一種改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置及使用方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及高爐煉鐵的主要爐料的生產(chǎn)工藝，尤其是涉及一種改善燒結(jié)礦低溫還 原粉化指標的裝置及使用方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 燒結(jié)礦做為高爐冶煉的主要爐料，一般比例在70%以上，其低溫還原粉化指標直 接影響著高爐爐內(nèi)壓差，最終影響到高爐順行。隨著燒結(jié)原料劣化及高料層燒結(jié)等因素影 響，原始燒結(jié)礦的低溫還原粉化指標不理想。很多廠都是借助燒結(jié)成品礦皮帶上在線噴灑 低溫還原粉化抑制劑(CaCl 2等)來改善低溫還原粉化指標，但是提高的效果不穩(wěn)定。有的為 追求指標不得不加大噴灑濃度，但這又增加高爐管道氯離子量，加劇后續(xù)設(shè)備腐蝕。
[0003] 專利文獻1公開了一種抑制燒結(jié)礦低溫還原粉化的方法，通過將鐵精礦制備成一 定粒度組成的制粒料，再與燒結(jié)混合料混勻，然后布料、燒結(jié)焙燒;通過在制粒料中添加少 量熔劑或固體燃料、優(yōu)化燒結(jié)混合料中固體燃料用量和熔劑的用量，降低燒結(jié)焙燒抽風(fēng)負 壓和燒結(jié)礦冷卻速度，使得燒結(jié)礦的低溫還原粉化被明顯抑制，能夠有效改善高爐冶煉的 技術(shù)經(jīng)濟指標。專利文獻2公開了一種燒結(jié)礦低溫還原粉化助劑及其使用方法，該還原粉化 助劑化學(xué)成分及質(zhì)量百分比為:硼酸40~70%、碳酸氫|丐10~40%、偏硼酸|丐10~40% ;將 含有硼酸40~70wt. %、碳酸氫|丐10~40wt. %、偏硼酸|丐10~40wt. %的還原粉化助劑制成 濃度1~15wt. %的水溶液分次連續(xù)地均勻噴灑于燒結(jié)礦表面。該燒結(jié)礦低溫還原粉化助劑 不含C1元素，克服C1元素對設(shè)備的腐蝕及環(huán)境污染。專利文獻3公開了一種抑制釩鈦磁鐵燒 結(jié)礦低溫還原粉化新型添加劑，此種新型添加劑含有以下組分:CaCl2為40%~70%，CaO為 20%~40%，NaCl為0%~15%(重量按100%計）。密度泛函理論證明Ca與C1離子濃度比例 為1:1、1: 2時，在Fe203表面吸附能都比較大，對底層Fe、0電子結(jié)構(gòu)的影響也較大，F(xiàn)e離子吸 收了電子，〇離子釋放了電子，同時Fe-Ο鍵長變短，鍵能增加，結(jié)構(gòu)緊密，使Fe 203穩(wěn)定，降低了 膨脹率，有效地抑制了釩鈦磁鐵燒結(jié)礦在低溫條件下的粉化，而且該添加劑配方氯元素的 含量比較低，大大減少C1對高爐和氣體回收裝置的嚴重腐蝕，也減少對環(huán)境的污染，專利文 獻4公開了降低塊礦低溫還原粉化指標的助劑及其使用方法，其化學(xué)成分重量百分比為:氯 化鈣35~50%，氯化鐵20~36%，硼酸3~5%，硫酸錳25~30%。將助劑配制成一定濃度的 水溶液，再按比例均勻噴涂到塊礦表面，助劑可以在塊礦表面和內(nèi)部孔洞形成一層保護薄 膜，升溫后，部分薄膜形成結(jié)晶物，堵塞填充部分孔隙，在豎爐上部阻止含氫還原氣體的侵 入，改善塊礦低溫還原粉化現(xiàn)象，保持完整的粒度，為豎爐順行創(chuàng)造條件，可提高塊礦的用 量。本發(fā)明可使塊礦低溫還原粉化率（一6.3mm)降低9.7~88.9%。在豎爐壓差相同的情況 下，助劑的使用可以提高塊礦配比5~10%，降低鐵水生產(chǎn)成本6~10元/t，專利文獻5公開 了一種用于降低人造富礦低溫還原粉化率的方法，在于將含MgCl 2濃度為1.5~5.0%的稀 釋溶液噴灑在人造富礦的表面，可使礦石表面形成深褐色、發(fā)亮、光滑的薄膜層，從而有效 控制人造富礦在高爐內(nèi)被C0的侵蝕，使人造富礦低溫還原粉化率降低到25%以下，且在相 同燒結(jié)礦低溫還原粉化率的情況下，又可使噴灑的MgCl 2用量與CaCl2相比少用三分之一以 上;隨著放置時間的延長低溫還原粉化率還會進一步降低。專利文獻6公開了一種涉及控制 煉鐵高爐礦料低溫還原粉化的方法及噴灑裝置。本發(fā)明利用含有大量鈣、鎂、鈉的氯化物及 含有其它物質(zhì)而被處理排放的工業(yè)廢水為主要原料，經(jīng)測定其排放時間和其比重關(guān)系，確 定收集該廢水的起止時間和收集排放的廢水，并將其配制成所需濃度，再用噴灑裝置噴灑 在入爐前的高爐礦料中。本發(fā)明能將各種礦料在各種爐型內(nèi)的低溫還原粉化率降低到5% 以下，特別適用高Ti0 2，高Al2〇3，高堿度高爐礦料的處理，減少了環(huán)境污染，原料來源豐富， 投入產(chǎn)出比很高。以上各種公開的技術(shù)方案大都集中在低溫還原粉化抑制劑的配方改良及 燒結(jié)操作制度的改善上，所披露的技術(shù)特征都是在燒結(jié)礦表面噴灑低溫還原粉化抑制劑， 將燒結(jié)礦浸泡在低溫還原粉化抑制劑溶液中的方案未見披露。即使一起考慮以上的現(xiàn)有專 利文獻，這些專利文獻也沒有給出將燒結(jié)礦浸泡在低溫還原粉化抑制劑溶液中，可獲得溶 液濃度非常低，燒結(jié)礦低溫還原粉化指標非常高的技術(shù)方案。
[0004] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0005] 專利文獻1:中國專利201310400501.4 [0006] 專利文獻2:中國專利201410547699· 3 [0007] 專利文獻3:中國專利201310283305.3 [0008] 專利文獻4:中國專利201010154807.2 [0009] 專利文獻5:中國專利99116332.X [0010] 專利文獻6:中國專利94111774.X

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011] 本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題提供一種改善燒結(jié)礦 低溫還原粉化指標的裝置及使用方法，其目的是用這種裝置及使用方法能顯著提高燒結(jié)礦 低溫還原粉化指標，還能減少低溫還原粉化抑制劑消耗量，降低高爐設(shè)備腐蝕等問題。
[0012] 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置，包 括成品礦皮帶、噴灑系統(tǒng)，其特征在于:在兩臺成品礦皮帶1、4之間設(shè)置一臺鏈板機2,鏈板 機2上面設(shè)置噴灑系統(tǒng)3,鏈板機2下面設(shè)置回收系統(tǒng)5。
[0013] 本發(fā)明進一步改進，改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置安放在燒結(jié)礦整粒后的 成品區(qū)域。
[0014] 本發(fā)明提供一種改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置的使用方法，其特征在于： 根據(jù)燒結(jié)礦料量的大小，保證噴灑系統(tǒng)3噴灑