磁控濺射裝置中使用的沉積腔體隔板的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型技術涉及磁控濺射裝置中的沉積腔體隔板，具體地說，是一種制備導電薄膜使用的柔性、連續(xù)型磁控濺射多陰極沉積裝置中的隔板。
【背景技術】
[0002]柔性、連續(xù)型多陰極磁控濺射裝置廣泛應用于柔性顯示器件、柔性智能觸摸屏、柔性薄膜太陽能電池的制造中。柔性、連續(xù)型、多陰極磁控濺射裝置中，使用隔板將各陰極之間隔離，一是減少相互間離子作用的影響；二是阻擋非朝向沉積基底面的沉積物，并將其吸附，以免對被沉積基底的影響。
[0003]使用參見圖1所示的磁控濺射裝置，進行柔性、連續(xù)型磁控濺射多陰極沉積成膜的過程，柔性透明基材從放卷腔Cl內的放卷輥Al上放出后依次經過鍍膜腔C2內的第一至第六沉積室D 1~ D6、并經冷鼓BI卷繞冷卻，被收卷腔C3內的收卷輥A2收卷。放卷腔、鍍膜腔和收卷腔內的真空狀態(tài)是相互隔離的，使用該裝置進行磁控濺射得到的柔性透明導電薄膜可以是無限連續(xù)均勻的。第一至第六沉積室的隔板S1~S6將沉積室內各陰極之間隔離，一是減少相互間離子作用的影響；二是阻擋非朝向沉積基底面的沉積物，并將其吸附。各陰極的靶材可以是單晶硅、銀、無氧高導電銅、半導體氧化物(摻鈦氧化鋅錫或銦錫等等。
[0004]傳統(tǒng)使用的隔板為不銹鋼，或鋁材。不銹鋼隔板由于其膨脹系數(shù)和沉積物相差較大，吸附至一定厚度后，因磁控濺射溫度影響極易產生剝落，對沉積質量和陰極靶均會產生不良影響，為此經常需要停機開艙對隔板進行清潔，不但誤工，而且開艙后恢復真空增大了能源消耗。若使用鋁材，其成本相對較高，且硬度低，操作中極易變形，，對沉積質量產生一定的影響。

【發(fā)明內容】

[0005]本實用新型的目的是提供一種硬度高，不易變形，無需清潔，耐用性好，使用成本低，節(jié)約能耗的磁控濺射裝置中使用的沉積腔體隔板。
[0006]本實用新型所述的磁控濺射裝置中使用的沉積腔體隔板，包括不銹鋼基板及附著在不銹鋼基板內表面的鋁膜，鋁膜厚度約0.2-0.5mm ;不銹鋼基板內表面和鋁膜表面粗糙、凹凸不平。
[0007]上述的沉積腔體隔板，鋁膜表面的峰谷差值約30-40um，峰距約40-50um。
[0008]上述的沉積腔體隔板，不銹鋼基板厚度l_3mm。
[0009]本沉積腔體隔板的有益效果:1、成本低。相對鋁基板，本隔板具有不銹鋼基板，硬度高，不易變形、耐用，成本費用低。2、減少能源消耗?；迳细街粚优c沉積物親和力較好的鋁膜，且鋁膜表面粗糙、凹凸不平，增加接觸面積；提高沉積物在其表面的親和力。同時減少隔板的清潔，節(jié)省清潔費用、清潔消耗的能源；同時也減少使用該隔板的磁控濺射腔體開艙次數(shù)，降低開艙后真空恢復的能源消耗，提高工時利用率。
[0010]本實用新型同時提供了一種制備導電薄膜的磁控濺射裝置中使用的沉積腔體隔板的制備方法，以該方法制備的沉積腔體隔板，基板與鋁膜結合牢固，不易剝離，同時鋁膜表面凹凸不平，提高沉積物在其表面的親和力。
[0011]磁控濺射裝置中使用的沉積腔體隔板的制備方法，包括下述步驟:
[0012]a、粗化:將作為基板的不銹鋼板內側表面采用噴砂處理，砂粒為金剛砂，使得不銹鋼板內表面形成凹凸不平；
[0013]b、清洗:對經噴砂處理的不銹鋼基板內側表面清洗，以清除表面異物、雜質及粉塵；然后烘干；
[0014]C、覆膜:使用融射噴鋁裝置，對經噴砂處理的不銹鋼基板內側表面熔射噴鍍一層鋁膜，鋁膜厚度約0.2-0.5mm ;
[0015]d、去應力:對覆膜后的不銹鋼基板升溫至210_230°C，然后自然降溫，消除應力。
[0016]上述沉積腔體隔板的制備方法，金剛砂粒為330-370目。
[0017]上述沉積腔體隔板的制備方法，在步驟c后、步驟d前有步驟:d0、清洗:將覆膜后的不銹鋼基板清洗，以清除表面異物、雜質及粉塵。
[0018]上述沉積腔體隔板的制備方法，步驟b所述清洗是采用超聲波清洗機、并以純凈水為清洗液進行清洗。
[0019]上述沉積腔體隔板的制備方法，步驟b所述烘干是采用烘箱進行烘干處理，烘干溫度200度，保溫時間lOmin。
[0020]該制備方法的有益效果:
[0021]該方法，對不銹鋼板基板在沉積腔體的內側表面經過(噴砂)粗化處理，形成微細凹凸不平面，增加了與鋁膜的接觸面積，結合力增大。表面經過粗化處理后的不銹鋼板隔板表面(通過融射)覆有鋁薄膜層，制備快捷方便，且鋁膜表面凹凸不平，提高沉積物在其表面的親和力。經過去應力處理，隔板在高溫的使用狀態(tài)，不會變形。
【附圖說明】
[0022]圖1是磁控濺射裝置示意圖；
[0023]圖2是沉積腔體隔板示意圖。
【具體實施方式】
[0024]—種柔性、連續(xù)型磁控濺射多陰極沉積腔體隔板的制備。
[0025]隔板的基板材質為不銹鋼，不銹鋼基板厚度2.5_。
[0026]基板靠腔體內側表面的覆膜制成方法:
[0027]表面保護，將成型不銹鋼基板內側不需要粗化、覆膜部分使用膠帶類覆蓋，避免噴砂處理破壞表面；
[0028]表面粗化處理，將成型不銹鋼基板內表面未經保護處經過粗化處理形成微細凹凸面，采用噴砂處理，沙粒為金剛砂，沙粒約為350目；參見圖2，經噴砂處理后表面形成粗糙不平的凹凸面，其峰谷差值X約25-30um，峰距Y約30_45um。
[0029]清洗，將內側表面經噴砂處理后的不銹鋼基板采用超聲波清洗機、以清洗液清洗，清洗液為純凈水，以清除表面異物、雜質及粉塵；
[0030]烘干，使用烘箱對清洗后工件作烘干處理，去除水分。烘干溫度200度，時間1min0
[0031]覆膜，使用融射噴鋁裝置，在經過噴砂處理的表面熔射噴鍍一層鋁膜，鋁膜厚度約0.2-0.5mm;
[0032]清洗，將覆膜后的不銹鋼基板采用超聲波清洗機、以清洗液清洗，清洗液為純凈水，以清除表面異物、雜質及粉塵；
[0033]應力消除及烘干，使用自動升溫降溫烘箱對清洗后工件作烘干處理，去除水分及應力消除。應力消除及烘干溫度最高220°C，保溫lOmin，升降溫時8_10°C /min。
[0034]以該方法制備的沉積腔體隔板參見圖2，包括不銹鋼基板I及附著在不銹鋼基板內表面的鋁膜2，鋁膜2表面凹凸不平，其峰谷差值H約30-40um，峰距L約40-50um。本實用新型的有益效果:
[0035]1、柔性、連續(xù)型磁控濺射多陰極沉積腔體隔板基板為不銹鋼板與鋁膜的結合體；
[0036]2、不銹鋼板基板在沉積室內側表面經過(噴砂)粗化處理，形成微細凹凸面，增加接觸面積。
[0037]3、表面經過粗化處理后的不銹鋼板隔板表面(通過融射)覆有鋁薄膜層，且鋁膜表面凹凸不平，提高沉積物在其表面的親和力。
【主權項】
1.磁控濺射裝置中使用的沉積腔體隔板，其特征是:它包括不銹鋼基板及附著在不銹鋼基板內表面的鋁膜，鋁膜厚度約0.2-0.5mm ;不銹鋼基板內表面和鋁膜表面粗糙、凹凸不平。2.如權利要求1所述的沉積腔體隔板，其特征是:鋁膜表面的峰谷差值約30-40um，峰距約 40_50um。3.如權利要求1所述的沉積腔體隔板，其特征是:不銹鋼基板厚度l_3mm。
【專利摘要】本實用新型提供一種硬度高，不易變形，無需清潔，耐用性好，使用成本低，節(jié)約能耗的磁控濺射裝置中使用的沉積腔體隔板。它包括不銹鋼基板及附著在不銹鋼基板內表面的鋁膜，鋁膜厚度約0.2-0.5mm；不銹鋼基板內表面和鋁膜表面粗糙、凹凸不平。
【IPC分類】C23C4/02, C23C4/18, C23C4/08, C23C14/35
【公開號】CN204779788
【申請?zhí)枴緾N201520478511
【發(fā)明人】王魯南, 王建華, 竇立峰
【申請人】南京匯金錦元光電材料有限公司
【公開日】2015年11月18日
【申請日】2015年7月6日