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      真空滲碳方法及真空滲碳裝置的制造方法

      文檔序號:10529192閱讀:518來源:國知局
      真空滲碳方法及真空滲碳裝置的制造方法
      【專利摘要】本發(fā)明提供一種真空滲碳方法及真空滲碳裝置,防止點狀過量滲碳的產(chǎn)生且可高品質(zhì)地對被處理物進行滲碳。通過對減壓的氣體環(huán)境的滲碳室噴射滲碳氣體,對配置于滲碳室的被處理物進行滲碳,基于被處理物在滲碳室中的包裝狀態(tài)下的容積、滲碳室的體積、被處理物的總表面面積和基于滲碳氣體的種類設(shè)定的常數(shù)計算出向滲碳室噴射的滲碳氣體的氣體噴射量,并將計算出的氣體噴射量的滲碳氣體噴射至滲碳室。
      【專利說明】
      真空滲碳方法及真空滲碳裝置
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本發(fā)明涉及一種對配置于減壓的氣體環(huán)境的滲碳室的被處理物進行滲碳的真空滲碳方法及真空滲碳裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]已知通過向減壓的氣體環(huán)境的滲碳室中噴射丙烷氣體等滲碳氣體,對配置于該室的被處理物(例如鋼性部件)進行滲碳的真空滲碳(參照專利文獻I)。
      [0003]在這種真空滲碳中,存在滲碳氣體過量而產(chǎn)生點狀過量滲碳的問題。對于該問題,本
      【申請人】申請一種真空滲碳方法,使用依賴于被處理物的物理特性的通量值F求得氣體噴射量V,以維持被處理物的表面碳濃度比可抑制點狀過量滲碳的產(chǎn)生的濃度上限值小的狀態(tài)的方式,決定噴射滲碳氣體的氣體噴射時間及氣體噴射停止時間(參照專利文獻2)。
      [0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻
      [0005]專利文獻
      [0006]專利文獻I:(日本)特開2002 — 212702號公報
      [0007]專利文獻2:(日本)特開2011 — 052262號公報
      [0008]發(fā)明所要解決的課題
      [0009]但是,在專利文獻2所公開的真空滲碳方法中,需要通過實驗求得通量值F。因此,難以使實驗時的被處理物的形狀與實際工件的包裝(packing)狀態(tài)一致,而存在難以求得適當(dāng)?shù)耐恐档膯栴}。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0010]本發(fā)明是鑒于上述那樣的問題而創(chuàng)立的,其目的在于,提供一種真空滲碳方法以及真空滲碳裝置,通過求得適當(dāng)?shù)臍怏w噴射量,防止點狀過量滲碳的產(chǎn)生的同時,可對被處理物尚品質(zhì)地滲碳。
      [0011]本發(fā)明的真空滲碳方法,通過向減壓的氣體環(huán)境的滲碳室中噴射滲碳氣體,對配置于滲碳室的被處理物進行滲碳,其特征在于,基于被處理物在滲碳室中的包裝狀態(tài)(荷姿狀態(tài))下的容積、滲碳室的體積、被處理物的總表面面積、基于滲碳氣體的種類而設(shè)定的常數(shù)計算出向滲碳室噴射的滲碳氣體的氣體噴射量,將計算出的氣體噴射量的滲碳氣體噴射至滲碳室。
      [0012]根據(jù)本發(fā)明,基于被處理物在滲碳室中的包裝狀態(tài)下的容積、滲碳室的體積、被處理物的總表面面積和基于滲碳氣體的種類設(shè)定的常數(shù)決定氣體噴射量,因此,不通過實驗求得通量值,就可以決定氣體噴射量。由此,防止點狀過量滲碳的產(chǎn)生的同時,可對被處理物尚品質(zhì)地滲碳。
      【附圖說明】
      [0013]圖1是表示本發(fā)明實施方式的真空滲碳裝置的構(gòu)成的說明圖;
      [0014]圖2(A)、(B)是表示本發(fā)明實施方式的被處理物的包裝狀態(tài)的一例的說明圖;
      [0015]圖3是本發(fā)明實施方式的真空滲碳裝置中進行的控制的流程圖;
      [0016]圖4是說明本發(fā)明實施方式的被處理物的總表面面積A和每單位占有容積的氣體噴射量V * Z/Y的相關(guān)關(guān)系的一例的說明圖;
      [0017]圖5是說明本發(fā)明實施方式的被處理物的總表面面積A和每單位占有容積的氣體噴射量V * Z/Y的相關(guān)關(guān)系的另一例的圖;
      [0018]圖6是本發(fā)明實施方式的氣體噴射時間及氣體噴射停止時間的一例的說明圖;
      [0019]圖7是表示本發(fā)明實施方式的滲碳處理整體的過程的說明圖。
      [0020]符號說明
      [0021 ]I真空滲碳裝置
      [0022]2被處理物
      [0023]3真空滲碳室(滲碳室)
      [0024]4滲碳氣體供給路
      [0025]5流量調(diào)節(jié)閥
      [0026]6控制裝置
      [0027]10 夾具
      【具體實施方式】
      [0028]以下,參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。
      [0029]圖1是表示本實施方式的真空滲碳裝置I的構(gòu)成的說明圖。圖1所示的真空滲碳裝置I具有:被處理物2、真空滲碳室3、滲碳氣體流路4、流量調(diào)節(jié)閥5、控制裝置6。
      [0030]被處理物2是滲碳對象的鋼性部件。被處理物2例如為變速器所使用的齒輪(材質(zhì)JIS — SCr420H)的材料。
      [0031]真空滲碳室3是在內(nèi)部配置被處理物2,并在減壓的氣體環(huán)境下對被處理物2執(zhí)行真空滲碳的真空滲碳爐。真空滲碳室3中具備檢測真空滲碳室3的內(nèi)部溫度的溫度傳感器31ο
      [0032]滲碳氣體流路4是從滲碳氣體供給源14連通到真空滲碳室3的滲碳氣體的氣體流路。流量調(diào)節(jié)閥5是介裝于滲碳氣體流路4并調(diào)整在滲碳氣體流路4中流通的滲碳氣體的氣體流量即向真空滲碳室3噴射的氣體噴射量的開關(guān)閥。流量調(diào)節(jié)閥5的開關(guān)動作由控制裝置6控制??刂蒲b置6是控制流量調(diào)節(jié)閥5的開關(guān)動作的微控制器??刂蒲b置6的控制后述。
      [0033]通過以上所示的構(gòu)成,本實施方式的真空滲碳裝置I通過控制裝置6控制流量調(diào)節(jié)閥5的開關(guān)動作,來調(diào)整向真空滲碳室3噴射的氣體噴射量,從而對配置于真空滲碳室3的被處理物2進行滲碳。
      [0034]圖2(A)及圖2(B)是表示本實施方式中的被處理物2的包裝狀態(tài)的一例的說明圖。
      [0035]如圖2(A)所示,被處理物2被夾具10裝載并配置于真空滲碳室3。被處理物2是作為一例的在中央具有孔的圓盤形狀的齒輪。夾具10上具備多個柱部11,被處理物2的孔與嵌裝在柱部11,多個被處理物2被夾具10固定。
      [0036]如圖2(B)所示,夾具10構(gòu)成也可以在固定有多個被處理物2的狀態(tài)下設(shè)為層裝狀態(tài)(層疊狀態(tài))的形狀。通過將固定有多個被處理物2的夾具10設(shè)為層疊狀態(tài)而配置于真空滲碳室3,可以一次滲碳多個被處理物2。
      [0037]這樣配置的被處理物2通過以下那樣的控制進行滲碳。
      [0038]圖3是本實施方式的真空滲碳裝置I中進行的控制的流程圖??刂蒲b置6在滲碳時執(zhí)行圖3所示的控制。
      [0039]控制裝置6在步驟SI中設(shè)定滲碳處理溫度。真空滲碳室3中具備未圖示的加熱器等加熱裝置,控制裝置6基于真空滲碳室3所具備的溫度傳感器31的測量值或用戶的設(shè)定值等,設(shè)定真空滲碳室3的溫度。
      [0040]控制裝置6將真空滲碳室3的溫度設(shè)定成1203K?1253K的范圍的任意溫度。這是由于,本實施方式的真空滲碳裝置I相對于該范圍內(nèi)的滲碳溫度是有效的。
      [0041 ]接著,轉(zhuǎn)移至步驟S2,控制裝置6設(shè)定真空滲碳室3的體積。真空滲碳室3的體積由用戶預(yù)先輸入至控制裝置6,控制裝置6將輸入的值設(shè)定為真空滲碳室3的體積Y。
      [0042]接著,轉(zhuǎn)移至步驟S3,控制裝置6設(shè)定被處理物2在包裝狀態(tài)下的容積。被處理物2的包裝狀態(tài)的容積的值由用戶輸入至控制裝置6,控制裝置6基于輸入的值計算出被處理物2在包裝狀態(tài)下的容積Z??刂蒲b置6設(shè)定計算出的被處理物2在包裝狀態(tài)下的容積Z。
      [0043]被處理物2在包裝狀態(tài)下的容積Z如圖2(B)所示,基于多個被處理物2固定于夾具1并被層疊的狀態(tài),按照以下式(I)計算出。
      [0044]包裝狀態(tài)的容積Z = a*b*c 式(I)
      [0045]其中,a:夾具10的寬度,b:夾具10的深度,c:夾具10的層疊高度。
      [0046]接著,轉(zhuǎn)移至步驟S4,控制裝置6設(shè)定被處理物2的總表面面積。用戶計算出在真空滲碳室3中配置的所有的被處理物2的表面面積的值的合計并輸入至控制裝置6??偙砻婷娣e的值是根據(jù)被處理物2的個數(shù)及形狀而可變的值??刂蒲b置6將輸入的值設(shè)定為被處理物2的總表面面積A。
      [0047]接著,轉(zhuǎn)移至步驟S5,控制裝置6設(shè)定對每個滲碳氣體設(shè)定的常數(shù)。滲碳氣體的常數(shù)根據(jù)用戶使用的滲碳氣體的種類預(yù)先輸入至控制裝置6,控制裝置6將輸入的值設(shè)定為滲碳氣體的常數(shù)C。常數(shù)C的設(shè)定后述。
      [0048]接著,轉(zhuǎn)移至步驟S6,控制裝置6計算出氣體噴射量V。在此,控制裝置6基于步驟S2中設(shè)定的真空滲碳室3的體積Y、被處理物2的包裝狀態(tài)的容積V、總表面面積A、滲碳氣體的常數(shù)C,并基于以下式(2)決定氣體噴射量。
      [0049]V = C*Y*A/Z 式(2)
      [0050]接著,轉(zhuǎn)移至步驟S7,控制裝置6決定氣體噴射時間及氣體噴射停止時間。步驟S7的處理的詳情后述。由用戶計算的氣體噴射時間及氣體噴射停止時間的各個值輸入至控制裝置6,控制裝置6也可以將輸入的值決定為氣體噴射時間及氣體噴射停止時間。
      [0051 ]接著,轉(zhuǎn)移至步驟S8,控制裝置6基于決定的氣體噴射量V及氣體噴射時間,控制流量調(diào)節(jié)閥5的開關(guān)動作??刂蒲b置6基于步驟S6中決定的氣體噴射量V和步驟S7中決定的氣體噴射時間及氣體噴射停止時間,控制流量調(diào)節(jié)閥5的開關(guān)動作。步驟S8的處理的詳情后述。
      [0052]通過以上這樣的控制,控制裝置6設(shè)定氣體噴射量V、氣體噴射時間及氣體噴射停止時間,基于這些數(shù)據(jù)控制流量調(diào)節(jié)閥5的開關(guān)動作。通過這樣的控制,調(diào)整向真空滲碳室3噴射的滲碳氣體。
      [0053]接著,說明步驟S5中的用于決定常數(shù)C的被處理物2的總表面面積A和每單位占有容積的氣體噴射量V * Z/Y的相關(guān)關(guān)系。
      [0054]本實施方式中,在被處理物2的總表面面積A[m2]和標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的每單位時間的每單位占有容積的氣體噴射量V * Z/Y[NL/hr/m3 ]之間存在圖4所示那樣的相關(guān)關(guān)系。
      [0055]圖4是說明本實施方式的被處理物2的總表面面積A和每單位占有容積的氣體噴射量V*Z/Y的相關(guān)關(guān)系的一例的說明圖。圖4中表示滲碳氣體使用了丙烷氣體的例子,橫軸表示總表面面積A,縱軸表示每單位占有容積的氣體噴射量V * Z/Yo
      [0056]本申請發(fā)明人檢查圖4上的各點的點狀過量滲碳的產(chǎn)生狀況。其結(jié)果,以“Λ”描畫的各點中可知,向真空滲碳室3供給需要以上的滲碳氣體并產(chǎn)生點狀過量滲碳,或未向真空滲碳室3中供給需要量的滲碳氣體而產(chǎn)生滲碳不足。由描畫的各點中可知,供給適當(dāng)量的滲碳氣體并進行適當(dāng)?shù)臐B碳。
      [0057]圖4所示的直線LI及L2表示這些“?”、“Λ”的邊界。直線LI是表示C=120的直線。另一方面,直線L2是表示C = SO的直線。即,滿足80<C<120的總表面面積A及每單位占有容積的氣體噴射量V*Z/Y的關(guān)系時,相當(dāng)于圖4的“?”,可以進行適當(dāng)?shù)臐B碳。
      [0058]因此,在上述步驟S5中,基于圖4所示的相關(guān)關(guān)系設(shè)定常數(shù)C,由此,可以設(shè)定適當(dāng)?shù)臍怏w噴射量V。
      [0059]圖5是說明本實施方式的被處理物2的總表面面積A和每單位占有容積的氣體噴射量V*Z/Y的相關(guān)關(guān)系的另一例的圖。圖5中表示滲碳氣體使用了乙炔的例子,橫軸中表示總表面面積A,縱軸中表示每單位占有容積的氣體噴射量V * Z/Y。
      [0060]在滲碳氣體使用了乙炔的情況下,乙炔的活性碳如以下那樣比丙烷多,因此,設(shè)定成滲碳氣體使用了丙烷氣體時的氣體噴射量的60%。具體而言,如以下求得乙炔的常數(shù)C。
      [0061]乙炔(C2H2)的分子量26中,碳的量為24,表示有助于滲碳的碳量的比例的活性碳比率為 24/26 = 92.3%。
      [0062]另一方面,丙烷(C3H8)的分子量44中的碳為36,但將丙烷的1/3變換成惰性的甲烷(CH4)而不會反應(yīng)。因此,丙烷的活性碳比率為(36—12)/44 = 54.5%。
      [0063]通過這些,丙烷的活性碳比率與乙炔的活性碳比率之比為54.5/92.3 = 59%,因此,考慮到誤差而以成為丙烷的60%的方式設(shè)定乙炔的氣體噴射量。
      [0064]因此,圖5中,直線LI成為表示C= 120 * 60% =72的直線。直線L2成為表示C = 80 *60 % = 48的直線。即,滿足48 <C< 72的總表面面積A及每單位占有容積的氣體噴射量V * Z/Y的關(guān)系時,可以進行適當(dāng)?shù)臐B碳。
      [0065]接著,說明步驟S7中的氣體噴射時間及氣體噴射停止時間。
      [0066]圖6是本實施方式中的氣體噴射時間及氣體噴射停止時間的一例的說明圖。圖6中以陰影線表示根據(jù)氣體噴射量V進行氣體噴射的狀態(tài),被處理物2的表面碳濃度D的時效變化以實線表示。
      [0067]控制裝置6控制流量調(diào)節(jié)閥5的開關(guān)并控制氣體噴射的開始及停止。如圖6所示,在時刻O開始氣體噴射后,經(jīng)過時間t0后,表面碳濃度D到達界限濃度時停止氣體噴射。然后,經(jīng)過一定時間ts,表面碳濃度D直線狀地降低后,再次開始氣體噴射。
      [0068]以后,經(jīng)過一定時間tp,表面碳濃度D到達界限濃度時,再次停止氣體噴射。然后,經(jīng)過一定時間ts,表面碳濃度D直線狀地降低時,再次噴射氣體。即,控制裝置6將表面碳濃度D到達界限濃度時設(shè)為上限,并執(zhí)行斷續(xù)地重復(fù)進行噴射和噴射停止的間歇噴射。此外,界限濃度是點狀過量滲碳的產(chǎn)生及不產(chǎn)生的分界的表面碳濃度,通過實驗等預(yù)先求得。
      [0069]控制裝置6在步驟S8中基于步驟S6中決定的氣體噴射量V和步驟S7中決定的氣體噴射時間及氣體噴射停止時間,如圖6所示控制流量調(diào)節(jié)閥5的開關(guān)動作。
      [0070]這樣,控制裝置6在考慮了表面碳濃度D的時效變化的基礎(chǔ)上,以維持表面碳濃度D比界限濃度小的狀態(tài)的方式,決定氣體噴射時間及氣體噴射停止時間。由此,可以將表面碳濃度D保持在界限濃度以下,并且可以抑制點狀過量滲碳的產(chǎn)生。
      [0071]圖7是表示本實施方式中的滲碳處理整體的過程的說明圖。圖7中,以實線表示真空滲碳室3的溫度的時間經(jīng)過。
      [0072]使用了本實施方式的真空滲碳裝置I的真空滲碳的處理過程分成升溫期、滲碳期、擴散期及淬火期。升溫期、擴散期及淬火期與現(xiàn)有的處理方法一樣,因此,在此省略說明。圖7所示的滲碳期中,根據(jù)圖6中說明的氣體噴射圖案,控制裝置6控制流量調(diào)節(jié)閥5的開關(guān)動作。
      [0073]如以上所述,根據(jù)本實施方式,適用于通過向減壓的氣體環(huán)境的真空滲碳室3(滲碳室)中噴射滲碳氣體,對配置于真空滲碳室3的被處理物2進行滲碳的真空滲碳方法。向真空滲碳室3噴射的滲碳氣體的氣體噴射量V基于被處理物2在真空滲碳室3的包裝狀態(tài)下的容積Z、真空滲碳室3的體積Y、被處理物2的總表面面積A、基于滲碳氣體的種類設(shè)定的常數(shù)C計算出,并根據(jù)計算出的氣體噴射量V,將滲碳氣體噴射至真空滲碳室3。
      [0074]在現(xiàn)有的滲碳方法中,通過實驗求得依賴于被處理物2的物理特性的通量值。但是,難以使實驗時的被處理物2的形狀與實際工件的包裝狀態(tài)一致,從而難以求得適當(dāng)?shù)耐恐怠?br>[0075]本實施方式中,不根據(jù)通量值,而是基于被處理物2的包裝狀態(tài)的容積Z、真空滲碳室3的體積Y和被處理物2的總表面面積A決定氣體噴射量,因此,不用求得相對于被處理物2的通量值,就可以決定氣體噴射量。由此,防止點狀過量滲碳的產(chǎn)生的同時,可對被處理物高品質(zhì)地滲碳。該效果與本發(fā)明第一方面及第四方面對應(yīng)。
      [0076]此外,在被處理物2的表面面積相同的情況下,被處理物2的包裝狀態(tài)的容積Z的大小是表示被處理物2密集多少的值。即,在包裝狀態(tài)的容積Z較小的情況下,被處理物2的密集度較大。另外,在包裝狀態(tài)的容積Z較大的情況下,被處理物2的密集度較小,更易于滲碳氣體流動。由于這種原因,包裝狀態(tài)的容積Z越大,滲碳氣體的氣體噴射量V越小就可以。
      [0077]另外,根據(jù)本實施方式,在滲碳氣體使用丙烷、將標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的每單位時間的氣體噴射量設(shè)為V(NL/h)、將被處理物2在真空滲碳室3中的包裝狀態(tài)下的容積設(shè)為Z(m3)、將真空滲碳室3的體積設(shè)為Y(m3)、將被處理物2的總表面面積設(shè)為A(m2)、將對每個滲碳氣體設(shè)定的常數(shù)設(shè)為C時,如上述的式2(其中,80<C<<120)那樣計算出氣體噴射量V。
      [0078]本實施方式中,不根據(jù)通量值,而是基于被處理物2的包裝狀態(tài)的容積Z、真空滲碳室3的體積Y、被處理物2的總表面面積A、使用丙烷時的常數(shù)C,決定氣體噴射量,因此,不用求得相對于被處理物2的通量值,就可以決定氣體噴射量。由此,防止點狀過量滲碳的產(chǎn)生的同時,可對被處理物高品質(zhì)地滲碳。該效果與本發(fā)明第二方面對應(yīng)。
      [0079]另外,根據(jù)本實施方式,在將滲碳氣體使用乙炔、將標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的每單位時間的氣體噴射量設(shè)為V(NL/h)、將被處理物2在真空滲碳室3中的包裝狀態(tài)下的容積設(shè)為Z(m3)、將真空滲碳室3的體積設(shè)為Y(m3)、將被處理物2的總表面面積設(shè)為A(m2)、將對每個滲碳氣體設(shè)定的常數(shù)設(shè)為C時,如上述的式2(其中,48<C<72)那樣計算出氣體噴射量V。
      [0080]本實施方式中,不根據(jù)通量值,而是基于被處理物2的包裝狀態(tài)的容積Z、真空滲碳室3的體積Y、被處理物2的總表面面積A、使用乙炔時的常數(shù)C,決定氣體噴射量,因此,不用求得相對于被處理物2的通量值,就可以決定氣體噴射量。由此,防止點狀過量滲碳的產(chǎn)生的同時,可對被處理物高品質(zhì)地滲碳。該效果與本發(fā)明第三方面對應(yīng)。
      [0081]以上,說明本發(fā)明的實施方式,但上述實施方式表示本發(fā)明的應(yīng)用例之一,例如不僅可以是基于用戶向控制裝置6輸入的值決定氣體噴射量的方式,而且,也可以是在與控制裝置6不同的運算裝置中決定氣體噴射量并向控制裝置6輸入氣體噴射量的方式等,并不是將本發(fā)明的技術(shù)范圍限定于上述實施方式的具體構(gòu)成的意思。
      [0082]本實施方式中,以上敘述了以維持表面碳濃度D比界限濃度小的狀態(tài)的方式?jīng)Q定氣體噴射時間及氣體噴射停止時間。但是,這里所謂的界限濃度的值根據(jù)真空滲碳室3的滲碳處理溫度變化。因此,也可以通過預(yù)先實驗測量等按照每個溫度取得改變滲碳處理溫度時的界限濃度,且以維持表面碳濃度D比界限濃度小的狀態(tài)的方式按照每個溫度求得氣體噴射時間及氣體噴射停止時間。在該情況下,也可以根據(jù)設(shè)定的滲碳處理溫度設(shè)定最佳的氣體噴射時間及氣體噴射停止時間。
      [0083]另外,控制裝置6在決定氣體噴射量之后,決定氣體噴射時間及氣體噴射停止時間,但不限于該情況。只要是以維持被處理物2的表面碳濃度D比可抑制點狀過量滲碳的產(chǎn)生的濃度上限值小的狀態(tài)的方式,決定氣體噴射量、氣體噴射時間及氣體噴射停止時間,則上述的步驟S6及S7的處理也可以前后顛倒,也可以同時進行。
      【主權(quán)項】
      1.一種真空滲碳方法,通過向減壓的氣體環(huán)境的滲碳室噴射滲碳氣體,對配置于滲碳室的被處理物進行滲碳,其特征在于, 基于所述被處理物在所述滲碳室中的包裝狀態(tài)下的容積、所述滲碳室的體積、所述被處理物的總表面面積、基于所述滲碳氣體的種類而設(shè)定的常數(shù)計算出向所述滲碳室噴射的所述滲碳氣體的氣體噴射量, 將計算出的所述氣體噴射量的滲碳氣體噴射至所述滲碳室。2.如權(quán)利要求1所述的真空滲碳方法,其特征在于, 所述滲碳氣體為丙烷, 將標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的每單位時間的氣體噴射量設(shè)為V(NL/h)、將所述被處理物在所述滲碳室中的包裝狀態(tài)下的容積設(shè)為Z(m3)、將所述滲碳室的體積設(shè)為Y(m3)、將所述被處理物的總表面面積設(shè)為A(m2)、將對每個所述滲碳氣體設(shè)定的常數(shù)設(shè)為C時,以滿足80<C<120的方式?jīng)Q定所述氣體噴射量V,其中,V = C* Y* A/Z。3.如權(quán)利要求1所述的真空滲碳方法,其特征在于, 所述滲碳氣體為乙炔, 將標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下的每單位時間的氣體噴射量設(shè)為V(NL/h)、將所述被處理物在所述滲碳室中的包裝狀態(tài)下的容積設(shè)為Z(m3)、將所述滲碳室的體積設(shè)為Y(m3)、將所述被處理物的總表面面積設(shè)為A(m2)、將對每個所述滲碳氣體設(shè)定的常數(shù)設(shè)為C時,以滿足48<C<72的方式?jīng)Q定所述氣體噴射量V,其中,V = C*Y*A/Z。4.一種真空滲碳裝置,具備:流量控制閥,其向所述滲碳室供給滲碳氣體;控制裝置,其計算出所述氣體噴射量,并基于計算出的氣體噴射量控制所述流量控制閥的開關(guān), 所述控制裝置執(zhí)行權(quán)利要求1?3所述的真空滲碳方法。
      【文檔編號】C23C8/20GK105886998SQ201610076190
      【公開日】2016年8月24日
      【申請日】2016年2月3日
      【發(fā)明人】井田幸助, 井上信彥, 鈴木孝次郎, 狩野茂
      【申請人】加特可株式會社
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