技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及經(jīng)由偏置的多端口噴射裝置的徑向和厚度控制。本發(fā)明公開了氣體分布系統(tǒng)，以便在交叉流動(dòng)反應(yīng)器中的襯底上獲得更好的膜均勻性?？梢酝ㄟ^對(duì)氣體分布系統(tǒng)的單獨(dú)噴射端口的不對(duì)稱偏置實(shí)現(xiàn)更好的膜均勻性。氣體分布可以允許膜性質(zhì)的變化的可調(diào)性。

技術(shù)研發(fā)人員：J·瑪格蒂斯;J·托爾;G·巴特立特;N·巴爾加瓦
受保護(hù)的技術(shù)使用者：ASMIP控股有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.22
技術(shù)公布日：2017.10.03