于醇鹽的粉末的科學(xué)基礎(chǔ)。在此文章中也尤其研究了一種假想的“異丙醇銦”，這已被證實(shí)也是Carmalt等人所述具有一個(gè)中心氧原子和五個(gè)環(huán)繞金屬原子且式為M5 ( μ-0) (C^Pr)13的氧聯(lián)醇鹽。Bradley 等人(J. Chem. Soc.，Chem. Commun.，1988，1258-1259)描述了這種化合物的合成及其晶體結(jié)構(gòu)。這些作者的進(jìn)一步研究得出了如下結(jié)論該化合物的形成并非歸因于在此期間生成的h (OiPr) 3的水解(Bradley等人，Polyhedron第9卷，第5期，第719-726 頁，1990)。Suh 等人(J. Am. Chem. Soc. 2000,122,9396-9404)進(jìn)一步發(fā)現(xiàn)也無法由 M(OiPr)3 以加熱途徑制備該化合物。此外Bradley (Bradley等人，Polyhedron第9卷，第5期，第 719-7 頁，1990)發(fā)現(xiàn)該化合物無法升華。原則上可通過不同的方法來制備金屬氧化物層。一種制備金屬氧化物層的可能方法基于濺射技術(shù)。但是這些技術(shù)的缺點(diǎn)是必須在高真空下進(jìn)行。另一個(gè)缺點(diǎn)是利用這些技術(shù)制備的膜具有很多的氧缺陷，這些缺陷會(huì)導(dǎo)致無法調(diào)整出有針對性且可重現(xiàn)的各層的化學(xué)當(dāng)量比，因此會(huì)使得所制備的層的特性變差。另一種制備金屬氧化物層的原則上可能的方法基于化學(xué)氣相沉積。例如可以與銦醇鹽或者氧聯(lián)銦醇鹽一樣，通過氣相沉積法由氧化銦前體制備含氧化銦的層。例如US 6，958，300 B2教導(dǎo)，使用至少一種金屬有機(jī)氧化物前體(醇鹽或氧聯(lián)醇鹽)，其通式為 M1q(O)x(OR1)Aci= 1-2 ；χ = 0-4, y = 1-8, M1 =金屬；例如鎵、銦或者鋅，R1 =有機(jī)殘基；若 χ = 0則為醇鹽，若> 1則為氧聯(lián)醇鹽)，通過例如CVD或者ALD的氣相沉積法制備半導(dǎo)體或金屬氧化物層。但是所有氣相沉積法均有缺點(diǎn)要么i)如果采用熱反應(yīng)進(jìn)程，則需要使用非常高的溫度；要么ii)如果以電磁輻射形式施加分解前體所需的能量，則需要高的能量密度。這兩種情況下只有以極高的設(shè)備投入，才能有針對性而均勻地施加分解前體所需的能量。因此有利的方式是采用液相法來制備金屬氧化物層，也就是采用在轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘傺趸镏鞍ㄖ辽僖坏酪韵鹿に嚥襟E的方法給有待涂覆的基材涂上至少一種金屬氧化物前體的液態(tài)溶液，任選地隨后將其干燥。這里所述金屬氧化物前體指的是可以受熱分解或者可以利用電磁輻射分解的化合物，且可以在氧或其它氧化物質(zhì)存在或不存在的情況下利用該化合物形成含有金屬氧化物的層。重要的金屬氧化物前體的實(shí)例例如有金屬醇鹽。這里原則上可以i)通過溶膠-凝膠法制備層，在有水存在的情況下首先通過水解和隨后的縮合反應(yīng)使得所用的金屬醇鹽轉(zhuǎn)變?yōu)槟z，然后再轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘傺趸?；或者ii)用不含水溶液來制備層。由液相銦醇鹽制備含有氧化銦的層也屬于現(xiàn)有技術(shù)。采用溶膠-凝膠法在有顯著量水存在的情況下由銦醇鹽制備含有氧化銦的層屬于現(xiàn)有技術(shù)。WO 2008/083310 Al描述了在基材上制備無機(jī)層或者有機(jī)/無機(jī)混合層的方法，在所述方法中將一種金屬醇鹽(例如通式R1M-(OR2)P的金屬醇鹽)或者其預(yù)聚物施加到基材上，然后使得所產(chǎn)生的金屬醇鹽層在有水存在的情況下與水反應(yīng)而硬化。這里可以使用的金屬醇鹽尤其是銦、鎵、錫或者鋅的醇鹽。但是使用溶膠-凝膠法的缺點(diǎn)在于，加入水就會(huì)自動(dòng)開始水解縮合反應(yīng)，而且在反應(yīng)開始之后只能困難地進(jìn)行控制。如果在施加到基材上之前就已開始水解縮合過程，則在此期間產(chǎn)生的凝膠由于粘度增大而通常不適合于產(chǎn)生細(xì)致(feiner)氧化物層的方法。而相反，如果在施加到基材上之后才供應(yīng)液體或蒸氣形式的水使得水解縮合過程開始，這樣生成的未徹底混合且不均勻的凝膠通常會(huì)導(dǎo)致相應(yīng)的具有不良特性的不均勻的層。JP 2007-042689 A描述了可以含有銦醇鹽的金屬醇鹽溶液，以及使用這些金屬醇鹽溶液制備半導(dǎo)體元件的方法。對金屬醇鹽膜進(jìn)行熱處理使其轉(zhuǎn)變?yōu)檠趸飳?，但是這些系統(tǒng)也不能提供足夠均勻的膜。但利用這里所述的方法無法制備純氧化銦層。尚未公開的DE 10 2009 009 338. 9_43描述了在由無水溶液制備含氧化銦層的時(shí)候使用銦醇鹽。所產(chǎn)生的層盡管比溶膠-凝膠法制備的層更加均勻，但是在無水系統(tǒng)中使用銦醇鹽始終有缺點(diǎn)通過將含有銦醇鹽的配制劑轉(zhuǎn)變成含有氧化銦的層未賦予所產(chǎn)生的層足夠好的電性能。因此本發(fā)明的任務(wù)在于提供避免現(xiàn)有技術(shù)缺點(diǎn)的含氧化銦層的制備方法。這里尤其應(yīng)該提供這樣的方法，其避免使用高真空，在所述方法中可以易于有針對性且一致地施加分解或轉(zhuǎn)化前體或原料所需的能量，其避免溶膠-凝膠技術(shù)的上述缺點(diǎn)，并且獲得具有有針對性、一致而且可以重現(xiàn)的化學(xué)當(dāng)量比、高均勻度和好的電性能的氧化銦層。通過從不含水溶液制備含氧化銦層的液相方法，即可解決這一任務(wù)，按照所述的方法，將無水組合物施加到基材上，任選地將其干燥，并且轉(zhuǎn)變成含有氧化銦的層，所述無水組合物含有i)至少一種通式為Mx0y(0R)z
aXb[R" OH]d的氧聯(lián)銦醇鹽，式中M =銦，χ = 3-25，y = 1-10，ζ = 3-50, a = 0-25, b = 0-20, c = 0—1，d = 0-25, R, R'，R" =有機(jī)殘基，X =氟、氯、溴、碘并且含有ii)至少一種溶劑。根據(jù)本發(fā)明的由不含水溶液制備含氧化銦層的液相方法是包括至少一道下面工藝步驟的方法給有待涂覆的基材涂上含有至少一種金屬氧化物前體的液態(tài)不含水溶液， 并任選地隨后將其干燥。這里尤其不涉及濺射法、CVD法或者溶膠-凝膠法。這里所述金屬氧化物前體指的是可以受熱分解或者可以利用電磁輻射分解的化合物，且可以在氧或其它氧化物質(zhì)存在或不存在的情況下利用該化合物形成含有金屬氧化物的層。本發(fā)明范圍內(nèi)的液態(tài)組合物指的是那些在SATP條件下(“標(biāo)準(zhǔn)環(huán)境溫度和壓力”;T = 25°C且ρ = 1013hPa) 并且在施加到基材上時(shí)呈液態(tài)的組合物。這里和以下所述的不含水溶液或者無水組合物指的是具有不多于200ppm的H2O的溶液或配制劑。這里根據(jù)本發(fā)明所述方法的方法產(chǎn)物(含氧化銦的層)指的是含有金屬或者半金屬的層，該層具有主要以氧化物存在的銦原子或離子。任選地，含氧化銦的層也可以具有源自沒有完全轉(zhuǎn)化或者沒有完全去除生成的副產(chǎn)物的碳、鹵素或者醇鹽成分。這里含氧化銦的層可以是純氧化銦層，也就是說，在不考慮可能的碳、醇鹽或者鹵素成分的情況下，主要由氧化物形式存在的銦原子或離子構(gòu)成，或者還可以包括部分的其它以單質(zhì)或者氧化物形式存在的金屬。在按照本發(fā)明的方法中應(yīng)該僅使用含有銦的前體，優(yōu)選僅使用氧聯(lián)銦醇鹽和銦醇鹽來生產(chǎn)純氧化銦層。與此相反，為生產(chǎn)具有其它金屬的層，則除了含有銦的前體之外，也可以使用氧化態(tài)為0的金屬的前體(用于制備含有中性形式的其它金屬的層)或者金屬氧化物前體(例如其它金屬醇鹽或者氧聯(lián)金屬醇鹽)。所述氧聯(lián)銦醇鹽優(yōu)選那些通式為MxOy(OR)z的氧聯(lián)銦醇鹽，式中χ = 3-20，y = 1-8, ζ = 1_25，0R = C1-C15烷氧基、氧烷基烷氧基、芳氧基基團(tuán)或者氧基芳基烷氧基基團(tuán)， 特別優(yōu)選那些通式為MxOy (OR) z的氧聯(lián)銦醇鹽，式中χ = 3-15，y = 1-5，ζ = 10-20，OR = -0CH3、-OCH2CH3、-OCH2CH2OCH3、-OCH (CH3) 2 或者-O (CH3) 3。非常特別優(yōu)選的是使用氧聯(lián)銦醇鹽[In5 ( μ 5-0) ( μ 3"0iPr) 4 ( μ ^OiPr) 4 (OiPr) 5]的方法。如果使用氧聯(lián)銦醇鹽作為唯一的金屬氧化物前體，則本發(fā)明所述的方法特別適合于制備氧化銦層。如果唯一的金屬氧化物前體是[Ιη5(μ 5_0) (μ 3-0iPr) 4 ( μ ^OiPr) 4 (OiPr) 5]，就會(huì)產(chǎn)生給出特別好的層。所述至少一種氧聯(lián)銦醇鹽基于無水組合物總質(zhì)量計(jì)優(yōu)選以0. 1 15重量％，特別優(yōu)選1 10重量％，和最特別優(yōu)選2 5重量％的份額存在。無水組合物還含有至少一種溶劑，也就是說，組合物既可以含有一種溶劑也可以含有不同溶劑的混合物。在配制劑中優(yōu)選用于本發(fā)明所述方法的是非質(zhì)子溶劑和弱質(zhì)子溶劑，也就是選自非質(zhì)子非極性溶劑群組，即烷烴、取代烷烴、烯烴、炔烴、不包含或者含有脂肪族或芳族取代基的芳族化合物、鹵代烴、四甲基硅烷，非質(zhì)子極性溶劑群組，即醚、芳族醚、取代醚、酯或者酸酐、酮、叔胺、硝基甲烷、DMF( 二甲基甲酰胺)、DMSO(二甲基亞砜)或者碳酸丙二醇酯(Propylencarbonat)，以及弱質(zhì)子溶劑，即醇、伯胺、仲胺和甲酰胺。特別優(yōu)選可使用的溶劑是醇以及甲苯、二甲苯、苯甲醚、均三甲苯、正己烷、正庚烷、三-(3，6_ 二氧雜庚基)胺(TDA)、2_氨甲基四氫呋喃、苯乙醚、4-甲基苯甲醚、3-甲基苯甲醚、苯甲酸甲酯、N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、四氫化萘、苯甲酸乙酯和乙醚。最特別優(yōu)選的溶劑是甲醇、 乙醇、異丙醇、四氫糠醇、叔丁醇和甲苯及其混合物。為了實(shí)現(xiàn)特別好的適印性能(Verdrudibarkeit)，用于本發(fā)明方法的組合物優(yōu)選具有ImPa · s IOPa. S、尤其具有ImPa · s IOOmPa · s的粘度，根據(jù)DIN 53019第1 2 部分規(guī)定在20°C測定?？梢酝ㄟ^加入聚合物、纖維素衍生物，或者例如在商品名稱Aerosil 下可得的SiO2，和尤其通過PMMA、聚乙烯醇、氨基甲酸酯增稠劑或者聚丙烯酸酯增稠劑來調(diào)整相應(yīng)的粘度。用于本發(fā)明所述方法的基材優(yōu)選是由玻璃、硅、二氧化硅、金屬氧化物或過渡金屬氧化物、金屬或者聚合物材料尤其是PI或者PET構(gòu)成的基材。本發(fā)明所述的方法特別有利的是選自印刷法(尤其是柔版/凹版印刷、噴墨印刷、膠版印刷、數(shù)字膠版印刷和絲網(wǎng)印刷)、噴涂法、旋涂法(〃 Spin-coating")、浸涂法(“Dip-coating")的涂覆方法以及選擇彎月面涂布(Meniscus Coating)、狹縫涂布 (Slit Coating)、狹縫模頭涂布(Slot-Die Coating)和簾式涂布的方法。本發(fā)明所述的印刷方法特別優(yōu)選是印刷方法。在涂覆之后與轉(zhuǎn)變之前還可以對已涂覆的基材進(jìn)行干燥。本領(lǐng)域技術(shù)人員已知相應(yīng)的措施和條件?？梢砸约訜嵬緩胶?或使用電磁輻射尤其是光化輻射進(jìn)行輻照的方式轉(zhuǎn)變?yōu)楹醒趸煹膶?。?yōu)選以溫度大于150°C的加熱途徑進(jìn)行轉(zhuǎn)變。如果為了轉(zhuǎn)變使用250°C 3600C的溫度，則還能實(shí)現(xiàn)特別好的結(jié)果。在此，通常使用幾秒至數(shù)小時(shí)的轉(zhuǎn)變時(shí)間。此外，可以如此促進(jìn)所述熱轉(zhuǎn)變在熱處理之前、熱處理過程中或者熱處理之后使用紫外、紅外或可見光輻射進(jìn)行照射，或者使用空氣或氧氣對涂覆后的基材進(jìn)行處理。此外，在轉(zhuǎn)變步驟之后組合運(yùn)用溫度處理和氣體處理(使用吐或者O2)、等離子體處理(Arj2W2或者吐等離子體)、激光處理(使用紫外、可見光或者紅外范圍的波長)或者臭氧處理，還可以進(jìn)一步改善根據(jù)本發(fā)明方法產(chǎn)生的層的質(zhì)量。本發(fā)明還涉及可以通過本發(fā)明所述方法制備的含氧化銦的層。這里由根據(jù)本發(fā)明所述方法可制備的含氧化銦的純氧化銦層具有特別好的特性。由本發(fā)明所述方法可制備的含氧化銦的層尤其有利地適合于生產(chǎn)電子元件，尤其是生產(chǎn)晶體管(尤其是薄膜晶體管)、二極管、傳感器或者太陽能電池。以下實(shí)施例意在詳細(xì)解釋本發(fā)明的主題。
實(shí)施例使用100 μ 1 5 重量 ％ 的[In5(U5-O) (U3-OiPr)4(U2-OiPr)4(OiPr)5]的醇溶液(甲醇、乙醇或者異丙醇)或者甲苯溶液，以旋涂法(2000轉(zhuǎn)/分鐘)涂覆經(jīng)摻雜的硅基材，所述硅基材的邊長約為15mm，具有厚度約為200nm的氧化硅涂層以及ITO/金構(gòu)成的指狀結(jié)構(gòu)。 為了排除水分，使用干燥的溶劑(水含量少于200ppm)，并且在手套箱(H2O含量少于IOppm) 中進(jìn)行涂覆。涂覆過程之后，通過^KTC或者350°C溫度的空氣對涂覆后的基材進(jìn)行一小時(shí)調(diào)溫。根據(jù)本發(fā)明的涂層顯示出至多6cm2/VS(柵源電壓為30V，源漏電壓為30V，溝道寬度lcm，溝道長度20 μ m)的載流子遷移率。表1 載流子遷移率
權(quán)利要求
1.由不含水溶液制備含氧化銦的層的液相方法， 其特征在于，將無水組合物施加到基材上，任選地干燥，并且將其轉(zhuǎn)變?yōu)楹趸煹膶?，所述組合物含有i)至少一種通式MxOy(OR)z
aXb[R〃 0H]d的氧聯(lián)銦醇鹽式中 χ = 3-25， y = 1-10， Z = 3-50， a = 0-25， b = 0-20， c = 0-1， d = 0-25 M = InR，R'，R"=有機(jī)殘基， X=氟、氯、溴、碘，以及 )至少一種溶劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，使用式MxOy (OR)z的氧聯(lián)醇鹽作為至少一種氧聯(lián)銦醇鹽，式中χ = 3-20，y =1-8, ζ = 1-25，OR = C1-C15烷氧基、氧基烷基烷氧基、芳氧基或者氧基芳基烷氧基基團(tuán)； 特別優(yōu)選使用通式MxOy (OR)z的氧聯(lián)醇鹽，式中χ = 3-15，y= 1-5, ζ = 10-20，OR = -0 CH3、-OCH2CH3、-OCH2CH2OCH3、-OCH (CH3) 2 或者-O (CH3) 3。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法， 其特征在于，所述至少一種氧聯(lián)銦醇鹽是[In5 (μ 5-0) ( μ 3-0iPr) 4 ( μ ^OiPr) 4 (OiPr) 5]。
4.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法， 其特征在于，所述至少一種氧聯(lián)銦醇鹽是所述方法中唯一使用的金屬氧化物前體。
5.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法， 其特征在于，所述至少一種氧聯(lián)銦醇鹽以基于所述無水組合物總質(zhì)量0. 1 15重量％的份額存在。
6.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法， 其特征在于，所述至少一種溶劑是非質(zhì)子或者弱質(zhì)子溶劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法， 其特征在于，所述至少一種溶劑選自甲醇、乙醇、異丙醇、四氫糠醇、叔丁醇和甲苯。
8.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法， 其特征在于，所述組合物具有ImPa · s 101 · s的粘度。
9.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法， 其特征在于，所述基材由玻璃、硅、二氧化硅、金屬氧化物或過渡金屬氧化物、金屬或者聚合物材料構(gòu)成。
10.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法， 其特征在于，通過印刷法、噴涂法、旋涂法、浸涂法或者選自彎月面涂布、狹縫涂布、狹縫模頭涂布和簾式涂布的方法將所述無水組合物施加到所述基材上。
11.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法， 其特征在于，通過大于150°c的溫度進(jìn)行所述熱轉(zhuǎn)變。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法， 其特征在于，在熱處理之前、熱處理過程中或者之后使用紫外、紅外或者可見光輻射進(jìn)行輻照。
13.能根據(jù)權(quán)利要求1 12中任一項(xiàng)所述方法制備的含氧化銦的層。
14.至少一個(gè)權(quán)利要求13所述的含氧化銦的層用于生產(chǎn)電子元件，尤其用于生產(chǎn)晶體管、二極管、傳感器或者太陽能電池的應(yīng)用。
全文摘要
本發(fā)明涉及從不含水溶液制備含氧化銦層的液相方法、可以用本發(fā)明所述方法制備的層及其應(yīng)用，在所述的方法中，將無水組合物施加到基材上，任選地將其干燥，并將其轉(zhuǎn)變成含有氧化銦的層，所述無水組合物含有至少一種通式為MxOy(OR)z[O(R′O)cH]aXb[R″OH]d的氧聯(lián)銦醇鹽，式中x＝3-25，y＝1-10，z＝3-50，a＝0-25，b＝0-20，c＝0-1，d＝0-25，M＝銦，R，R′，R″＝有機(jī)殘基、X＝氟、氯、溴、碘，并且含有至少一種溶劑。
文檔編號(hào)C23C18/12GK102549195SQ201080037332
公開日2012年7月4日 申請日期2010年8月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月21日
發(fā)明者A·霍佩, A·默庫洛夫, D·V·潘, H·蒂姆, J·施泰格 申請人:贏創(chuàng)德固賽有限公司