述化合物，從而引起由Si單質(zhì)構(gòu)成的Si相的形成。由此，無法充 分抑制鍍層的不均勻溶解，結(jié)果，產(chǎn)生涂膜起泡。另一方面，在上層的Ca/Si的質(zhì)量百分比 超過1. 4時，沒有被與Si的化合物的形成消耗的Ca固溶于上層的a -A1相，因此，上層整 體的溶解性增高。結(jié)果，容易產(chǎn)生涂膜起泡。因此，將上層的Ca/Si的質(zhì)量百分比設(shè)定為 0? 72 ~1. 4〇
[0037] 求取上層的Ca/Si的質(zhì)量百分比的方法沒有特別限定。作為例子，可以通過恒流 電解將上層剝離，利用ICP發(fā)光分光分析法對剝離后的溶液進行分析，由此求出上層的Ca/ Si的質(zhì)量百分比。例如，通過在1質(zhì)量％水楊酸_4質(zhì)量％水楊酸甲酯-10質(zhì)量％碘化鉀溶 液中實施恒流電解（電流密度5mA/cm2)而將上層剝離，接著，利用ICP發(fā)光分光分析法對 剝離后的溶解液進行分析即可。
[0038] 在將鋼板浸漬到鍍浴中的同時，鋼板表面的Fe與鍍浴中的Al、Si發(fā)生合金化反 應(yīng)，由Fe-Al系和/或Fe-Al-Si系的化合物構(gòu)成作為下層的界面合金層。
[0039] 接著，對鍍層上層的各成分含量進行說明。
[0040] Al-Zn系鍍層上層的Si含量設(shè)定為0. 1~2. 0質(zhì)量％，Ca含量設(shè)定為0. 001~ 2.0質(zhì)量％。為了抑制作為下層的界面合金層的生長，需要添加0.1質(zhì)量％以上的Si。界 面合金層的生長除了受到鍍層組成的影響之外，還受到鍍浴溫度、鍍覆浸漬時間以及鍍覆 后的冷卻速度的影響。即，在鍍浴溫度高、浸漬時間長、鍍覆后的冷卻速度慢的情況下，界面 合金層容易生長。但是，在任一條件下，為了充分抑制生長，都只要在鍍浴中含有A1含量 的0.8%以上的Si即可。因此優(yōu)選在鍍層中添加A1含量的0.8%以上的Si。另一方面， Si超過2. 0質(zhì)量％時，在上層中大量存在Si、即與Ca大量形成CaSi2、CaAlSi、CaAl2Sii.5、 0&八12312等化合物。這些化合物較硬，存在量增加時，會使加工性劣化。因此，Si含量的上 限設(shè)定為2.0質(zhì)量％。
[0041] Ca 含量為 0? 001 ~2. 0 質(zhì)量 ％。為了使 Si 形成為 CaSi2、CaAlSi、CaALSiu、 CaAl2Si2、或者其他的Si和Ca的化合物、或者Si和Ca與A1的化合物，除了使上述的Ca/ Si的質(zhì)量百分比為0.72~1.4以外，還需要添加0.001質(zhì)量％以上的Ca。另一方面，過度 添加Ca時，鍍層整體的溶解性增高，會使涂裝后的耐腐蝕性劣化，因此將上限設(shè)定為2. 0質(zhì) 量％。
[0042] 另外，上層的A1含量優(yōu)選為50~85質(zhì)量％。Zn含量優(yōu)選為11~49. 8質(zhì)量％。 通過使A1含量為20~95質(zhì)量％，上層形成顯示耐腐蝕性的a -A1相與顯示犧牲防腐蝕性 的n _Zn相的二相結(jié)構(gòu)。其中，均衡地滿足耐腐蝕性和犧牲防腐蝕性的A1含量為50~85 質(zhì)量％。A1含量為85質(zhì)量％以下、且Zn的含量為11質(zhì)量％以上時，Zn含量不會過少，對 基底鋼板的犧牲防腐蝕性不會劣化，不易產(chǎn)生紅銹。因此，優(yōu)選使A1含量為85質(zhì)量％以 下、使Zn的含量為11質(zhì)量％以上。另外，從Zn與A1的平衡的觀點出發(fā)，優(yōu)選使Zn含量為 49. 8質(zhì)量％以下。
[0043] 基于上述理由，在Al-Zn系鍍層上層中，優(yōu)選含有50~85質(zhì)量％的Al、11~49. 8 質(zhì)量％的Zn、0. 1~2. 0質(zhì)量％的Si、0. 001~2. 0質(zhì)量％的Ca。
[0044] 另外，在通常的操作中，由于鋼板、浴中設(shè)備中含有的元素的溶出、或者原料錠中 含有的雜質(zhì)的溶解，有時在鍍浴中、即鍍層上層中含有Fe和Sr、V、Mn、Ni、Co、Cr、Ti、Sb、 Ca、Mo、B等一些不可避免的雜質(zhì)。需要說明的是，鍍浴中的Fe因鋼板的連續(xù)通板而達到飽 和濃度。Fe的飽和濃度根據(jù)鍍浴組成而不同，但通常為2. 0質(zhì)量％以下。Fe和Sr、V、Mn、 Ni、Co、Cr、Ti、Sb、Ca、Mo、B等不可避免的雜質(zhì)的含量越少越優(yōu)選，但只要不使鍍層的性能 發(fā)生變化，則其存在本身是沒有問題的。
[0045] 如上所述，在上層中形成由Si單質(zhì)構(gòu)成的Si相時，容易產(chǎn)生鍍層的不均勻溶解， 涂膜容易起泡，涂裝后的耐腐蝕性劣化。因此，優(yōu)選在上層中不含有由Si單質(zhì)構(gòu)成的Si相。 本發(fā)明中，如上所述，上層中形成Si和Ca的化合物、或者Si和Ca與A1的化合物。此外， 本發(fā)明中，上層的Si優(yōu)選與選自Al、Ca和Fe中的一種以上形成金屬間化合物。需要說明 的是，上層中形成的化合物可以通過X射線衍射（XRD)、電子束顯微分析儀（EPMA)等來確 認。Si與選自Al、Ca和Fe中的一種以上形成了金屬間化合物是指如下情況：通過X射線 衍射（Cu-Ka射線、管電壓55kV、管電流250mA)對鍍覆鋼板的寬度方向的中央部進行分析， 未檢測到由單質(zhì)Si構(gòu)成的Si相。
[0046] 需要說明的是，為了確保耐腐蝕性，Al-Zn系鍍層的附著量優(yōu)選鋼板的每單面為 10g/m 2以上。另一方面，附著量增多時，耐腐蝕性提高，但成本也升高。此外，鍍層的附著量 多時，點焊性劣化。因此，上限優(yōu)選設(shè)定為l〇〇g/m 2。需要說明的是，關(guān)于測定鍍層附著量的 方法，只要使用簡單且能夠精度良好地進行測定的方法，則沒有特別限定。例如，可以使用 重量法（JISH0401 :2007規(guī)定的附著量試驗方法（間接法））、熒光X射線法、電解剝離法等 測定方法。上述重量法（間接法）為如下方法：稱量鍍覆后的試驗片后，使用鹽酸將鍍覆覆 膜溶解除去，再次稱量，由其減量求出附著量。熒光X射線法為如下方法：根據(jù)使用附著量 已知的標準板得到的構(gòu)成鍍層的元素的熒光X射線計數(shù)與附著量的關(guān)系（標準曲線），得到 鍍覆后的試驗片的鍍層的各元素的附著量，然后，求出合計的附著量。電解剝離法為對鍍覆 后的試驗片進行恒流陽極溶解并由電解時間求出鍍層附著量的方法，將溶解所需的電量根 據(jù)所溶解的相的原子比進行分配，求出各元素的溶解的質(zhì)量，將構(gòu)成鍍層的全部相的全部 元素的質(zhì)量的合計作為鍍層附著量。
[0047] 接著，對本發(fā)明的Al-Zn系鍍覆鋼板的制造方法進行說明。本發(fā)明的Al-Zn系鍍 覆鋼板使用連續(xù)式熱鍍鋅設(shè)備等來制造。
[0048] 優(yōu)選鍍浴中的A1含量為50~85質(zhì)量％、Zn含量為11. 0~49. 8質(zhì)量％、Si含量 為0. 1~2.0質(zhì)量％、Ca含量為0.001~2.0質(zhì)量％。通過使用這樣組成的鍍浴，能夠制 造上述的Al-Zn系鍍覆鋼板。
[0049] 需要說明的是，本發(fā)明的鍍覆鋼板的鍍浴中，除了上述的Al、Zn、Ca、Si以外，有時 還添加有例如Fe、Mn、Ni、Cr、Ti、Mo、B、W、Mg、Sr等一些元素，只要不損害本發(fā)明的效果就 可以應(yīng)用。另外，鍍層上層的組成可以通過控制鍍浴組成來制造。
[0050] 關(guān)于鍍覆前的鋼板（冷乳鋼板）浸入到鍍浴中時的鋼板的溫度（以下有時稱為浸 入板溫），過于低于鍍浴溫度時，鍍浴有可能凝固，過于高于鍍浴溫度時，容易產(chǎn)生浮渣，因 此，優(yōu)選為（鍍浴溫度_l〇°C )~（鍍浴溫度+20°C )。將控制了浸入板溫的冷乳鋼板浸漬 到鍍浴中之后，使用隊氣體將鍍層厚度調(diào)節(jié)至每單面10~100g/m2。然后，使用空冷或N2 氣體進行冷卻。冷卻除了可以使用隊氣體以外，還可以使用水冷、噴霧冷卻、噴射A1粉末 的方法。
[0051] 通過上述方法，可以得到本發(fā)明的Al-Zn系鍍覆鋼板。
[0052] 進而，本發(fā)明的Al-Zn系鍍覆鋼板可以通過在其表面具有化學(xué)轉(zhuǎn)化處理覆膜和/ 或含有有機樹脂的涂膜而制成表面處理鋼板?；瘜W(xué)轉(zhuǎn)化處理覆膜例如可以通過涂布鉻酸鹽 處理液或無鉻化學(xué)轉(zhuǎn)化處理液并在不水洗的情況下進行鋼板溫度為80~300°C的干燥處 理的鉻酸鹽處理或無鉻化學(xué)轉(zhuǎn)化