專利名稱：一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種拋光加工機床，屬于研拋加工技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
隨著現(xiàn)代科學技術(shù)的日益發(fā)展，在國防、航空航天及電子行業(yè)、生物醫(yī)療等領(lǐng)域，需要各種高精度高表面質(zhì)量的零件，這些高精度零件其面型要求達到亞微米級的形狀精度、納米級的表面粗糙度和極小的亞表層損傷。這類零件在經(jīng)過直接成形或采用單點金剛石切削、超精密磨削之后，還需對其表面進行超精密研拋加工，以進一步提高其加工精度和零件使用性能。對于一些形狀較為簡單、尺度較大零件的加工，目前常采用磁流變拋光的方法對其實現(xiàn)超精密拋光加工，其磁流變拋光原理主要是通過拋光輪帶動含有磨料的磁流變液在電磁鐵產(chǎn)生的梯度磁場環(huán)境下形成柔性緞帶，來對工件進行確定性拋光去除加工。磁流變拋光不會有工具磨損，磁流體的流動對工件形狀的適應(yīng)性好，加工熱量會及時被帶走，并且能達到納米級的加工表面質(zhì)量。但是對于一些小口徑非球面零件，通常其結(jié)構(gòu)形狀較為復雜,如一種Ψ形元件,其待加工表面包括中心支撐桿和內(nèi)、外球殼表面,并且曲面過渡部分曲率半徑較小，其最小曲率半徑要求小到2mm左右?，F(xiàn)階段，常規(guī)的磁流變拋光采用“拋光輪、電磁鐵”拋光形式來制備拋光頭工具，由于其制作的拋光頭形狀受拋光輪直徑的限制不能小至一定程度，無法接觸到異形零件如Ψ形待加工小口徑非球曲面的各個位置，因而不能滿足加工零件對其形狀和尺度精度的要求。對于這類零件的加工，需要采用小尺寸的特殊研拋工具頭，并設(shè)計相應(yīng)結(jié)構(gòu)形式的拋光加工機床，使其滿足拋光加工所需的位置和運動關(guān)系條件。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決利用現(xiàn)有的拋光加工設(shè)備在加工工件時無法接觸到待加工小口徑非球曲面的各個位置，因而不能滿足加工零件的形狀和尺度精度要求的問題，進而提供了一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床。本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題采取的技術(shù)方案是:本發(fā)明所述的一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床包括超精密加工用工件軸數(shù)控運動平臺裝置和垂直軸轉(zhuǎn)臺倒掛式斜軸磁流變研拋裝置；超精密加工用工件軸數(shù)控運動平臺裝置包括XY精密移動平臺、機床底座、蓋板、風琴防護罩、工作臺、工件主軸支架、工件主軸、CCD對刀裝置和回液槽；XY精密移動平臺含有X軸直線單元和Y軸直線單元，X軸直線單元置于Y軸直線單元上；機床底座上設(shè)有用于容納XY精密移動平臺的容腔，XY精密移動平臺置于機床底座的容腔內(nèi)，工作臺安裝在XY精密移動平臺的X軸直線單元的上端面上，容腔的四周設(shè)有蓋板，工作臺的邊緣與蓋板之間設(shè)有風琴防護罩，容腔的上部敞口通過工作臺、工作臺四周的蓋板以及工作臺與蓋板之間的風琴防護罩蓋住，將所述XY精密移動平臺封裝在容腔內(nèi)；工件主軸通過工件主軸支架安裝在工作臺上，且工件主軸的軸線與X軸直線單元的運動軸線平行，回液槽設(shè)置在工作臺上用于回收磁流變液；CCD對刀裝置安裝在蓋板上；垂直軸轉(zhuǎn)臺倒掛式斜軸磁流變研拋裝置包括龍門架、Z軸直線單元、直角連接架、轉(zhuǎn)臺、二維精密微調(diào)位移臺、拋光頭主軸、拋光頭主軸支架和拋光工具；拋光工具由永磁式拋光頭和拋光頭連接桿組成；Z軸直線單元安裝在龍門架上，轉(zhuǎn)臺通過直角連接架安裝在Z軸直線單元上，轉(zhuǎn)臺內(nèi)的轉(zhuǎn)動軸的軸端通過二維精密微調(diào)位移臺與拋光頭主軸支架連接，拋光頭主軸支架具有一定傾角使安裝在拋光頭主軸支架上的拋光頭主軸與水平面的夾角為40度至45度，拋光頭連接桿的一端安裝在拋光頭主軸的夾頭上，拋光頭連接桿的另一端與永磁式拋光頭連接；Z軸直線單元與XY精密移動平臺構(gòu)成三維坐標系；龍門架安裝在機床底座上；利用二維精密微調(diào)位移臺和CCD對刀裝置調(diào)整永磁式拋光頭的空間位置，使永磁式拋光頭的球心位于轉(zhuǎn)臺的回轉(zhuǎn)軸線上，CCD對刀裝置用于觀測永磁式拋光頭相對于工件的加工位置并通過Z軸直線單元、XY精密移動平臺時實調(diào)整二者的相對位置，完成工件加工前的對刀。本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明針對現(xiàn)有磁流變拋光技術(shù)存在的不足，提供一種小口徑非球面磁流變拋光加工機床，該機床的垂直軸為轉(zhuǎn)臺倒掛式斜軸磁流變研拋裝置，其拋光工具采用小直徑永磁體球形拋光頭，水平軸為精密二維運動平臺裝置。利用高精度的多軸運動控制器可以實現(xiàn)其四軸聯(lián)動，完成拋光加工所需的位置和運動關(guān)系條件，有效避免拋光工具頭和工件各加工表面間的干涉。并結(jié)合高分辨率的CCD攝像頭對刀裝置，可有效完成加工前的高精度對刀操作。特別適用于高精度小口徑非球面零件的超精密拋光加工、高效制造與穩(wěn)定生產(chǎn)。本發(fā)明所述機床經(jīng)試制試用被證明效果顯著，完全達到設(shè)計要求，機床X-Y軸設(shè)計行程為IOOmmX 100mm,在加工范圍50mmX 50mm內(nèi)，直線度< 3 μ m,閉環(huán)后的定位精度彡±0.3μπι;Ζ軸設(shè)計行程50mm，在加工范圍±10mm內(nèi)，直線度彡3μπι，定位精度(±0.4μπι;拋光頭主軸和工件主軸的跳動< Ιμπι。使用該機床加工的零件表面粗糙度
IOnm,面形精度優(yōu)于0.4 μ m。本發(fā)明的具體優(yōu)點表現(xiàn)在以下幾個方面:1、拋光工具采用小直徑永磁體球形拋光頭，便于接觸到待加工曲面的各個位置，特別適用于小口徑非球面零件的加工；2、研拋裝置采用轉(zhuǎn)臺倒掛式斜軸加工方式，拋光工具可隨轉(zhuǎn)臺的旋轉(zhuǎn)改變空間位置，有效避免拋光工具和工件各加工表面間的干涉，且通過調(diào)整拋光頭球心與轉(zhuǎn)臺回轉(zhuǎn)中心線的重合，可以保證拋光頭的空間位置不變，便于滿足加工軌跡的要求；3、采用高分辨率的CXD攝像頭進行精確對刀，結(jié)合對心調(diào)整裝置，便于完成加工前的高精度對刀調(diào)整，提高了對刀精度，縮短對刀時間；4、采用高精度的直線單元和旋轉(zhuǎn)單元作為該機床的主要運動部件，配以多軸控制器對四個聯(lián)動軸進行閉環(huán)的運動控制，使機床具有很高的運動精度。


圖1是本發(fā)明的立體圖；圖2是本發(fā)明的主視圖；圖3是圖2的左視圖，圖3-1是圖3的A向局部視圖；圖4是圖2的俯視圖。
具體實施例方式具體實施方式
一:如圖1 4所不,本實施方式所述的一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床包括超精密加工用工件軸數(shù)控運動平臺裝置和垂直軸轉(zhuǎn)臺倒掛式斜軸磁流變研拋裝置；超精密加工用工件軸數(shù)控運動平臺裝置包括XY精密移動平臺、機床底座1、蓋板2、風琴防護罩3、工作臺4、工件主軸支架7、工件主軸8、(XD對刀裝置17和回液槽18 ；XY精密移動平臺含有X軸直線單元6和Y軸直線單元5，X軸直線單元6置于Y軸直線單元5上；機床底座I上設(shè)有用于容納XY精密移動平臺的容腔1-1，XY精密移動平臺置于機床底座I的容腔1-1內(nèi)，工作臺4安裝在XY精密移動平臺的X軸直線單元6的上端面上，容腔1-1的四周設(shè)有蓋板2，工作臺4的邊緣與蓋板2之間設(shè)有風琴防護罩3，容腔1-1的上部敞口通過工作臺4、工作臺4四周的蓋板2以及工作臺4與蓋板2之間的風琴防護罩3蓋住，將所述XY精密移動平臺封裝在容腔1-1內(nèi)；工件主軸8通過工件主軸支架7安裝在工作臺4上，且工件主軸8的軸線與X軸直線單元6的運動軸線平行，回液槽18設(shè)置在工作臺4上用于回收磁流變液；(XD對刀裝置17安裝在蓋板2上；垂直軸轉(zhuǎn)臺倒掛式斜軸磁流變研拋裝置包括龍門架9、Z軸直線單元10、直角連接架11、轉(zhuǎn)臺12、二維精密微調(diào)位移臺13、拋光頭主軸14、拋光頭主軸支架15和拋光工具16 ;拋光工具16由永磁式拋光頭16-1和拋光頭連接桿16-2組成；Z軸直線單元10安裝在龍門架9上，轉(zhuǎn)臺12通過直角連接架11安裝在Z軸直線單元10上，轉(zhuǎn)臺12內(nèi)的轉(zhuǎn)動軸的軸端通過二維精密微調(diào)位移臺13與拋光頭主軸支架15連接，拋光頭主軸支架15具有一定傾角使安裝在拋光頭主軸支架15上的拋光頭主軸14與水平面的夾角為40度至45度，拋光頭連接桿16-2的一端安裝在拋光頭主軸14的夾頭上，拋光頭連接桿16-2的另一端與永磁式拋光頭16-1連接；Z軸直線單元10與XY精密移動平臺構(gòu)成三維坐標 系；龍門架9安裝在機床底座I上；利用二維精密微調(diào)位移臺13和CXD對刀裝置17調(diào)整永磁式拋光頭16-1的空間位置，使永磁式拋光頭16-1的球心位于轉(zhuǎn)臺12的回轉(zhuǎn)軸線上，C⑶對刀裝置17用于觀測永磁式拋光頭16-1相對于工件的加工位置并通過Z軸直線單元10、XY精密移動平臺時實調(diào)整二者的相對位置，完成工件加工前的對刀。
具體實施方式
二:如圖1 4所7 ，本實施方式所述永磁式拋光頭16-1為小直徑永磁體球形拋光頭，目前所使用的直徑為Φ 3.5mm Φ 4mm,形狀精度優(yōu)于0.02mm,表面磁場強度0.5 0.75T。其它組成及連接關(guān)系與具體實施方式
一相同。
具體實施方式
三:如圖1 4所不,本實施方式所述永磁式拋光頭16-1的直徑范圍可擴展至Φ2_ Φ6_。其它組成及連接關(guān)系與具體實施方式
一相同。
具體實施方式
四:如圖1 4所示，本實施方式所述轉(zhuǎn)臺12內(nèi)的轉(zhuǎn)動軸的軸端通過過渡安裝板19與二維精密微調(diào)位移臺13連接。其它組成及連接關(guān)系與具體實施方式
一、二或三相同。
具體實施方式
五:如圖1 4所示，本實施方式所述5、根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床，其特征在于:所述XY精密移動平臺采用美國Parker公司的直線電機平臺404T01LXR,所述Z軸直線單元10采用美國Parker公司的滾珠絲杠平臺404T01XR。其它組成及連接關(guān)系與具體實施方式
一、二或三相同。
具體實施方式
六:如圖1 4所示，本實施方式所述拋光頭主軸14采用日本NSK公司的精密電主軸EMR-3008K，所述工件主軸8采用日本NSK公司的精密電主軸NR50-5100ATC。其它組成及連接關(guān)系與具體實施方式
五相同。所述機床經(jīng)試制試用被證明效果顯著，完全達到設(shè)計要求，機床X-Y軸設(shè)計行程為IO Omm X IO Omm，在加工范圍50mmX 50mm內(nèi)，直線度< 3 μ m,閉環(huán)后的定位精度< ±0.3 μ m ;Z軸設(shè)計行程50mm,在加工范圍±10mm內(nèi)，直線度彡3μπι，定位精度彡±0.4 μ m ;拋光頭主軸和工件主軸的跳動^ Ium0使用該機床加工的零件表面粗糙度彡IOnm,面形精度優(yōu)于0.4 μ m。
具體實施方式
七:如圖1 4所示，本實施方式所述機床底座I由花崗巖材料制成。其它組成及連接關(guān)系與具體實施方式
六相同。針對本發(fā)明再進行如下闡述:機床底座I由花崗巖材料制成，其下層是一個大平臺，上層周邊由四個擋塊包圍。由于花崗巖具有很好的吸收振動的性能，因而可以提高機床的動態(tài)性能。在機床底座I上安裝一塊同樣由花崗巖材料制成的豎直件9,機床底座I和豎直件9之間是用內(nèi)六角螺釘聯(lián)接的。在機床底座I上通過螺釘聯(lián)接著Y軸直線單元5，在Y軸直線單元5的運動部件上安裝有X軸直線單元6。兩個直線單元通過其內(nèi)部直線電機的電磁推力驅(qū)動，可分別沿床體的X軸和Y軸方向自由往復平移。為了保證機床整體的精度，在安裝過程中，必須保證Y軸直線單元5的運動軸線與豎直件9的主安裝面嚴格垂直。X軸直線單元6與Y軸直線單元5通過定位銷固定聯(lián)接在一起，X軸直線單元6與Y軸直線單元5的運動軸線必須保證嚴格的垂直，以確保機床的整體性能良好。在X軸直線單元6的運動部件上聯(lián)接著工作臺4，在工作臺4上設(shè)置有工件主軸支架7和回液槽18。工件主軸8安裝在工件主軸支架7上，帶動工件實現(xiàn)高精度的回轉(zhuǎn)運動。在機床底座I上表面內(nèi)側(cè)安裝有蓋板2，在蓋板2和工作臺4之間設(shè)置有X向和Y向風琴防護罩3，蓋板2和風琴防護罩3可以起到防塵和防護飛濺的磁流變液的作用。在蓋板2上安裝有高分辨率的CCD對刀裝置17，可以監(jiān)測拋光頭和工件所在區(qū)域，進行加工前的高精度對刀操作。在豎直件9的主安裝面上，通過螺釘聯(lián)接著Z軸直線單元10，在安裝過程中，必須保證Z軸直線單元10 的運動軸線與機床底座I安裝面嚴格垂直。Z軸直線單元10通過內(nèi)部的旋轉(zhuǎn)電機帶動精密滾珠絲杠驅(qū)動，可以在Z軸方向自由往復平移。在Z軸直線單元10的運動部件上聯(lián)接著直角連接架11，轉(zhuǎn)臺12通過螺釘聯(lián)接倒掛在直角連接架11的下方。轉(zhuǎn)臺下方設(shè)置有二維精密微調(diào)位移臺13，在二維精密微調(diào)位移臺13下方聯(lián)接著拋光頭主軸支架15。拋光頭主軸14安裝在拋光頭主軸支架15中，帶動拋光頭16進行高速回轉(zhuǎn)運動，其回轉(zhuǎn)軸線在空間上與水平面成40° 45°夾角，構(gòu)成斜軸加工方式，有利于避免加工過程中拋光工具和工件各加工表面間的干涉，同時拋光工具采用小直徑永磁體球形拋光頭，其直徑范圍在Φ3.5mm Φ4ι πι(可擴展至Φ2_ Φ6mm),適用于小口徑零件的加工。本發(fā)明工作原理與操作方法:該機床為四軸聯(lián)動磁流變拋光加工機床，包括三個直線移動軸和一個旋轉(zhuǎn)軸，另外還有獨立于四軸之外的工件主軸和拋光頭主軸。每個直線移動軸和旋轉(zhuǎn)軸以及電主軸都有獨立的驅(qū)動器，其中四個聯(lián)動軸的驅(qū)動器和其反饋信號線都與多軸控制器進行聯(lián)接。該多軸控制器可以對每個聯(lián)動軸進行單獨控制或聯(lián)動控制，多軸控制器和各聯(lián)動軸、驅(qū)動器以及光柵構(gòu)成了一個閉環(huán)的四軸聯(lián)動控制系統(tǒng)。通過上位機將加工代碼或控制信號傳送給多軸控制器，來實現(xiàn)拋光加工運動。首先，將機床各直線單元、旋轉(zhuǎn)單元及電主軸的驅(qū)動線和信號線分別與相應(yīng)的驅(qū)動器進行聯(lián)接，再將直線單元和旋轉(zhuǎn)單元的反饋線以及驅(qū)動器的信號線與多軸控制器進行聯(lián)接，最后再將多軸控制器與上位機進行聯(lián)接，以構(gòu)成一個完整的硬件系統(tǒng)。其次，將工件裝夾到工件主軸8上，在裝夾過程中，必須保證裝夾的有效定位和可靠夾緊。然后，對整個控制系統(tǒng)進行上電，并對該機床的各個聯(lián)動軸進行回零操作。在加工過程中，為避免拋光工具頭和工件各加工表面間的干涉，拋光工具可以隨轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)以改變空間位置，同時為保證拋光頭相對工件的加工點位置不變，需要調(diào)整拋光頭球心與轉(zhuǎn)臺回轉(zhuǎn)中心線重合，這里利用二維精密微調(diào)位移臺13來帶動拋光頭主軸進行對心調(diào)整。由于拋光頭球心和轉(zhuǎn)臺回轉(zhuǎn)中心的空間位置難以確定，人工手動對刀往往需要花費很長時間用于微調(diào)，且對刀精度不高，因此本機床采用高分辨率的CCD對刀裝置監(jiān)測對刀區(qū)域，通過合理的操作步驟，來完成拋光頭16相對轉(zhuǎn)臺12的對心調(diào)整，以及對工件位置的對刀操作，可以有效減少短對刀時間并提高對刀精度。最后，在拋光工具頭上方供給磁流變液體，將工件加工代碼導入到上位機，開始進行工件的拋光加工。工件隨工件主軸8做低速回轉(zhuǎn)運動，在X、Y軸直線運動單元等組成的精密二維運動平臺裝置的帶動下完成加工軌跡的運動；加工過程中，拋光頭在Z軸直線單元和轉(zhuǎn)臺的帶動下可做沿Z軸的直線運動和繞Z軸的空間回轉(zhuǎn)運動，用以完成拋光加工所需的位置和運動關(guān)系條件，有效避免拋光工具頭和工件各加工表面間的干涉。
權(quán)利要求
1.一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床，其特征在于:所述機床包括超精密加工用工件軸數(shù)控運動平臺裝置和垂直軸轉(zhuǎn)臺倒掛式斜軸磁流變研拋裝置； 超精密加工用工件軸數(shù)控運動平臺裝置包括XY精密移動平臺、機床底座(I)、蓋板(2)、風琴防護罩(3)、工作臺⑷、工件主軸支架(7)、工件主軸⑶、C⑶對刀裝置(17)和回液槽(18) ;XY精密移動平臺含有X軸直線單元(6)和Y軸直線單元(5)，X軸直線單元(6)置于Y軸直線單元(5)上； 機床底座(I)上設(shè)有用于容納XY精密移動平臺的容腔(1-1)，XY精密移動平臺置于機床底座(I)的容腔(1-1)內(nèi)，工作臺(4)安裝在XY精密移動平臺的X軸直線單元(6)的上端面上，容腔(1-1)的四周設(shè)有蓋板(2)，工作臺(4)的邊緣與蓋板(2)之間設(shè)有風琴防護罩(3)，容腔(1-1)的上部敞口通過工作臺(4)、工作臺(4)四周的蓋板(2)以及工作臺(4)與蓋板(2)之間的風琴防護罩(3)蓋住，將所述XY精密移動平臺封裝在容腔(1-1)內(nèi)；工件主軸(8)通過工件主軸支架(7)安裝在工作臺(4)上，且工件主軸(8)的軸線與X軸直線單元(6)的運動軸線平行，回液槽(18)設(shè)置在工作臺(4)上用于回收磁流變液；CCD對刀裝置(17)安裝在蓋板(2)上； 垂直軸轉(zhuǎn)臺倒掛式斜軸磁流變研拋裝置包括龍門架(9)、Z軸直線單元(10)、直角連接架(11)、轉(zhuǎn)臺(12)、二維精密微調(diào)位移臺(13)、拋光頭主軸(14)、拋光頭主軸支架(15)和拋光工具(16);拋光工具(16)由永磁式拋光頭(16-1)和拋光頭連接桿(16-2)組成； Z軸直線單元(10)安裝在龍門架(9)上，轉(zhuǎn)臺(12)通過直角連接架(11)安裝在Z軸直線單元(10)上，轉(zhuǎn)臺(12)內(nèi)的轉(zhuǎn)動軸的軸端通過二維精密微調(diào)位移臺(13)與拋光頭主軸支架(15)連接，拋光頭主軸支架(15)具有一定傾角使安裝在拋光頭主軸支架(15)上的拋光頭主軸(14)與水平面的夾角為40度至45度，拋光頭連接桿(16-2)的一端安裝在拋光頭主軸(14)的夾頭上,拋光頭連接桿(16-2)的另一端與永磁式拋光頭(16-1)連接； Z軸直線單元(10)與XY精密移動平臺構(gòu)成三維坐標系；龍門架(9)安裝在機床底座(I)上；利用二維精密微調(diào)位移臺(13)和CCD對刀裝置(17)調(diào)整永磁式拋光頭(16-1)的空間位置，使永磁式拋光頭(16-1)的球心位于轉(zhuǎn)臺(12)的回轉(zhuǎn)軸線上，CCD對刀裝置(17)用于觀測永磁式拋光頭(16-1)相對于工件的加工位置并通過Z軸直線單元(10)、XY精密移動平臺時實調(diào)整二者的相對位置，完成工件加工前的對刀。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床，其特征在于:永磁式拋光頭(16-1)為小直徑永磁體球形拋光頭，其直徑為Φ3.5mm Φ 4mm,形狀精度優(yōu)于0.02mm,表面磁場強度0.5 0.75T。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床，其特征在于:所述永磁式拋光頭(16-1)的直徑范圍可擴展至Φ2ι πι Φ6ι πι。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床，其特征在于:轉(zhuǎn)臺(12)內(nèi)的轉(zhuǎn)動軸的軸端通過過渡安裝板(19)與二維精密微調(diào)位移臺(13)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床，其特征在于:所述XY精密移動平臺采用美國Parker公司的直線電機平臺404T01LXR，所述Z軸直線單元(10)采用美國Parker公司的滾珠絲杠平臺404T01XR。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床，其特征在于:所述拋光頭主軸(14)采用日本NSK公司的精密電主軸EMR-3008K，所述工件主軸(8)采用日本NSK公司的精密電主軸NR50-5100ATC。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床，其特征在于:所述機床底座(I)由 花崗巖材料制成。
全文摘要
一種小口徑非球面永磁式磁流變拋光加工機床，屬于研拋加工技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明為了解決利用現(xiàn)有的拋光加工設(shè)備在加工工件時無法接觸到待加工小口徑非球曲面的各個位置，因而不能滿足加工零件的形狀和尺度精度要求的問題。工作臺安裝在XY精密移動平臺的X軸直線單元上，工作臺的邊緣與蓋板之間設(shè)有風琴防護罩，工件主軸通過工件主軸支架安裝在工作臺上；Z軸直線單元安裝在龍門架上，轉(zhuǎn)臺通過直角連接架安裝在Z軸直線單元上，轉(zhuǎn)臺內(nèi)的轉(zhuǎn)動軸的軸端通過二維精密微調(diào)位移臺與拋光頭主軸支架連接，拋光頭主軸支架具有一定傾角使安裝在拋光頭主軸支架上的拋光頭主軸與水平面的夾角為40度至45度。適用于高精度小口徑非球面零件的超精密拋光加工。
文檔編號B24B41/04GK103072047SQ201210571678
公開日2013年5月1日 申請日期2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月26日
發(fā)明者陳明君, 劉赫男, 郭占玥, 于霖, 方針, 吳春亞, 蘇銀蕊 申請人:哈爾濱工業(yè)大學