端面研磨裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及機(jī)加工零件端面加工裝置，尤其涉及一種端面研磨裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]一鋼軋廠扇形段連鑄輥用旋轉(zhuǎn)接頭全部外購，年消耗約360萬元左右。旋轉(zhuǎn)接頭作為轉(zhuǎn)動部件在各類機(jī)械設(shè)備中使用廣泛。在連鑄冷卻系統(tǒng)中，向支撐輥和驅(qū)動輥輸送冷卻水進(jìn)行冷卻時要靠旋轉(zhuǎn)接頭連接旋轉(zhuǎn)的輥?zhàn)雍筒粍拥睦鋮s水管管道。旋轉(zhuǎn)接頭的好壞直接影響連鑄輥的冷卻效果。旋轉(zhuǎn)接頭泄漏造成連鑄輥及軸承冷卻不良，補(bǔ)充循環(huán)冷卻水易使水質(zhì)變壞，加劇旋轉(zhuǎn)接頭磨損存在惡性循環(huán)的環(huán)境中，影響連鑄質(zhì)量，通過對具有滲漏問題旋轉(zhuǎn)接頭進(jìn)行拆解，發(fā)現(xiàn)存在銹蝕卡滯、壓簧失效、機(jī)械密封失效、氮化硅密封環(huán)嚴(yán)重磨損等問題，為了確保旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)的密封，除了更換相應(yīng)構(gòu)件以外，對于一些氮化硅密封環(huán)需要進(jìn)行重新研磨，保證氮化硅片兩面的粗糙度和平整度復(fù)合密封要求，現(xiàn)有的修復(fù)方式是通過手工研磨修復(fù)，一方面修復(fù)質(zhì)量差，另外一方面，修復(fù)周期較長，勞動強(qiáng)度大。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種端面研磨裝置，將氮化硅片置于輥套內(nèi)，由主軸施力壓緊輥套，主軸帶動研磨盤相對于研磨臺相對轉(zhuǎn)動，在轉(zhuǎn)動同時，輥套相對于對應(yīng)限位輪組內(nèi)的三個限位輪發(fā)生滾動，充分研磨氮化硅片的兩個表面，在研磨的同時可以向輥套內(nèi)注入研磨劑，研磨后的氮化硅片粗糙度值達(dá)到0.8微米以上，平面度在0.01毫米范圍內(nèi)，產(chǎn)品質(zhì)量得到了可靠的技術(shù)保證，有效地解決了采用手工研磨旋轉(zhuǎn)接頭密封不嚴(yán)、產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定的缺點(diǎn)。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案是:一種端面研磨裝置，包括豎向設(shè)置的主軸、安裝在主軸下端的研磨盤、卡裝在研磨盤下表面上的輥套和設(shè)于研磨盤正下方的研磨臺，所述研磨盤下表面上設(shè)置三套輥套，三套輥套相對于主軸的軸線均勻布置。
[0005]所述研磨盤下表面上設(shè)有繞主軸的軸線均勻布置的三組限位輪組，每組限位輪組包括三套可圍成等邊三角形的限位輪，限位輪套裝在固定設(shè)于研磨盤下表面上的銷軸上，所述輥套外徑等于同時與三套限位輪內(nèi)側(cè)相切的圓形直徑。
[0006]所述研磨盤借助于螺栓固定安裝在主軸下端。
[0007]所述輥套為圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
[0008]采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于:將氮化硅片置于輥套內(nèi)，由主軸施力壓緊輥套，主軸帶動研磨盤相對于研磨臺相對轉(zhuǎn)動，在轉(zhuǎn)動同時，輥套相對于對應(yīng)限位輪組內(nèi)的三個限位輪發(fā)生滾動，充分研磨氮化硅片的兩個表面，在研磨的同時可以向輥套內(nèi)注入研磨劑，研磨后的氮化硅片粗糙度值達(dá)到0.8微米以上，平面度在0.01毫米范圍內(nèi)，產(chǎn)品質(zhì)量得到了可靠的技術(shù)保證，有效地解決了采用手工研磨旋轉(zhuǎn)接頭密封不嚴(yán)、產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定的缺點(diǎn)。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖2是研磨臺結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011 ] 圖3是輥套和研磨盤安裝結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]在附圖中:1、研磨盤；2、研磨臺；3、限位輪；4、輥套；5、銷軸；6、主軸。
【具體實(shí)施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0014]為了解決現(xiàn)有旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)修復(fù)過程中氮化硅片手工研磨質(zhì)量差，效率低的問題，本實(shí)用新型提供一種如圖1-3所示的端面研磨裝置，包括豎向設(shè)置的主軸6、安裝在主軸6下端的研磨盤1、卡裝在研磨盤I下表面上的輥套4和設(shè)于研磨盤I正下方的研磨臺2，所述研磨盤I下表面上設(shè)置三套輥套4，三套輥套4相對于主軸6的軸線均勻布置；所述研磨盤I下表面上設(shè)有繞主軸6的軸線均勻布置的三組限位輪組，每組限位輪組包括三套可圍成等邊三角形的限位輪3，限位輪3套裝在固定設(shè)于研磨盤I下表面上的銷軸5上，所述輥套4外徑等于同時與三套限位輪3內(nèi)側(cè)相切的圓形直徑；所述研磨盤I借助于螺栓固定安裝在主軸6下端；所述輥套4為圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
[0015]在具體應(yīng)用過程中，本實(shí)用新型還可以配套安裝用于驅(qū)動研磨臺2水平往復(fù)運(yùn)動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，可以使用液壓缸驅(qū)動主軸上下運(yùn)動，在研磨之前，液壓缸驅(qū)動主軸上升，將輥套按照與三組限位輪組的位置擺放在研磨臺2上，并將待研磨的氮化硅片置于輥套4內(nèi)，此時下降主軸和研磨盤，使研磨盤壓緊輥套，輥套位于對應(yīng)的限位輪之間，同時驅(qū)動主軸旋轉(zhuǎn)，研磨臺水平往復(fù)運(yùn)動，主軸帶動研磨盤相對于研磨臺相對轉(zhuǎn)動，在轉(zhuǎn)動同時，輥套相對于對應(yīng)限位輪組內(nèi)的三個限位輪發(fā)生滾動，充分研磨氮化硅片的兩個表面，在研磨的同時可以向輥套內(nèi)注入研磨劑，研磨后的氮化硅片粗糙度值達(dá)到0.8微米以上，平面度在0.01毫米范圍內(nèi)，產(chǎn)品質(zhì)量得到了可靠的技術(shù)保證，有效地解決了采用手工研磨旋轉(zhuǎn)接頭密封不嚴(yán)、產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定的缺點(diǎn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種端面研磨裝置，其特征在于:包括豎向設(shè)置的主軸(6)、安裝在主軸(6)下端的研磨盤(I )、卡裝在研磨盤(I)下表面上的輥套(4)和設(shè)于研磨盤(I)正下方的研磨臺(2)，所述研磨盤(I)下表面上設(shè)置三套輥套(4)，三套輥套(4)相對于主軸(6)的軸線均勻布置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的端面研磨裝置，其特征在于:所述研磨盤(I)下表面上設(shè)有繞主軸(6)的軸線均勻布置的三組限位輪組，每組限位輪組包括三套可圍成等邊三角形的限位輪(3)，限位輪(3)套裝在固定設(shè)于研磨盤(I)下表面上的銷軸(5)上，所述輥套(4)外徑等于同時與三套限位輪(3)內(nèi)側(cè)相切的圓形直徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的端面研磨裝置，其特征在于:所述研磨盤(I)借助于螺栓固定安裝在主軸(6)下端。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的端面研磨裝置，其特征在于:所述輥套(4)為圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種端面研磨裝置，包括豎向設(shè)置的主軸、安裝在主軸下端的研磨盤、卡裝在研磨盤下表面上的輥套和設(shè)于研磨盤正下方的研磨臺，所述研磨盤下表面上設(shè)置三套輥套，三套輥套相對于主軸的軸線均勻布置；將氮化硅片置于輥套內(nèi)，由主軸施力壓緊輥套，主軸帶動研磨盤相對于研磨臺相對轉(zhuǎn)動，在轉(zhuǎn)動同時，輥套相對于對應(yīng)限位輪組內(nèi)的三個限位輪發(fā)生滾動，充分研磨氮化硅片的兩個表面，在研磨的同時可以向輥套內(nèi)注入研磨劑，研磨后的氮化硅片粗糙度值達(dá)到0.8微米以上，平面度在0.01毫米范圍內(nèi)，產(chǎn)品質(zhì)量得到了可靠的技術(shù)保證，有效地解決了采用手工研磨旋轉(zhuǎn)接頭密封不嚴(yán)、產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定的缺點(diǎn)。
【IPC分類】B24B37-30, B24B37-10
【公開號】CN204487342
【申請?zhí)枴緾N201520139013
【發(fā)明人】朱英魁, 張健, 肖鵬, 董鋼
【申請人】唐山鋼鐵集團(tuán)有限責(zé)任公司
【公開日】2015年7月22日
【申請日】2015年3月12日