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      氣體清洗裝置的制作方法

      文檔序號(hào):98926閱讀:219來源:國知局
      專利名稱:氣體清洗裝置的制作方法
      本發(fā)明涉及一種氣體清洗裝置,這種氣體清洗裝置包含有可滲透的氣體清洗層、并在該氣體清洗層和氣體進(jìn)口之間裝有透氣材料層、還在氣體進(jìn)口前裝有一個(gè)檢測(cè)氣體流動(dòng)的儀表。
      “鑄造72”雜志1985第6期介紹過一種這樣的氣體清洗裝置安放氣體清洗層的透氣材料層是用疏松、粗制粉粹材料作成的。當(dāng)氣體清洗層消耗完后,熔液就到達(dá)這一層。這樣,就可防止熔化燒穿。
      在專利申請(qǐng)DE-OS3240097中,與上述文獻(xiàn)中相同,是設(shè)置一層粒狀填充材料夾層。這種填充材料的熔點(diǎn)低于熔液的溫度。這樣,當(dāng)氣體清洗層耗完后,并在熔液到達(dá)填充材料時(shí),就會(huì)形成防止熔液燒穿的封口。當(dāng)然這樣氣體清洗過程也就終止了。
      在EP-0082078AI中建議一種插入電極的氣體清洗層。用這種方式,就可保證電氣化監(jiān)視清洗層的耗損。
      本發(fā)明的目的是提出一種開始所說的這種氣體清洗裝置。這種裝置能及時(shí)識(shí)別氣體清洗層的損耗,而不必裝上插有電極的氣體清洗層。
      按照本發(fā)明,用一開始就提出這種類型的氣體裝置來達(dá)到上述目的。夾層是由另一種氣體清洗層作成的,并且這種氣體清洗層的滲透性比第一種氣體清洗層的滲透性要強(qiáng)。如果透氣性差的第一種氣體清洗層消耗完了,那么氣體流動(dòng)檢測(cè)儀表就能識(shí)別,因?yàn)檫@時(shí),氣體流量原則上取決于具有高透氣性的另一種氣體清洗層。當(dāng)?shù)谝环N氣體清洗層消耗完后,氣體清洗過程并不立即就停止,因?yàn)榱硪环N氣體清洗層還繼續(xù)保持有氣體通過。下一次使用時(shí),才更換氣體清洗層。
      本發(fā)明特別把這種次級(jí)氣體清洗層作成篩式清洗器,它的氣體滲透性要比可滲透的清洗層高得多。
      本發(fā)明的另一種有益的發(fā)展可從權(quán)利要求
      和下面要說明的一個(gè)實(shí)施例看出,這張圖以剖面圖解說明了一種氣體清洗裝置。
      在錐形薄板外殼1的底部有一個(gè)氣體分布室2。在一個(gè)支承環(huán)3上放置篩式清洗器4(毛細(xì)篩),它帶有許多垂直方向的氣體通道5,篩式清洗器4用一層灰漿6密封地固定在薄板外殼1內(nèi)。
      在篩式清洗器4上放一個(gè)密封圈7,在密封圈7上方放置可滲透氣體清洗層8,而氣體清洗層8用一層灰漿6密封地固定于薄板外殼1內(nèi)??蓾B透的氣體清洗層8的透氣性要比篩式清洗器4低得多。
      篩式清洗器4對(duì)著氣體清洗層8的這一側(cè)表面作成凹形的。這樣,在氣體清洗層8和篩式清洗器4之間形成一個(gè)氣體分布室9,這可保證氣體清洗層8不僅受到氣體通道5內(nèi)氣體的連續(xù)作用,而且整個(gè)平面都會(huì)受到氣體的作用。
      氣體管道11的進(jìn)氣管10的出口位于氣體分布室2的下部,在氣體管道上11上連接一個(gè)氣體流量檢測(cè)儀表12。
      上述氣體清洗裝置的工作原理大致如下只要可滲透的氣體清洗層8設(shè)有消耗完,就允許一定流量的氣體流過,這些氣體穿過篩式清洗器4和氣體清洗層8注入未進(jìn)一步加以說明的裝有金屬熔液的容器中去。
      如果氣體清洗層已消耗完,那么,氣體流量將幾乎突然增加,因?yàn)檫@時(shí)只有篩式清洗器4起作用,而它具有非常高的透氣性。氣體流量的這種增加就表明可滲透氣體清洗層已用完了,須在下一次使用時(shí)更換。然而,篩式清洗器4還允許短時(shí)間內(nèi)氣體清洗裝置繼續(xù)運(yùn)行。
      這種氣體清洗裝置可用普通的材料來制造。氣體清洗層以氧化鋁和氧化鎂為基本材料。支承環(huán)3可用鋼材制成,而密封圈7可用陶瓷纖維作成的塞繩。
      權(quán)利要求
      1.包含有可滲透的氣體清洗層,并在氣體清洗層和氣體進(jìn)口之間設(shè)置有透氣材料層、以及氣體進(jìn)口前的氣體流動(dòng)檢測(cè)儀表的氣體清洗裝置,其特征為透氣材料層是由另外一種類型的氣體清洗層(4)構(gòu)成的,并且氣體清洗層(4)的透氣性要比另一種氣體清洗層(8)的透氣性高得多。
      2.按照權(quán)利要求
      1的氣體清洗裝置,其特征為另一種氣體清洗層是篩式清洗器(4)。
      3.按照權(quán)利要求
      1和權(quán)利要求
      2的氣體清洗裝置,其特征為在篩式清洗器(4)和可滲透的氣體清洗層(8)之間形成一個(gè)氣體分布室(9)。
      4.按照上述權(quán)利要求
      之一的氣體清洗裝置,其特征為在篩式清洗器(4)和可滲透的氣體清洗層(8)之間嵌入一個(gè)密封圈(7)。
      專利摘要
      具有可滲透氣體清洗層8的氣體清洗裝置,必須能及時(shí)識(shí)別氣體清洗層的損耗。為此,在可滲透的氣體清洗層8和氣體進(jìn)口10之間另加一層氣體清洗層4,該層特別作成一個(gè)篩式清洗器,它的透氣性要比可滲透氣體清洗劑8高得多。可滲透氣體清洗層8的損耗導(dǎo)致氣體流量突躍式增加,這時(shí)不會(huì)出現(xiàn)熔化燒穿。
      文檔編號(hào)B22D1/00GK86102748SQ86102748
      公開日1986年12月24日 申請(qǐng)日期1986年4月23日
      發(fā)明者邁克爾·海因茨, 約奇姆·蘭格, 尤杜·穆施納, 赫伯特:納弗, 翰斯·羅思福斯, 曼弗里德·文凱爾曼, 翰斯·約奇姆·溫克勒 申請(qǐng)人:迪迪爾工廠股份公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan
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