真空噴霧裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及物理氣相沉積技術領域，尤其涉及一種用于物理氣相沉積的真空噴霧裝置。
【背景技術】
[0002]傳統(tǒng)的真空爐配合物理氣相沉積技術早在20世紀初已有些應用，在最近30年迅速發(fā)展，成為一門極具廣闊應用前景的新技術，并向著環(huán)保型、清潔型趨勢發(fā)展。20世紀90年代初至今，在鐘表行業(yè)，尤其是高檔手表金屬外觀件的表面處理方面達到越來越為廣泛的應用，進而衍生到3C及電子產(chǎn)品。
[0003]物理氣相沉積(Physical Vapor Deposit1n, PVD)技術是在真空條件下，采用物理方法將材料源一一固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。
[0004]目前，物理氣相沉積大都只在真空爐內進行，材料源在真空爐內氣化形成噴霧效果在基體表面沉積。而真空爐內空間有限，材料源在其中無充分時間混合以及進行化學反應，達到的物理氣相沉積效果不佳。
【實用新型內容】
[0005]本實用新型要解決的技術問題在于，提供一種提高物理氣相沉積效果的真空噴霧
目.ο
[0006]本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:提供一種真空噴霧裝置，用于物理氣相沉積，其包括真空爐、以及將材料源氣化形成氣霧并輸送至所述真空爐的噴霧氣化爐，所述噴霧氣化爐與所述真空爐相連接；所述噴霧氣化爐內部設有供所述氣霧收容并混合的氣霧室。
[0007]優(yōu)選地，所述噴霧氣化爐包括爐體、以及將所述材料源噴進所述爐體內以形成氣霧的氣霧發(fā)生器；所述氣霧室位于所述爐體內部，所述氣霧發(fā)生器設置在所述氣霧室內。
[0008]優(yōu)選地，所述氣霧發(fā)生器設置在所述氣霧室的底部。
[0009]優(yōu)選地，所述氣霧發(fā)生器包括氣霧噴槍。
[0010]優(yōu)選地，所述噴霧氣化爐還包括豎直設置在所述氣霧室內的螺旋混合器，所述螺旋混合器和氣霧室之間形成有供所述氣霧通過的螺旋通道。
[0011]優(yōu)選地，所述噴霧氣化爐還包括用于將載流氣體輸送至所述氣霧室內的進氣孔，所述進氣孔設置在所述爐體上并與所述氣霧室連通。
[0012]優(yōu)選地，所述噴霧氣化爐還包括用于過濾以凈化所述載流氣體的空氣過濾機構，所述空氣過濾機構設置在所述爐體內并位于所述進氣孔和氣霧室之間。
[0013]優(yōu)選地，所述進氣孔設置在所述爐體底部。
[0014]優(yōu)選地，該真空噴霧裝置還包括將所述氣霧從所述噴霧氣化爐輸送至所述真空爐的氣霧管道；所述氣霧管道連接在所述真空爐和噴霧氣化爐之間。
[0015]優(yōu)選地，所述氣霧管道的兩端分別連接在所述真空爐和噴霧氣化爐的頂部。
[0016]實施本實用新型的有益效果:材料源先在噴霧氣化爐內氣化形成氣霧后再輸送至真空爐以完成物理氣相沉積，其中氣霧在噴霧氣化爐內及輸送至真空爐的過程中有充分的空間和時間進行混合，從而提高物理氣相沉積效果。
【附圖說明】
[0017]下面將結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明，附圖中:
[0018]圖1是本實用新型一實施例的真空噴霧裝置的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0019]為了對本實用新型的技術特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對照附圖詳細說明本實用新型的【具體實施方式】。
[0020]如圖1所示，本實用新型一實施例的真空噴霧裝置，用于物理氣相沉積，以在基體表面沉積形成薄膜。該真空噴霧裝置包括真空爐10以及與真空爐10相連接的噴霧氣化爐20，噴霧氣化爐20用于將材料源氣化形成氣霧并輸送至真空爐10，噴霧氣化爐20內部設有供氣霧收容并混合的氣霧室201，氣霧從氣霧室201輸送到真空爐10內并在基體上沉積形成薄膜。
[0021]該噴霧氣化爐20的設置，使得材料源不需在真空爐10內氣化，有利于真空爐10的簡化設置。材料源先在噴霧氣化爐20內氣化形成氣霧后再輸送至真空爐10以完成物理氣相沉積，可達到單純給料、材料多樣配比的效果。并且，氣霧在噴霧氣化爐20內及輸送至真空爐10的過程中有充分的空間和時間進行混合，從而提高物理氣相沉積效果。
[0022]其中，真空爐10為進行物理氣相沉積的真空爐10。材料源為對應基體選用的進行物理氣相沉積的材料。
[0023]噴霧氣化爐20包括爐體21以及將材料源噴進爐體21內以形成氣霧的氣霧發(fā)生器22。氣霧室201位于爐體21內部，氣霧發(fā)生器22設置在氣霧室201內。
[0024]在本實施例中，氣霧發(fā)生器22設置在氣霧室201的底部，從而材料源在氣霧室201底部氣化后向上行進至頂部，并從爐體21的頂部輸送至真空爐10。氣霧發(fā)生器22包括氣霧噴槍，可設有一個或多個。
[0025]進一步地，為增加氣霧的行進路徑，噴霧氣化爐20還包括豎直設置在氣霧室201內的螺旋混合器23。螺旋混合器23和氣霧室201之間形成有供氣霧通過的螺旋通道，在氣霧室201底部形成的氣霧沿著螺旋通道向上行進，在行進過程中有充分的空間和時間混合。該螺旋混合器23的設置，還有利于爐體21體積縮小設置，且同時保證爐體21內有足夠的路徑供氣霧通過，保證氣霧的充分混合空間和時間。在本實施例中，該螺旋混合器23包括螺桿。
[0026]噴霧氣化爐20還包括設置在爐體21上并與氣霧室201連通的進氣孔24，該進氣孔24用于將載流氣體輸送至氣霧室201內。載流氣體在氣霧室201內與氣霧混合并一同輸送至真空爐10。載流氣體通常為氬氣。
[0027]進氣孔24設置在爐體21底部，載流氣體在材料源噴進氣霧室201內氣化形成氣霧的同時與氣霧混合。
[0028]另外，噴霧氣化爐20還包括空氣過濾機構25，其設置在爐體21內并位于進氣孔24和氣霧室201之間，用于過濾以凈化載流氣體，避免有雜質進入氣霧室201內污染氣霧。該空氣過濾機構25可選用空氣過濾網(wǎng)等。
[0029]進一步地，該真空噴霧裝置還包括氣霧管道30，連接在真空爐10和噴霧氣化爐20之間，將氣霧從噴霧氣化爐20輸送至真空爐10。如圖1所示，本實施例中，氣霧管道30的兩端分別連接在真空爐10和噴霧氣化爐20的頂部，氣霧管道30的兩端分別與真空爐10內部和噴霧氣化爐20的氣霧室201相連通。
[0030]進行物理氣相沉積時，將基體放置在真空爐10內，將材料源從氣霧發(fā)生器22噴進噴霧氣化爐20的氣霧室201內，同時導進載流氣體。載流氣體和氣霧混合并沿著螺旋通道向上流動至頂部，如圖1中箭頭所示，然后沿著氣霧管道30流動至真空爐10內，在真空環(huán)境下沉積到基體表面形成薄膜。
[0031]以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。
【主權項】
1.一種真空噴霧裝置，用于物理氣相沉積，其特征在于，包括真空爐(10)、以及將材料源氣化形成氣霧并輸送至所述真空爐(10)的噴霧氣化爐(20)，所述噴霧氣化爐(20)與所述真空爐(10)相連接；所述噴霧氣化爐(20)內部設有供所述氣霧收容并混合的氣霧室(201)。2.根據(jù)權利要求1所述的真空噴霧裝置，其特征在于，所述噴霧氣化爐(20)包括爐體(21)、以及將所述材料源噴進所述爐體(21)內以形成氣霧的氣霧發(fā)生器(22);所述氣霧室(201)位于所述爐體(21)內部，所述氣霧發(fā)生器(22)設置在所述氣霧室(201)內。3.根據(jù)權利要求2所述的真空噴霧裝置，其特征在于，所述氣霧發(fā)生器(22)設置在所述氣霧室(201)的底部。4.根據(jù)權利要求2所述的真空噴霧裝置，其特征在于，所述氣霧發(fā)生器(22)包括氣霧噴槍。5.根據(jù)權利要求2所述的真空噴霧裝置，其特征在于，所述噴霧氣化爐(20)還包括豎直設置在所述氣霧室(201)內的螺旋混合器(23)，所述螺旋混合器(23)和氣霧室(201)之間形成有供所述氣霧通過的螺旋通道。6.根據(jù)權利要求2所述的真空噴霧裝置，其特征在于，所述噴霧氣化爐(20)還包括用于將載流氣體輸送至所述氣霧室(201)內的進氣孔(24 )，所述進氣孔(24 )設置在所述爐體(21)上并與所述氣霧室(201)連通。7.根據(jù)權利要求6所述的真空噴霧裝置，其特征在于，所述噴霧氣化爐(20)還包括用于過濾以凈化所述載流氣體的空氣過濾機構(25)，所述空氣過濾機構(25)設置在所述爐體(21)內并位于所述進氣孔(24)和氣霧室(201)之間。8.根據(jù)權利要求7所述的真空噴霧裝置，其特征在于，所述進氣孔(24)設置在所述爐體(21)底部。9.根據(jù)權利要求1-8任一項所述的真空噴霧裝置，其特征在于，該真空噴霧裝置還包括將所述氣霧從所述噴霧氣化爐(20)輸送至所述真空爐(10)的氣霧管道(30);所述氣霧管道(30)連接在所述真空爐(10)和噴霧氣化爐(20)之間。10.根據(jù)權利要求9所述的真空噴霧裝置，其特征在于，所述氣霧管道(30)的兩端分別連接在所述真空爐(10)和噴霧氣化爐(20)的頂部。
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空噴霧裝置，用于物理氣相沉積，其包括真空爐、以及將材料源氣化形成氣霧并輸送至所述真空爐的噴霧氣化爐，所述噴霧氣化爐與所述真空爐相連接；所述噴霧氣化爐內部設有供所述氣霧收容并混合的氣霧室。通過本實用新型，材料源先在噴霧氣化爐內氣化形成氣霧后再輸送至真空爐以完成物理氣相沉積，其中氣霧在噴霧氣化爐內及輸送至真空爐的過程中有充分的空間和時間進行混合，從而提高物理氣相沉積效果。
【IPC分類】C23C14/24
【公開號】CN204898053
【申請?zhí)枴緾N201520459503
【發(fā)明人】廖驍飛
【申請人】崴鴻科技有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年6月30日