本發(fā)明屬于砂輪的建模方法研究,具體涉及一種基于離散單元法的二維砂輪建模方法。
背景技術(shù):
隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展,采用仿真的手段來模擬陶瓷材料的加工過程也日益被人們所接受。顯然,與實(shí)驗(yàn)方法相比,數(shù)值模擬技術(shù)可以建立逼真的虛擬環(huán)境、磨床、砂輪以及工件等來模擬實(shí)際磨削加工過程,對(duì)磨削加工過程的磨削力、磨削區(qū)溫度和磨削表面質(zhì)量進(jìn)行分析,并揭示磨削過程中諸多現(xiàn)象的本質(zhì)和物理量的變化規(guī)律。
目前主要包括的研究方法有有限元法(FEM)、分子動(dòng)力學(xué)(MD)、離散元法(DEM)等。由于受材料本構(gòu)模型的限制,有限元法在研究裂紋的產(chǎn)生及擴(kuò)展方面存在較大的局限性;采用分子動(dòng)力學(xué)可以模擬裂紋的擴(kuò)展過程,但所模擬的材料大都屬于理想的無缺陷的單晶材料;而采用離散元法開展陶瓷材料磨削加工的研究,將能彌補(bǔ)有限元法在模擬裂紋擴(kuò)展及隨機(jī)缺陷等方面存在的先天性不足,具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。
本發(fā)明提供一種基于離散單元法的二維砂輪建模方法,可以十分方便的考慮砂輪表面磨粒形狀及其分布特性。從已掌握的文獻(xiàn)及專利來看,采用離散元法對(duì)砂輪進(jìn)行顆?;慕?,并進(jìn)行工程陶瓷等脆性材料磨削加工的仿真尚未見報(bào)道。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供一種基于離散單元法的二維砂輪建模方法。
本發(fā)明專利采用的技術(shù)方案是:一種基于離散單元法的二維砂輪建模方法,其特征在于,建模步驟如下:
1)建立一個(gè)環(huán)形區(qū)域墻,外圈墻為整圓,內(nèi)圈墻為均勻分布的溝槽形墻,且通過圓弧形墻連接;
2)在環(huán)形區(qū)域墻內(nèi)添加一定數(shù)量的顆粒并對(duì)其半徑放大,使其達(dá)到緊密排列,選擇一種合適的接觸模型,并賦予顆粒間一定強(qiáng)度的連接鍵;
3)刪除環(huán)形外圈墻,添加按一定規(guī)律分布的磨粒,選擇另一種合適的接觸模型,在磨粒與砂輪表層顆粒間賦予一定強(qiáng)度的連接鍵。
上述的一種基于離散單元法的二維砂輪建模方法,步驟1)中所述溝槽的個(gè)數(shù),寬度及深度均可改變,且溝槽形墻沿圓周方向均勻分布。
上述的一種基于離散單元法的二維砂輪建模方法,步驟2)中所述添加一定數(shù)量的顆粒并對(duì)其半徑放大是通過程序參數(shù)來進(jìn)行控制。
上述的一種基于離散單元法的二維砂輪建模方法,步驟3)中所述磨粒是由多個(gè)顆粒通過特定方式組成具有一定形狀和大小的顆粒簇,且其沿砂輪表面的排布方式可改變。
上述的一種基于離散單元法的二維砂輪建模方法,其特征在于,所述接觸模型有兩種,在環(huán)形區(qū)域顆粒間的接觸模型為一種鍵連接模型,添加的磨粒與環(huán)形區(qū)域顆粒的接觸模型為另一種鍵連接模型,兩個(gè)接觸模型的鍵連接形式及連接強(qiáng)度有所不同。
附圖說明
圖1為建立的環(huán)形墻模型。
圖2為建立在直角坐標(biāo)系中環(huán)形墻模型的局部圖。
圖3為建立的幾種磨粒離散元模型。
圖4為建立的二維砂輪離散元模型。
圖5為建立的二維砂輪離散元模型的局部圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
一種基于離散單元法的二維砂輪建模方法,其特征在于,建立所述砂輪離散元模型的步驟如下:
1)建立一個(gè)環(huán)形區(qū)域墻,外圈墻為整圓,內(nèi)圈墻為均勻分布的溝槽形墻,且通過圓弧形墻連接;
2)在環(huán)形區(qū)域墻內(nèi)添加一定數(shù)量的顆粒并對(duì)其半徑放大,使其達(dá)到緊密排列,選擇一種合適的接觸模型,并賦予顆粒間一定強(qiáng)度的連接鍵;
3)刪除環(huán)形外圈墻,添加按一定規(guī)律分布的磨粒,選擇另一種合適的接觸模型,在磨粒與砂輪表層顆粒間賦予一定強(qiáng)度的連接鍵。
具體過程為:
1)通過編輯程序生成如圖1所示的環(huán)形區(qū)域墻,其目的在于在工程陶瓷等脆性材料磨削加工的仿真過程中,能保證墻體內(nèi)的顆粒隨墻一起運(yùn)動(dòng),進(jìn)而仿真磨削過程中砂輪的實(shí)效過程。所建立的環(huán)形區(qū)域墻由外圈墻和內(nèi)圈墻組成,其中外圈墻為整圓,可直接建立;內(nèi)圈墻為均勻分布的若干個(gè)溝槽形墻,且通過圓弧形墻進(jìn)行連接。建立溝槽形墻的方法如下:
(a)首先建立第一個(gè)溝槽形墻,如圖2所示。假設(shè)其分布在x軸上方,且關(guān)于y軸對(duì)稱布置,同時(shí)假設(shè)h1為其深度,b為其寬度,則可計(jì)算出該溝槽形墻4個(gè)頂點(diǎn)坐標(biāo),分別為:
(b)計(jì)算第二個(gè)溝槽形墻的四個(gè)頂點(diǎn)坐標(biāo)。假定第二個(gè)溝槽是在第一個(gè)溝槽的基礎(chǔ)上通過逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)角度θ得到,從而可以得到以下旋轉(zhuǎn)變換矩陣公式:
通過坐標(biāo)旋轉(zhuǎn)變換,得到第二個(gè)溝槽形墻的四個(gè)頂點(diǎn)坐標(biāo)計(jì)算公式如下,分別為:
(c)計(jì)算其他溝槽形墻的四個(gè)頂點(diǎn)坐標(biāo)。將上述公式中的θ取不同的旋轉(zhuǎn)角度,從而得到不同位置的溝槽形墻頂點(diǎn)坐標(biāo)。其角度θ的取值范圍是:
式中k為所建立的第k個(gè)溝槽,且k=1,2,3…n1,n1為內(nèi)圈墻中溝槽形墻的總數(shù)。
2)在上述環(huán)形區(qū)域墻內(nèi)一定數(shù)量的顆粒并對(duì)其半徑放大,使其達(dá)到緊密排列,選擇一種合適的接觸模型,并賦予顆粒間一定強(qiáng)度的連接鍵,其過程為:
(a)通過調(diào)試程序參數(shù)生成一定數(shù)目的顆粒,對(duì)顆粒的面積進(jìn)行逐個(gè)累加,可算得此時(shí)生成顆粒的總面積為S1;
(b)計(jì)算環(huán)形區(qū)域面積,假定為S,可知當(dāng)前顆粒體系對(duì)應(yīng)的孔隙率為:
假設(shè)要得到的指定孔隙率為,那么顆粒半徑放大倍數(shù)m為:
(c)對(duì)顆粒半徑放大m倍,循環(huán)一定步數(shù)后,讓其達(dá)到緊密排列,并在顆粒間生成鍵連接,對(duì)其參數(shù)進(jìn)行設(shè)置,得到環(huán)形區(qū)域墻內(nèi)顆粒間的鍵連接接觸模型(如生成接觸鍵模型)。
3)圖3為建立的幾種典型磨粒離散元模型,其建立過程是首先指定組成磨粒的單個(gè)顆粒具體位置,然后通過疊加或緊密排列的方式生成各種所需形狀的磨粒簇,進(jìn)而構(gòu)成磨粒離散元模型。以圖3(c)為例,生成三角形磨粒(6排顆粒,第一排5個(gè)顆粒)的具體方式為:
(a)以該模型左上角的第一個(gè)顆粒坐標(biāo)為起始坐標(biāo),以顆粒半徑為相鄰顆粒x方向的間距,依次向右生成5個(gè)顆粒,從而生成第一排顆粒;
(b)在第一排第一個(gè)顆粒的x坐標(biāo)的基礎(chǔ)上增加半個(gè)顆粒半徑的長(zhǎng)度,而y坐標(biāo)則減少一個(gè)顆粒半徑的長(zhǎng)度,再次顆粒半徑為相鄰顆粒x方向的間距,依次向右生成4個(gè)顆粒,從而生成第二排顆粒;
(c)依此規(guī)律,重復(fù)上述步驟,直至組成該磨粒的顆粒簇離散元模型得以生成。
4)刪除外圈墻,在外圈生成如圖3(c)的磨粒,刪除添加磨粒時(shí)在環(huán)形區(qū)域內(nèi)所覆蓋的顆粒,并添加另一種參數(shù)的鍵連接模型(如生成平行鍵模型),得到磨粒與環(huán)形區(qū)域顆粒的鍵連接接觸模型,最終的砂輪離散元模型如圖4所示。在環(huán)形區(qū)域墻外圈添加磨粒時(shí),可以選擇添加一種或幾種磨粒模型,其分布方式也可以改變,使得到的砂輪離散元模型表面磨粒分布特性與實(shí)際相符。
5)由于離散元模型的微觀參數(shù)(如顆粒剛度、連接鍵強(qiáng)度等)難以通過實(shí)驗(yàn)測(cè)試得到,目前也缺乏相關(guān)的理論基礎(chǔ),但微觀參數(shù)的設(shè)置正確與否直接影響到離散元模擬的效果。為使得所建立的離散元模型具有與實(shí)際材料匹配的力學(xué)性能,需采用相應(yīng)的力學(xué)仿真試驗(yàn)(如單軸壓縮、三點(diǎn)彎曲、斷裂韌性、巴西劈裂等數(shù)值試驗(yàn))對(duì)離散元模型的微觀參數(shù)進(jìn)行調(diào)校。當(dāng)模擬結(jié)果值與實(shí)際材料力學(xué)測(cè)試值匹配時(shí),便認(rèn)為此時(shí)模型中的微觀參數(shù)設(shè)置比較合理,可以進(jìn)行下一步的模擬工作。