流體拋光機的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種流體拋光機，包括機臺、安裝在所述機臺上的升降機構(gòu)和圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、研磨機構(gòu)，升降機構(gòu)、圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)和研磨機構(gòu)由電控裝置控制動作，升降機構(gòu)包括四個立柱、活動板、用于驅(qū)動活動板運動的驅(qū)動機構(gòu)，圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)包括圓盤和分度器，圓盤設(shè)置在分度器上方并與分度器同軸，圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)通過分度器作間歇旋轉(zhuǎn)運動，圓盤的盤面上設(shè)有若干用于固定工件的治具，研磨機構(gòu)由上研磨機構(gòu)和下研磨機構(gòu)組成，上研磨機構(gòu)設(shè)置在活動板上，下研磨機構(gòu)設(shè)置在圓盤的底部且與上研磨機構(gòu)對應(yīng)設(shè)置。本發(fā)明使復(fù)雜的工件內(nèi)壁拋光與研磨更加輕松、便利，顯著提高工件的性能、質(zhì)量、達到鏡面等級。
【專利說明】
流體拋光機
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及拋光技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種流體拋光機。
【背景技術(shù)】
[0002]在日用五金件的加工過程中，常常需要對某些零件進行拋光加工處理，拋光就是對工件表面進行加工，使其高度光潔。隨著產(chǎn)品形狀的多樣化、精度要求的不斷提高，特別是對于凹陷面與彎曲孔道的加工而言，傳統(tǒng)的手工研磨拋光無法滿足品質(zhì)要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的主要目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡單、使復(fù)雜的工件內(nèi)壁拋光與研磨更加便利的流體拋光機。
[0004]為了實現(xiàn)發(fā)明目的，本發(fā)明提供一種流體拋光機，包括機臺、安裝在所述機臺上的升降機構(gòu)和圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、研磨機構(gòu)，所述升降機構(gòu)、圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)和研磨機構(gòu)由電控裝置控制動作；
[0005]所述升降機構(gòu)包括設(shè)置在所述機臺上的四個立柱、能夠沿所述四個立柱上下運動的活動板、用于驅(qū)動所述活動板運動的驅(qū)動機構(gòu)；
[0006]所述圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)包括圓盤和分度器，所述分度器安裝在所述機臺上，所述圓盤設(shè)置在所述分度器上方并與分度器同軸，所述圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)通過分度器作間歇旋轉(zhuǎn)運動，所述圓盤的盤面上設(shè)有若干用于固定工件的治具；
[0007]所述研磨機構(gòu)由上研磨機構(gòu)和下研磨機構(gòu)組成，所述上研磨機構(gòu)設(shè)置在所述活動板上，所述下研磨機構(gòu)設(shè)置在所述圓盤的底部且與所述上研磨機構(gòu)對應(yīng)設(shè)置。
[0008]優(yōu)選地，所述上研磨機構(gòu)包括上磨料缸筒、用以推動所述上磨料缸筒內(nèi)的磨料運動的上研磨缸。
[0009]優(yōu)選地，所述上研磨缸包括上研磨缸筒和上研磨活塞，所述上研磨缸筒與所述上磨料缸筒連接，所述上研磨活塞伸入上磨料缸筒內(nèi)推動磨料運動。
[0010]優(yōu)選地，所述下研磨機構(gòu)包括下磨料缸筒、用以推動所述下磨料缸筒內(nèi)的磨料運動的下研磨缸。
[0011]優(yōu)選地，所述下研磨缸包括下研磨缸筒和下研磨活塞，所述下研磨缸筒與所述下磨料缸筒連接，所述下研磨活塞伸入下磨料缸筒內(nèi)推動磨料運動。
[0012]優(yōu)選地，所述治具通過轉(zhuǎn)盤設(shè)置在所述圓盤的盤面上，所述轉(zhuǎn)盤與圓盤同軸。
[0013]優(yōu)選地，所述機臺上設(shè)有防護罩，所述防護罩上設(shè)有觸摸屏。
[0014]本發(fā)明提供一種流體拋光機，通過設(shè)置了升降機構(gòu)、圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)和研磨機構(gòu)，將工件放在治具上，圓盤帶動其轉(zhuǎn)動，當(dāng)轉(zhuǎn)動到下研磨機構(gòu)位置處，圓盤停止運轉(zhuǎn)，上研磨機構(gòu)隨著活動板朝向工件運動，上磨料缸筒和下磨料缸筒相向夾持工件，下研磨缸推動磨料經(jīng)工件內(nèi)腔進入上磨料缸筒，待磨料上升到一定高度，上研磨缸推動磨料向下運動，下降至一定高度，磨料再次上升，如此循環(huán)往復(fù)，當(dāng)循環(huán)次數(shù)或拋光時間達到預(yù)設(shè)值后停止，上研磨機構(gòu)跟隨活動板上升運動，圓盤又開始運轉(zhuǎn)，繼續(xù)為下一個工件進行拋光。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單、操作安全方便，使復(fù)雜的工件內(nèi)壁拋光與研磨更加輕松、便利，顯著提高工件的性能、質(zhì)量、達到鏡面等級。
【附圖說明】
[0015]圖1為本發(fā)明一實施例中流體拋光機的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖2為圖1中所示流體拋光機側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖3為本發(fā)明一實施例中流體拋光機的研磨機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖4為本發(fā)明一實施例中流體拋光機的升降機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖5為本發(fā)明一實施例中流體拋光機的圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]本發(fā)明目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進一步說明。
【具體實施方式】
[0021]應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用于解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0022]參照圖1至圖5，圖1為本發(fā)明一實施例中流體拋光機的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為圖1中所示流體拋光機側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖，圖3為本發(fā)明一實施例中流體拋光機的研磨機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖4為本發(fā)明一實施例中流體拋光機的升降機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖5為本發(fā)明一實施例中流體拋光機的圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]—種流體拋光機，包括機臺1、安裝在機臺I上的升降機構(gòu)2和圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)3、研磨機構(gòu)4，升降機構(gòu)2、圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)3和研磨機構(gòu)4由電控裝置(圖中未示出)控制動作；
[0024]升降機構(gòu)2包括設(shè)置在機臺I上的四個立柱21、能夠沿四個立柱21上下運動的活動板22、用于驅(qū)動活動板22運動的驅(qū)動機構(gòu)23;
[0025]圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)3包括圓盤31和分度器32，分度器32安裝在機臺I上，圓盤31設(shè)置在分度器32上方并與分度器32同軸，圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)3通過分度器32作間歇旋轉(zhuǎn)運動，圓盤31的盤面上設(shè)有若干用于固定工件的治具33;
[0026]研磨機構(gòu)4由上研磨機構(gòu)41和下研磨機構(gòu)42組成，上研磨機構(gòu)41設(shè)置在活動板22上，下研磨機構(gòu)42設(shè)置在圓盤31的底部且與上研磨機構(gòu)41對應(yīng)設(shè)置。
[0027]在本實施例中，參照圖1至圖3，研磨機構(gòu)4由上研磨機構(gòu)41和下研磨機構(gòu)42組成，上研磨機構(gòu)41安裝在活動板22上，能跟隨活動板22上升下降，上研磨機構(gòu)41包括上磨料缸筒411、用以推動上磨料缸筒411內(nèi)的磨料運動的上研磨缸412，上研磨缸412包括上研磨缸筒和上研磨活塞，上研磨缸筒與上磨料缸筒411連接，上研磨活塞伸入上磨料缸筒411內(nèi)推動磨料運動。下研磨機構(gòu)42包括下磨料缸筒421、用以推動下磨料缸筒421內(nèi)的磨料運動的下研磨缸422。下研磨缸422包括下研磨缸筒和下研磨活塞，下研磨缸筒與下磨料缸筒421連接，下研磨活塞伸入下磨料缸筒421內(nèi)推動磨料運動。上研磨活塞和下研磨活塞均套設(shè)有密封圈，能夠防止磨料泄露，還能夠穩(wěn)定工作氣壓的作用。拋光時，上研磨機構(gòu)41跟隨活動板22下降，上磨料缸筒411和下磨料缸筒421夾持工件43，下研磨缸422推動磨料經(jīng)工件43內(nèi)腔進入上磨料缸筒411，待磨料上升到一定高度，上研磨缸412推動磨料向下運動，下降至一定高度，磨料再次上升，如此循環(huán)往復(fù)，當(dāng)循環(huán)次數(shù)或拋光時間達到預(yù)設(shè)值后停止，上研磨機構(gòu)41跟隨活動板22上升。
[0028]在本實施例中，參照圖1、圖2和圖4，升降機構(gòu)2包括立柱21、活動板22、驅(qū)動機構(gòu)23、垂直運動直線軸承24，立柱21為四個，安裝在機臺I上，四個立柱21上設(shè)有活動板22，活動板22四角均設(shè)有垂直運動直線軸承24，該垂直運動直線軸承24套設(shè)在立柱21上，活動板22的左右兩端均設(shè)有一驅(qū)動機構(gòu)23，驅(qū)動機構(gòu)23能夠驅(qū)動活動板22沿立柱21上升下降。在本實施例中，該驅(qū)動機構(gòu)可以是液壓驅(qū)動機構(gòu)、也可以是電機驅(qū)動機構(gòu)、或者其它能夠驅(qū)動活動板23沿立柱21上升下降的動力機構(gòu)，在此，不作具體限定。
[0029]在本實施例中，參照圖1、圖2和圖5，圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)3包括圓盤31、分度器32，分度器32設(shè)置在機臺I上，圓盤31設(shè)置在分度器32上方并與分度器32同軸，圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)3通過分度器32作間歇旋轉(zhuǎn)運動，圓盤31的盤面上設(shè)有若干用于固定工件43的治具33。進一步的，治具33通過轉(zhuǎn)盤34設(shè)置在圓盤31的盤面上，轉(zhuǎn)盤34與圓盤31同軸，通過增設(shè)轉(zhuǎn)盤34，可以使得上研磨機構(gòu)41壓住工件43起到緩沖的作用。
[0030]在本實施例中，機臺I的外側(cè)壁設(shè)有防護罩，安全性高，有效的消除了安全隱患，防護罩上還設(shè)有觸摸屏，在觸摸屏上可設(shè)定各項參數(shù)。
[0031]本發(fā)明流體拋光機的工作過程為:將工件43放在治具33上，圓盤31帶動其轉(zhuǎn)動，當(dāng)轉(zhuǎn)動到下研磨機構(gòu)42位置處，圓盤31停止運轉(zhuǎn)，上研磨機構(gòu)41隨著活動板22朝向工件43運動，上磨料缸筒411和下磨料缸筒421相向夾持工件43，下研磨缸422推動磨料經(jīng)工件43內(nèi)腔進入上磨料缸筒411，待磨料上升到一定高度，上研磨缸412推動磨料向下運動，下降至一定高度，磨料再次上升，如此循環(huán)往復(fù)，電控裝置可根據(jù)實際需要選擇拋光工藝為計時模式或計數(shù)模式，選擇計時模式，當(dāng)循環(huán)時間達到設(shè)定值后，循環(huán)便停止，選擇計數(shù)模式，當(dāng)循環(huán)次數(shù)達到設(shè)定值后便會停止，當(dāng)循環(huán)停止后，上研磨機構(gòu)41跟隨活動板22上升，圓盤31又開始轉(zhuǎn)動，繼續(xù)為下一個工件43進行拋光。
[0032]以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種流體拋光機，其特征在于，包括機臺、安裝在所述機臺上的升降機構(gòu)和圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、研磨機構(gòu)，所述升降機構(gòu)、圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)和研磨機構(gòu)由電控裝置控制動作； 所述升降機構(gòu)包括設(shè)置在所述機臺上的四個立柱、能夠沿所述四個立柱上下運動的活動板、用于驅(qū)動所述活動板運動的驅(qū)動機構(gòu)； 所述圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)包括圓盤和分度器，所述分度器安裝在所述機臺上，所述圓盤設(shè)置在所述分度器上方并與分度器同軸，所述圓盤旋轉(zhuǎn)機構(gòu)通過分度器作間歇旋轉(zhuǎn)運動，所述圓盤的盤面上設(shè)有若干用于固定工件的治具； 所述研磨機構(gòu)由上研磨機構(gòu)和下研磨機構(gòu)組成，所述上研磨機構(gòu)設(shè)置在所述活動板上，所述下研磨機構(gòu)設(shè)置在所述圓盤的底部且與所述上研磨機構(gòu)對應(yīng)設(shè)置。2.如權(quán)利要求1所述的流體拋光機，其特征在于，所述上研磨機構(gòu)包括上磨料缸筒、用以推動所述上磨料缸筒內(nèi)的磨料運動的上研磨缸。3.如權(quán)利要求2所述的流體拋光機，其特征在于，所述上研磨缸包括上研磨缸筒和上研磨活塞，所述上研磨缸筒與所述上磨料缸筒連接，所述上研磨活塞伸入上磨料缸筒內(nèi)推動磨料運動。4.如權(quán)利要求1所述的流體拋光機，其特征在于，所述下研磨機構(gòu)包括下磨料缸筒、用以推動所述下磨料缸筒內(nèi)的磨料運動的下研磨缸。5.如權(quán)利要求4所述的流體拋光機，其特征在于，所述下研磨缸包括下研磨缸筒和下研磨活塞，所述下研磨缸筒與所述下磨料缸筒連接，所述下研磨活塞伸入下磨料缸筒內(nèi)推動磨料運動。6.如權(quán)利要求1所述的流體拋光機，其特征在于，所述治具通過轉(zhuǎn)盤設(shè)置在所述圓盤的盤面上，所述轉(zhuǎn)盤與圓盤同軸。7.如權(quán)利要求1所述的流體拋光機，其特征在于，所述機臺上設(shè)有防護罩，所述防護罩上設(shè)有觸摸屏。
【文檔編號】B24B41/00GK106041711SQ201610394822
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年6月3日
【發(fā)明人】李凱
【申請人】深圳市普盛旺科技有限公司