專利名稱：一種玻璃蓋板鍍膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜的方法，特別涉及一種玻璃蓋板鍍膜的方法。
背景技術(shù)：
有機(jī)電致發(fā)光顯示器OLED是新興的一種平板顯示器，因它有主動發(fā)光，對比度高，能薄型化，響應(yīng)速度快等諸多優(yōu)點，被公認(rèn)為替代LCD的第三代顯示器，其發(fā)光原理是在兩個電極之間積木式蒸鍍?nèi)舾蓪佑袡C(jī)材料，并在兩電極之間通上直流電使其發(fā)光。在有機(jī)電致發(fā)光顯示器中，有機(jī)發(fā)光材料遇水和遇氧容易失效，因而其前面的玻璃基板必須加蓋板進(jìn)行封裝，以便隔絕水汽和氧氣，延長顯示器的使用壽命，而在封裝的過程中，盡管是在高純N2環(huán)境下進(jìn)行，難免有少量的水汽和氧氣存在，同時為了防止器件使用過程產(chǎn)生的水、氧對器件壽命的影響，需要在封裝之前在蓋板上制作干燥劑。對于無源矩陣0LED，都是底發(fā)光，就是說光線從導(dǎo)電膜或稱為ITO膜層面發(fā)出，而不是蓋板面發(fā)出，一般采用在蓋板上刻槽，在刻槽內(nèi)貼上干燥帶的方式，是原始、簡單的方法。相對來講，有源矩陣OLED就要復(fù)雜得多，有源矩陣OLED是采用TFT(薄膜場效應(yīng)晶體管)為驅(qū)動單元，而TFT是不透光的，如果做底發(fā)光，出光率就很低，因此多是制作頂發(fā)光，光線要從蓋板面發(fā)出，因此蓋板面就不能阻擋光線的通過。有源矩陣OLED針對干燥劑的制作通常有三種做法第一種，涂覆液體干燥劑。這種方法是在蓋板上涂覆一層液體的干燥劑，然后進(jìn)行固化處理，這種干燥劑通常是吸水率高的有機(jī)材料，其優(yōu)點是制程相對簡單，但有致命性缺點，就是隨著器件的使用，有機(jī)材料色澤加重，透光率降低，影響期間的性能。第二種，圈涂干燥劑法。這種方法是在蓋板上圖一圈液體干燥劑，然后進(jìn)行固化處理，同樣液體干燥劑通常是吸水率高的有機(jī)材料。這種方法避免了有機(jī)材料隨著光線照射產(chǎn)生的變色使透光率下降的問題，但更大的問題是這種方法在保證發(fā)光面積不變的情況下，擴(kuò)大了蓋板的體積，同時也是TFT基板的體積增大，也就是說器件的整體面積增加，降低了切割率，大大增加了成本。第三種，不使用干燥劑。為了克服以上兩種方法的缺點，有了第三種方法，它不使用干燥劑，要求光敏膠(UV膠)涂覆厚度加寬。這種方法，簡化了制程，達(dá)到了克服上述兩種方法缺點的目的。但它只是起到隔絕外部水氧的問題，不能吸收內(nèi)部水氧，事實上，不能保證器件的正常使用，實驗制品尚可，實用性不是很強(qiáng)。鑒于以上三種方法的致命缺點存在，行業(yè)在尋找和研發(fā)更好更完善的方法。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本發(fā)明的目的是提供一種玻璃蓋板鍍膜的方法， 在密閉環(huán)境下對玻璃蓋板鍍膜，能滿足封裝精度要求，具有成本低，使用壽命長的特點。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案是這樣的
4
一種玻璃蓋板鍍膜的方法，采用蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板進(jìn)行鍍膜，該蒸鍍設(shè)備包括蒸發(fā)源8，蒸發(fā)源8內(nèi)配置有蒸發(fā)源槽和放置掩模板3的臺架，其方法包括如下步驟1)用有機(jī)溶劑清洗蒸鍍源1，清洗晾干后，在熱風(fēng)爐內(nèi)200士5°C溫度下干燥 110-130分鐘，向干凈并經(jīng)干燥后的蒸鍍源1中填充純度為99. 0 99. 9999%的堿金屬，并將填充堿金屬后的蒸鍍源1置入蒸發(fā)源8中的蒸發(fā)源槽中，關(guān)閉蒸發(fā)源8的腔門；所述的有機(jī)溶劑為丙酮或異丙；所述的堿金屬為鈣或鉀；2)蓋板清洗機(jī)對玻璃蓋板4進(jìn)行清洗，要求清洗干凈的玻璃蓋板對純水的表面接觸角，并將玻璃蓋板4放入蒸鍍腔2中的蓋板臺架上；3)將掩模板3放置在蒸鍍腔2內(nèi)的臺架上，啟動蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板4和掩模板 3進(jìn)行自動對位和接合；4)啟動蒸鍍腔2的真空系統(tǒng)，對蒸鍍腔2進(jìn)行抽真空，蒸鍍腔2的氣體壓力下降到 lX10’a時，開啟蒸鍍源1的加熱源5 ；5)當(dāng)蒸鍍腔2的真空度降到5X10_sPa，同時腔內(nèi)的溫度達(dá)到800°C時，打開蒸鍍源1的盒蓋，并打開氣閥6通入氧化性氣體，通入的氣體流量控制在5 7mL/min ；6)薄膜厚度由傳感器7檢測，并控制堿金屬的蒸鍍速率在0.3 lOnm/s，薄膜厚度達(dá)到10 200nm時，關(guān)閉氣閥6和加熱源5。所述的堿金屬的蒸發(fā)的蒸鍍速率通過調(diào)節(jié)加熱源5來控制。所述的蒸鍍腔2構(gòu)成密封環(huán)境，所以是在封閉腔體內(nèi)對玻璃蓋板進(jìn)行鍍膜，而且是在氧化性氣體的環(huán)境下緩慢蒸發(fā)堿金屬，所以本發(fā)明具有成本低，使用壽命長的特點。


附圖是蒸鍍腔體的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的作更詳細(xì)的說明。參照附圖，一種玻璃蓋板鍍膜的方法，包括如下步驟1)用有機(jī)溶劑清洗蒸鍍源1，清洗晾干后，在熱風(fēng)爐內(nèi)200士5°C溫度下干燥 110-130分鐘，向干凈并經(jīng)干燥后的蒸鍍源1中填充純度為99. O 99. 9999%的堿金屬，并將填充堿金屬后的蒸鍍源1置入蒸發(fā)源8中的蒸發(fā)源槽中，關(guān)閉蒸發(fā)源8的腔門；所述的有機(jī)溶劑為丙酮或異丙；所述的堿金屬為鈣或鉀；2)蓋板清洗機(jī)對玻璃蓋板4進(jìn)行清洗，要求清洗干凈的玻璃蓋板對純水的表面接觸角，并將玻璃蓋板4放入蒸鍍腔2中的蓋板臺架上；3)將掩模板3放置在蒸鍍腔2內(nèi)的臺架上，啟動蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板4和掩模板 3進(jìn)行自動對位和接合；4)啟動蒸鍍腔2的真空系統(tǒng)，對蒸鍍腔2進(jìn)行抽真空，蒸鍍腔2的氣體壓力下降到 lX10’a時，開啟蒸鍍源1的加熱源5 ；5)當(dāng)蒸鍍腔2的真空度降到5X10_sPa，同時腔內(nèi)的溫度達(dá)到800 °C時，打開蒸鍍源1的盒蓋，并打開氣閥6通入氧化性氣體，通入的氣體流量控制在5 7mL/min ；6)薄膜厚度由傳感器7檢測，并控制堿金屬的蒸鍍速率在0.3 lOnm/s，薄膜厚度達(dá)到10 200nm時，關(guān)閉氣閥6和加熱源5。所述的堿金屬純度99. 0 99. 9999%，氧化性氣體純度99. 99 99. 9999%，堿
金屬以鈣為主，氧化性氣體以氧氣為主。所述的堿金屬的蒸發(fā)的蒸鍍速率通過調(diào)節(jié)加熱源5來控制。所述的堿金屬的蒸鍍速率控制在0. 3 lOnm/s。實施例1一種玻璃蓋板鍍膜的方法，包括如下步驟1)用丙酮清洗蒸鍍源1，清洗晾干后，在熱風(fēng)爐內(nèi)195°C的溫度下干燥110分鐘，向干凈并經(jīng)干燥后的蒸鍍源1中填充純度為99. 99 99. 9999%的鈣，并將將填充鈣后的蒸鍍源1置入蒸發(fā)源8中的蒸發(fā)源槽中，關(guān)閉蒸發(fā)源8的腔門；2)蓋板清洗機(jī)對550*325mm的玻璃蓋板4進(jìn)行清洗，要求清洗干凈的玻璃蓋板對純水的表面接觸角為3°，并將玻璃蓋板4放入蒸鍍腔2中的蓋板臺架上；3)將掩模板3放置在蒸鍍腔2內(nèi)的臺架上，啟動蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板4和掩模板 3進(jìn)行自動對位和接合；4)啟動蒸鍍腔2的真空系統(tǒng)，對蒸鍍腔2進(jìn)行抽真空，蒸鍍腔2的氣體壓力下降到 lX10’a時，開啟蒸鍍源1的加熱源5 ；5)當(dāng)蒸鍍腔2的真空度降到5X10_sPa，同時腔內(nèi)的溫度達(dá)到800 °C時，打開蒸鍍源1的盒蓋，并打開氣閥6通入氧氣純度為99. 99 99. 9999%的氣體，通入的氣體流量為 5mL/min ；6)調(diào)節(jié)加熱源5控制鈣的蒸發(fā)速率控制在0. 3nm/s,薄膜厚度達(dá)到IOnm時，關(guān)閉氣閥6和加熱源5。實施例2一種玻璃蓋板鍍膜的方法，包括如下步驟1)用異丙清洗蒸鍍源1，清洗晾干后，在熱風(fēng)爐內(nèi)200°C的溫度下干燥120分鐘，向干凈并經(jīng)干燥后的蒸鍍源1中填充純度為99. 99 99. 9999%的鉀，并將填充鉀后的蒸鍍源 1置入蒸發(fā)源2中的蒸發(fā)源槽中，關(guān)閉蒸發(fā)源2的腔門；2)蓋板清洗機(jī)對550*325mm的玻璃蓋板4進(jìn)行清洗，要求清洗干凈的玻璃蓋板對純水的表面接觸角為4°，并將玻璃蓋板4放入蒸鍍腔2中的蓋板臺架上；3)將掩模板3放置在蒸鍍腔2內(nèi)的臺架上，啟動蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板4和掩模板 3進(jìn)行自動對位和接合；4)啟動蒸鍍腔2的真空系統(tǒng)，對蒸鍍腔2進(jìn)行抽真空，蒸鍍腔2的氣體壓力下降到 lX10’a時，開啟蒸鍍源1的加熱源5 ；5)當(dāng)蒸鍍腔2的真空度降到5X10_sPa，同時腔內(nèi)的溫度達(dá)到800°C時，打開蒸鍍源1的盒蓋，并打開氣閥6通入氧氣純度為99. 99 99. 9999%的氣體，通入的氣體流量為 6mL/min ；6)調(diào)節(jié)加熱源5控制鉀的蒸發(fā)速率控制在5nm/s，薄膜厚度達(dá)到50nm時，關(guān)閉氣閥6和加熱源5。實施例3一種玻璃蓋板鍍膜的方法，包括如下步驟
1)用異丙清洗蒸鍍源1，清洗晾干后，在熱風(fēng)爐內(nèi)205°C的溫度下干燥130分鐘，向干凈并經(jīng)干燥后的蒸鍍源1中填充純度為99. 99 99. 9999%的鈣，并將填充鈣后的蒸鍍源 1置入蒸發(fā)源2中的蒸發(fā)源槽中，關(guān)閉蒸發(fā)源2的腔門；2)蓋板清洗機(jī)對550*325mm的玻璃蓋板4進(jìn)行清洗，要求清洗干凈的玻璃蓋板對純水的表面接觸角為5°，并將玻璃蓋板4放入蒸鍍腔2中的蓋板臺架上；3)將掩模板3放置在蒸鍍腔2內(nèi)的臺架上，啟動蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板4和掩模板 3進(jìn)行自動對位和接合；4)啟動蒸鍍腔2的真空系統(tǒng)，對蒸鍍腔2進(jìn)行抽真空，蒸鍍腔2的氣體壓力下降到 lX10’a時，開啟蒸鍍源1的加熱源5 ；5)當(dāng)蒸鍍腔2的真空度降到5X10_5Pa，同時腔內(nèi)的溫度達(dá)到800°C時，打開蒸鍍源1的盒蓋，并打開氣閥6通入氧氣純度為99. 99 99. 9999%的氣體，通入的氣體流量為 7mL/min ；6)調(diào)節(jié)加熱源5控制鈣的蒸發(fā)速率控制在lOnm/s，薄膜厚度達(dá)到200nm時，關(guān)閉氣閥6和加熱源5。
權(quán)利要求
1.一種玻璃蓋板鍍膜的方法，采用蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板進(jìn)行鍍膜，該蒸鍍設(shè)備包括蒸發(fā)源(8)，蒸發(fā)源(8)內(nèi)配置有蒸發(fā)源槽和放置掩模板(3)的臺架，其特征在于其方法包括如下步驟1)用有機(jī)溶劑清洗蒸鍍源(1)，清洗晾干后，在熱風(fēng)爐內(nèi)200士5°C溫度下干燥110-130 分鐘，向干凈并經(jīng)干燥后的蒸鍍源(1)中填充純度為99. 0 99. 9999%的堿金屬，并將填充堿金屬后的蒸鍍源(1)置入蒸發(fā)源(8)中的蒸發(fā)源槽中，關(guān)閉蒸發(fā)源(8)的腔門；所述的有機(jī)溶劑為丙酮或異丙；所述的堿金屬為鈣或鉀；2)蓋板清洗機(jī)對玻璃蓋板(4)進(jìn)行清洗，要求清洗干凈的玻璃蓋板對純水的表面接觸角< 5°，并將玻璃蓋板(4)放入蒸鍍腔O)中的蓋板臺架上；3)將掩模板C3)放置在蒸鍍腔O)內(nèi)的臺架上，啟動蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板(4)和掩模板C3)進(jìn)行自動對位和接合；4)啟動蒸鍍腔(2)的真空系統(tǒng)，對蒸鍍腔(2)進(jìn)行抽真空，蒸鍍腔(2)的氣體壓力下降到lX10_3Pa時，開啟蒸鍍源(1)的加熱源(5)；5)當(dāng)蒸鍍腔O)的真空度降到5X10_5Pa，同時腔內(nèi)的溫度達(dá)到800°C時，打開蒸鍍源 (1)的盒蓋，并打開氣閥(6)通入氧化性氣體，通入的氣體流量控制在5 7mL/min ；6)薄膜厚度由傳感器(7)檢測，并控制堿金屬的蒸鍍速率在0.3 lOnm/s，薄膜厚度達(dá)到10 200nm時，關(guān)閉氣閥(6)和加熱源(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種玻璃蓋板鍍膜的方法，其特征在于包括如下步驟1)用丙酮清洗蒸鍍源(1)，清洗晾干后，在熱風(fēng)爐內(nèi)195°C的溫度下干燥110分鐘，向干凈并經(jīng)干燥后的蒸鍍源(1)中填充純度為99. 99 99. 9999%的鈣，并將將填充鈣后的蒸鍍源(1)置入蒸發(fā)源(8)中的蒸發(fā)源槽中，關(guān)閉蒸發(fā)源(8)的腔門；2)蓋板清洗機(jī)對550*325mm的玻璃蓋板(4)進(jìn)行清洗，要求清洗干凈的玻璃蓋板對純水的表面接觸角為3°，并將玻璃蓋板(4)放入蒸鍍腔O)中的蓋板臺架上；3)將掩模板C3)放置在蒸鍍腔O)內(nèi)的臺架上，啟動蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板(4)和掩模板C3)進(jìn)行自動對位和接合；4)啟動蒸鍍腔(2)的真空系統(tǒng)，對蒸鍍腔(2)進(jìn)行抽真空，蒸鍍腔(2)的氣體壓力下降到lX10_3Pa時，開啟蒸鍍源(1)的加熱源(5)；5)當(dāng)蒸鍍腔O)的真空度降到5X10_5Pa，同時腔內(nèi)的溫度達(dá)到800°C時，打開蒸鍍源 (1)的盒蓋，并打開氣閥(6)通入氧氣純度為99. 99 99. 9999%的氣體，通入的氣體流量為 5mL/min ；6)調(diào)節(jié)加熱源(5)控制鈣的蒸發(fā)速率控制在0.3nm/s，薄膜厚度達(dá)到IOnm時，關(guān)閉氣閥(6)和加熱源(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種玻璃蓋板鍍膜的方法，其特征在于包括如下步驟1)用異丙清洗蒸鍍源(1)，清洗晾干后，在熱風(fēng)爐內(nèi)200°c的溫度下干燥120分鐘，向干凈并經(jīng)干燥后的蒸鍍源(1)中填充純度為99. 99 99. 9999%的鉀，并將填充鉀后的蒸鍍源 (1)置入蒸發(fā)源O)中的蒸發(fā)源槽中，關(guān)閉蒸發(fā)源O)的腔門；2)蓋板清洗機(jī)對550*325mm的玻璃蓋板(4)進(jìn)行清洗，要求清洗干凈的玻璃蓋板對純水的表面接觸角為4°，并將玻璃蓋板(4)放入蒸鍍腔O)中的蓋板臺架上；3)將掩模板C3)放置在蒸鍍腔O)內(nèi)的臺架上，啟動蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板(4)和掩模板C3)進(jìn)行自動對位和接合；4)啟動蒸鍍腔(2)的真空系統(tǒng)，對蒸鍍腔(2)進(jìn)行抽真空，蒸鍍腔(2)的氣體壓力下降到lX10_3Pa時，開啟蒸鍍源(1)的加熱源(5)；5)當(dāng)蒸鍍腔O)的真空度降到5X10_5Pa，同時腔內(nèi)的溫度達(dá)到800°C時，打開蒸鍍源 (1)的盒蓋，并打開氣閥(6)通入氧氣純度為99. 99 99. 9999%的氣體，通入的氣體流量為 6mL/min ；6)調(diào)節(jié)加熱源(5)控制鉀的蒸發(fā)速率控制在5nm/s，薄膜厚度達(dá)到50nm時，關(guān)閉氣閥 (6)和加熱源(5)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種玻璃蓋板鍍膜的方法，其特征在于包括如下步驟1)用異丙清洗蒸鍍源(1)，清洗晾干后，在熱風(fēng)爐內(nèi)205°C的溫度下干燥130分鐘，向干凈并經(jīng)干燥后的蒸鍍源(1)中填充純度為99. 99 99. 9999%的鈣，并將填充鈣后的蒸鍍源 (1)置入蒸發(fā)源O)中的蒸發(fā)源槽中，關(guān)閉蒸發(fā)源O)的腔門；2)蓋板清洗機(jī)對550*325mm的玻璃蓋板(4)進(jìn)行清洗，要求清洗干凈的玻璃蓋板對純水的表面接觸角為5°，并將玻璃蓋板(4)放入蒸鍍腔O)中的蓋板臺架上；3)將掩模板C3)放置在蒸鍍腔O)內(nèi)的臺架上，啟動蒸鍍設(shè)備對玻璃蓋板(4)和掩模板C3)進(jìn)行自動對位和接合；4)啟動蒸鍍腔(2)的真空系統(tǒng)，對蒸鍍腔(2)進(jìn)行抽真空，蒸鍍腔(2)的氣體壓力下降到lX10_3Pa時，開啟蒸鍍源(1)的加熱源(5)；5)當(dāng)蒸鍍腔O)的真空度降到5X10_5Pa，同時腔內(nèi)的溫度達(dá)到800°C時，打開蒸鍍源 (1)的盒蓋，并打開氣閥(6)通入氧氣純度為99. 99 99. 9999%的氣體，通入的氣體流量為 7mL/min ；6)調(diào)節(jié)加熱源(5)控制鈣的蒸發(fā)速率控制在lOnm/s，薄膜厚度達(dá)到200nm時，關(guān)閉氣閥(6)和加熱源(5)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種玻璃蓋板鍍膜的方法，其特征在于所述的堿金屬的蒸發(fā)的蒸鍍速率通過調(diào)節(jié)加熱源( 來控制。
全文摘要
一種玻璃蓋板鍍膜的方法，用有機(jī)溶劑清洗蒸鍍源，清洗晾干后，在熱風(fēng)爐內(nèi)205℃溫度下干燥110分鐘，向蒸鍍源中填充高純度堿金屬，并將蒸鍍源置入蒸發(fā)源中的蒸發(fā)源槽中，對玻璃蓋板進(jìn)行清洗；給蒸鍍腔裝入掩模板，系統(tǒng)對玻璃蓋板和掩模板進(jìn)行對位和接合；蒸鍍腔的氣體壓力下降到1×10-3Pa時，開啟蒸鍍源的加熱源；當(dāng)蒸鍍腔的真空度降到5×10-5Pa，同時腔內(nèi)的溫度達(dá)到800℃時，并打開氣閥通入氧化性氣體；薄膜厚度達(dá)到10～200nm時，關(guān)閉氣閥和加熱源，所述的蒸鍍腔構(gòu)成密封環(huán)境，在氧化性氣體的環(huán)境下緩慢蒸發(fā)堿金屬，所以本發(fā)明具有成本低，使用壽命長的特點。
文檔編號C23C14/08GK102268641SQ20111017970
公開日2011年12月7日 申請日期2011年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月29日
發(fā)明者趙建明 申請人:彩虹(佛山)平板顯示有限公司