一種增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，包括以下步驟：第一步：前處理，將釹鐵硼永磁體進行除油、漂洗；第二步：電鍍金屬鎳膜層，在釹鐵硼永磁體表面鍍上一層金屬鎳膜層；第三步：在金屬鎳膜層表面再鍍一層二氧化硅薄膜。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：先在釹鐵硼永磁體表面電鍍金屬鎳膜層，再通過蒸發(fā)鍍膜的加工工藝在鎳鍍層表面鍍上一層二氧化硅薄膜，可以有效地減少膜層孔隙率，使鍍膜的表面變得致密，明顯增強了釹鐵硼永磁體的防腐性能，同時二氧化硅薄膜層的厚度不會明顯增大，不會影響其磁性輸出，并且在生產(chǎn)的過程中安全環(huán)保，符合國家的環(huán)保要求。
【專利說明】一種增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于材料的表面處理【技術(shù)領(lǐng)域】，涉及一種增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]釹鐵硼磁鐵的優(yōu)點是性價比高，具良好的機械特性；不足之處在于居里溫度點低，溫度特性差，且易于粉化腐蝕，必須通過調(diào)整其化學(xué)成分和采取表面處理方法使之得以改進，才能達到實際應(yīng)用的要求。
[0003]釹鐵硼永磁體中的釹是一種稀土元素，化學(xué)活性很強，在空氣中容易被氧化，耐蝕性差，并且在釹鐵硼永磁材料中富B相、富Nd相、Nd2Fe14B相的電化學(xué)電位各不相同，富Nd相和富B相電極電位低于基體Nd2Fe14B相，在濕熱的環(huán)境中形成電化學(xué)微電池，富Nd相和富B相首先被腐蝕，嚴重時，產(chǎn)生大量Nd的氧化物和氫化物使材料粉化，從而導(dǎo)致磁體的性能下降。所以一般都在釹鐵硼永磁體的表面鍍上防腐層。釹鐵硼永磁體上的防腐鍍層大多是鎳鍍層，鎳鍍層是陰極性鍍層，無電化學(xué)保護作用，當鍍層存在孔隙時，基體會首先受到腐蝕，因而只有鍍層在致密無孔的情況下才起到保護作用。鍍層越薄，孔隙率就越高，要保證鎳鍍層的防腐蝕性，一般情況下鍍層要達到20um以上。但是金屬鎳膜層太厚會屏蔽釹鐵硼永磁體的磁性輸出，影響其使用效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明需要解決的上述問題是針對上述現(xiàn)有技術(shù)鍍層薄，孔隙率高，防腐蝕性差；鍍層厚會屏蔽釹鐵硼永磁體的磁性輸出，影響其使用效果的不足，而提供一種鍍層薄而且防腐蝕性能強的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，包括以下步驟:
第一步:前處理，將釹鐵硼永磁體進行除油、漂洗；
第二步:電鍍金屬鎳膜層，在釹鐵硼永磁體表面鍍上一層金屬鎳膜層；
第三步:在金屬鎳膜層表面再鍍一層二氧化硅薄膜。
[0006]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，前處理的加工工藝為，先用丙酮溶液超聲清洗釹鐵硼永磁體20分鐘-25分鐘，取出后再用無水乙醇超聲清洗10分鐘-15分鐘，吹干備用。
[0007]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，電鍍金屬鎳膜層的加工工藝為，把清洗好的釹鐵硼永磁體置于鍍鎳溶液之中，在溫度為:45°C -55°C,pH=4.0-5.0的條件下進行電鍍鎳，電流密度為lA/dm2-l.2A/dm2，電鍍時間為30min_45min。
[0008]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，鍍二氧化硅薄膜采用的加工工藝為蒸發(fā)鍍膜。
[0009]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，所述的蒸發(fā)鍍膜加工工藝為，用真空電子束蒸發(fā)鍍膜機，釹鐵硼永磁體的溫度控制在2 20°C -2 50°C，真空度保持在
6.67 X KT3Pa-L 07 X 10_2Pa，電子槍的轟擊電流控制在4.0A-4.5A之間，加速極電壓3000V-3200V，在此條件下進行蒸發(fā)鍍膜20秒-25秒。
[0010]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，所述的二氧化硅薄膜層的厚度為50nm_80nmo
[0011 ] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是:先在釹鐵硼永磁體表面電鍍金屬鎳膜層，再通過蒸發(fā)鍍膜的加工工藝在鎳鍍層表面鍍上一層二氧化硅薄膜，可以有效地減少膜層孔隙率，使鍍膜的表面變得致密，明顯增強了釹鐵硼永磁體的防腐性能，同時二氧化硅薄膜層的厚度不會明顯增大，不會影響其磁性輸出，并且在生產(chǎn)的過程中安全環(huán)保，符合國家的環(huán)保要求。
【具體實施方式】[0012]下面詳細說明本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案。
[0013]實施例1
一種增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，包括以下步驟:
第一步:前處理，將釹鐵硼永磁體進行除油、漂洗；
第二步:電鍍金屬鎳膜層，在釹鐵硼永磁體表面鍍上一層金屬鎳膜層；
第三步:在金屬鎳膜層表面再鍍一層二氧化硅薄膜。
[0014]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，前處理的加工工藝為，先用丙酮溶液超聲清洗釹鐵硼永磁體20分鐘，取出后再用無水乙醇超聲清洗10分鐘，吹干備用。
[0015]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，電鍍金屬鎳膜層的加工工藝為，把清洗好的釹鐵硼永磁體置于鍍鎳溶液之中，在溫度為:50°C，pH=4.5的條件下進行電鍍鎳，電流密度為I A/dm2，電鍍時間為30min。
[0016]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，鍍二氧化硅薄膜采用的加工工藝為蒸發(fā)鍍膜。
[0017]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，所述的蒸發(fā)鍍膜加工工藝為，用真空電子束蒸發(fā)鍍膜機，釹鐵硼永磁體的溫度控制在220°C，真空度保持在8 X 10?,電子槍的轟擊電流控制在4.0A之間，加速極電壓3000V，在此條件下進行蒸發(fā)鍍膜20秒。
[0018]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，所述的二氧化硅薄膜層的厚度為50nm,膜層厚度較薄,不會影響釹鐵硼永磁體的磁性輸出。
[0019]實施例2
一種增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，包括以下步驟:
第一步:前處理，將釹鐵硼永磁體進行除油、漂洗；
第二步:電鍍金屬鎳膜層，在釹鐵硼永磁體表面鍍上一層金屬鎳膜層；
第三步:在金屬鎳膜層表面再鍍一層二氧化硅薄膜。
[0020]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，前處理的加工工藝為，先用丙酮溶液超聲清洗釹鐵硼永磁體20分鐘，取出后再用無水乙醇超聲清洗15分鐘，吹干備用。
[0021]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，電鍍金屬鎳膜層的加工工藝為，把清洗好的釹鐵硼永磁體置于鍍鎳溶液之中，在溫度為:48°C，pH=4.3的條件下進行電鍍鎳，電流密度為lA/dm2，電鍍時間為35min。
[0022]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，鍍二氧化硅薄膜采用的加工工藝為蒸發(fā)鍍膜。
[0023]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，所述的蒸發(fā)鍍膜加工工藝為，用真空電子束蒸發(fā)鍍膜機，釹鐵硼永磁體的溫度控制在220°C，真空度保持在1.0X 10_2Pa，電子槍的轟擊電流控制在4.5A之間，加速極電壓3100V，在此條件下進行蒸發(fā)鍍膜25秒。
[0024]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，所述的二氧化硅薄膜層的厚度為80nm,膜層厚度較薄,不會影響釹鐵硼永磁體的磁性輸出。
[0025]實施例3
一種增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，包括以下步驟:
第一步:前處理，將釹鐵硼永磁體進行除油、漂洗；
第二步:電鍍金屬鎳膜層，在釹鐵硼永磁體表面鍍上一層金屬鎳膜層；
第三步:在金屬鎳膜層表面再鍍一層二氧化硅薄膜。
[0026]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，前處理的加工工藝為，先用丙酮溶液超聲清洗釹鐵硼永磁體 25分鐘，取出后再用無水乙醇超聲清洗15分鐘，吹干備用。
[0027]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，電鍍金屬鎳膜層的加工工藝為，把清洗好的釹鐵硼永磁體置于鍍鎳溶液之中，在溫度為:53°C，pH=4.6的條件下進行電鍍鎳，電流密度為1.lA/dm2，電鍍時間為40min。
[0028]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，鍍二氧化硅薄膜采用的加工工藝為蒸發(fā)鍍膜。
[0029]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，所述的蒸發(fā)鍍膜加工工藝為，用真空電子束蒸發(fā)鍍膜機，釹鐵硼永磁體的溫度控制在250°C，真空度保持在7.15X 10?,電子槍的轟擊電流控制在4.0A之間，加速極電壓3000V，在此條件下進行蒸發(fā)鍍膜23秒。
[0030]所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，所述的二氧化硅薄膜層的厚度為60nm,膜層厚度較薄,不會影響釹鐵硼永磁體的磁性輸出。
[0031 ] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是:先在釹鐵硼永磁體表面電鍍金屬鎳膜層，再通過蒸發(fā)鍍膜的加工工藝在鎳鍍層表面鍍上一層二氧化硅薄膜，可以有效地減少膜層孔隙率，使鍍膜的表面變得致密，明顯增強了釹鐵硼永磁體的防腐性能，同時二氧化硅薄膜層的厚度不會明顯增大，不會影響其磁性輸出，并且在生產(chǎn)的過程中安全環(huán)保，符合國家的環(huán)保要求。
[0032]以上的具體實施實例僅能作為本發(fā)明的參考而不是對本發(fā)明的限制。
【權(quán)利要求】
1.一種增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，其特征在于:包括以下步驟: 第一步:前處理，將釹鐵硼永磁體進行除油、漂洗； 第二步:電鍍金屬鎳膜層，在釹鐵硼永磁體表面鍍上一層金屬鎳膜層； 第三步:在金屬鎳膜層表面再鍍一層二氧化硅薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，其特征在于:前處理的加工工藝為，先用丙酮溶液超聲清洗釹鐵硼永磁體20分鐘-25分鐘，取出后再用無水乙醇超聲清洗10分鐘-15分鐘，吹干備用。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，其特征在于:電鍍金屬鎳膜層的加工工藝為，把清洗好的釹鐵硼永磁體置于鍍鎳溶液之中，在溫度為:450C -55°C, pH=4.0-5.0的條件下進行電鍍鎳，電流密度為lA/dm2_l.2A/dm2，電鍍時間為30min_45mino
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，其特征在于:鍍二氧化硅薄膜采用的加工工藝為蒸發(fā)鍍膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，其特征在于:所述的蒸發(fā)鍍膜加工工藝為，用真空電子束蒸發(fā)鍍膜機，釹鐵硼永磁體的溫度控制在220°C -250°C,真空度保持在6.67 X KT3Pa-L 07 X 10?,電子槍的轟擊電流控制在4.0A-4.5A之間，加速極電壓3000V-3200V，在此條件下進行蒸發(fā)鍍膜20秒-25秒。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增強釹鐵硼永磁體防腐性能的方法，其特征在于:所述的二氧化娃薄膜層的厚度為50nm-80nm。
【文檔編號】C23C14/24GK103938241SQ201410137539
【公開日】2014年7月23日 申請日期:2014年4月8日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月8日
【發(fā)明者】邵志雄, 顧歡, 高雄虎 申請人:湖北桑夏太陽能產(chǎn)業(yè)有限公司