本發(fā)明涉及粉末冶金制品的加工技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種拋光工藝。
背景技術(shù)：
粉末冶金制品的傳統(tǒng)拋光工藝為：由拋光工人手執(zhí)工件，使用專用拋光機來給工件進行拋光，通過砂帶、拋光輪對工件的磨削來清除工件表面的高凸部分和毛刺，從而得到光亮、平整的表面。
目前，大多數(shù)企業(yè)都是采用傳統(tǒng)的手工拋光工藝來將粉末冶金制品進行拋光。傳統(tǒng)的手工拋光工藝存在以下問題：采用大量的人工操作導(dǎo)致成本高、加工效率低、表面質(zhì)量不均勻，同時加工的過程中所產(chǎn)生的碎屑和粉塵會直接向外擴散，污染環(huán)境，危害工作人員的健康。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種拋光工藝，主要目的在于解決從傳統(tǒng)的手工拋光工藝中加工成本高，加工效率低的問題。
生產(chǎn)效率高，拋光質(zhì)量均勻，同時能降低環(huán)境污染的粉末冶金制品的拋光工藝。
本發(fā)明為解決其技術(shù)問題而采用的技術(shù)方案是：
一種拋光工藝，包括以下步驟：
（1）在渦流研磨拋光設(shè)備中加入研磨石和待拋光件，對待拋光件進行第一次密封拋光5～8小時；
（2）將第一次密封拋光后的待拋光件放入離心研磨拋光設(shè)備中，加入長度為7mm～10mm的高頻陶瓷長條石，對待拋光件進行第二次密封拋光3.5～5小時；
（3）將第二次密封拋光后的待拋光件進行清洗，并將卡于待拋光件中的塊狀固體物挑出；
（4）將挑選后的待拋光件進行第三次拋光加工；
（5）將第三次拋光后的待拋光件加入到等離子拋光機中，并在等離子拋光機中加入重量百分比濃度為2%～3%的硫酸銨溶液直至待拋光件被淹沒，對待拋光件進行第四次密封拋光4～10分鐘。
在本發(fā)明一實施例中，步驟（4）中第三次拋光加工的具體操作為：將挑選后的待拋光件放入滾筒式核桃核研磨機中，在滾筒式核桃核研磨機中加入直徑為2mm～4mm的核桃殼顆粒和清光油，對待拋光件進行第三次密封拋光4～8小時。
在本發(fā)明另一實施例中，步驟（4）中第三次拋光加工的具體操作為：在磨光機上安裝一布輪，采用人工操作的方式，使用布輪對待拋光件進行第三次拋光，直至待拋光件上需要拋光的表面的粗糙度為ra1.6～ra0.2。
本發(fā)明的目的還可以采用以下技術(shù)措施進一步實現(xiàn)。
前述的加工工藝中，所述研磨石為陶瓷圓球石、三角形樹脂、菱形麻石中的一種或任意多種的組合。
所述陶瓷圓球石的直徑為5mm～9mm，所述三角形樹脂型號為120#或80#，所述菱形麻石的型號為60#、80#或120#。
前述的加工工藝中，所述待拋光件通過水或者超聲波進行清洗。
前述的加工工藝中，所述待拋光件為粉末冶金制品。
本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明利用設(shè)備組合使用的加工方式替代傳統(tǒng)的手工拋光工藝，大幅度地減少了人工，能夠提高加工效率，降低加工成本，還能避免加工過程中所產(chǎn)生的碎屑飛揚而危害人的健康。
具體實施方式
為更進一步闡述本發(fā)明為達成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合較佳的實施例，對依據(jù)本發(fā)明申請的具體實施方式、結(jié)構(gòu)、特征、及其功效，做出如下詳細說明。在下述說明中，不同的“一實施例”或“實施例”指的不一定是同一實施例。此外，一個或多個實施例中的特定特征、結(jié)構(gòu)、特點可由任何形式組合。
本發(fā)明的一個實施例提出的一種拋光工藝，包括以下步驟：
（1）在渦流研磨拋光設(shè)備中加入研磨石和待拋光件，對待拋光件進行第一次密封拋光6小時；
（2）將第一次密封拋光后的待拋光件放入離心研磨拋光設(shè)備中，加入長度為8mm的高頻陶瓷長條石，對待拋光件進行第二次密封拋光4小時；
（3）將第二次密封拋光后的待拋光件進行清洗，并將卡于待拋光件中的塊狀固體物挑出；
（4）將挑選后的待拋光件放入滾筒式核桃核研磨機中，在滾筒式核桃核研磨機中加入直徑為3mm的核桃殼顆粒和清光油，對待拋光件進行第三次密封拋光6小時；
（5）將第三次密封拋光后的待拋光件加入到等離子拋光機中，并在等離子拋光機中加入重量百分比濃度為2.5%的硫酸銨溶液直至待拋光件被淹沒，對待拋光件進行第四次密封拋光6分鐘。
在步驟（1）中，所述研磨石為陶瓷圓球石、三角形樹脂、菱形麻石中的一種或任意多種的組合。所述陶瓷圓球石的直徑為5mm～9mm；所述三角形樹脂的顆粒大小為120#或80#，和所述菱形麻石的顆粒大小為60#、80#或120#。優(yōu)選地，所述研磨石采用直徑為6mm的陶瓷圓球石。其中，對待拋光件進行密封拋光的時間還可以是5小時、5.5小時、6.5小時、7小時、7.5小時、8小時或5～8小時之間其他數(shù)值。具體的數(shù)值可以根據(jù)不同待拋光件的需求設(shè)置。經(jīng)過第一次密封拋光后，待拋光件上絕大多數(shù)的毛刺被清除，不平整的表面變得稍顯圓滑。
在步驟（2）中，所述高頻陶瓷長條石的長度還可以是7mm、9mm、10mm或7mm～10mm之間的其他數(shù)值。其中，對待拋光件進行密封拋光的時間還可以是3.5小時、4.5小時、5小時或3.5～5小時之間其他數(shù)值。具體的數(shù)值可以根據(jù)不同待拋光件的需求設(shè)置。經(jīng)過第2次密封拋光后，待拋光件上的毛刺均布被清除，不平整的表面變得圓滑。經(jīng)過清洗后，原本較為平整的表面顯現(xiàn)出光亮的金屬光澤。
在步驟（4）中，核桃殼顆粒的直徑還可以是2mm、2.5mm、3.5mm、4mm或2mm～4mm之間的其它數(shù)值，優(yōu)選，核桃核顆粒的直徑為2.5mm～3.5mm。核桃核顆粒的大小越均勻，本次密封拋光的效果也就越好。其中，對待拋光件進行密封拋光的時間還可以是4小時、5小時、7小時、8小時、9小時、10小時或4～10小時之間其他數(shù)值。具體的數(shù)值可以根據(jù)不同待拋光件的需求設(shè)置。
當(dāng)待加工件的數(shù)量比較少時，步驟（4）也可以采用如下的加工方法：在磨光機上安裝一布輪，采用人工操作的方式，使用布輪對待拋光件進行第三次拋光，直至待拋光件表面變得光亮，此時，待拋光件上需要拋光的表面的粗糙度在ra1.6～ra0.2之間。
在步驟（5）中，硫酸銨溶液重量百分比濃度為還可以是2%、2.4%、2.7%、3%或2%～3%之間的其他數(shù)值。其中，對待拋光件進行密封拋光的時間還可以是4分鐘、5分鐘、7分鐘、8分鐘、9分鐘、10分鐘或4～10分鐘之間的其他數(shù)值。當(dāng)硫酸銨溶液的濃度比較低時，要達到同樣的拋光效果，加工的時間應(yīng)該適當(dāng)延長；當(dāng)硫酸銨溶液的濃度比較高時，要達到同樣的拋光效果，加工的時間應(yīng)該適當(dāng)減少。
拋光加工完成后，采用氣槍將產(chǎn)品吹干，然后再進行全檢，剔除掉質(zhì)量不合格的產(chǎn)品，就可以將產(chǎn)品包裝出售了。
以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)先實施方式，只要以基本相同手段實現(xiàn)本發(fā)明目的的技術(shù)方案都屬于本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。