一種光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置，包括壓力針、支撐單元和拋光盤(pán)，所述壓力針的末端與支撐單元相連接，所述支撐單元與所述拋光盤(pán)相接觸；其中：所述支撐單元包括角度架和承載夾具，角度架包括基架和由所述基架向外延伸的三個(gè)支架組，每個(gè)所述支架組包括支架和承載夾具，傾斜結(jié)構(gòu)的所述支架的兩端分別與所述基架和所述承載夾具相連接；每個(gè)所述承載夾具內(nèi)安裝有待加工的鏡片，所述鏡片的待加工面與所述拋光盤(pán)的研磨工作面接觸。本實(shí)用新型的三點(diǎn)研磨裝置在實(shí)現(xiàn)了可同時(shí)對(duì)三個(gè)鏡片進(jìn)行加工的前提下，保證了元件在加工過(guò)程中的穩(wěn)定性。
【專利說(shuō)明】
一種光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[000?]本實(shí)用新型涉及光學(xué)元件的冷加工技術(shù)，具體涉及一種光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前對(duì)于光學(xué)元件的冷加工以單點(diǎn)及多點(diǎn)貼附工藝為主，其中的單點(diǎn)加工每次夾具中只能放置并加工一枚鏡片，加工效率較低，近平面球面由于支點(diǎn)高穩(wěn)定性差。而多點(diǎn)結(jié)構(gòu)由于對(duì)夾具設(shè)計(jì)加工要求高，單體成本大，工序繁雜，不適合小批量多品種產(chǎn)品的加工。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]有鑒于此，本實(shí)用新型提出一種光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置，旨在優(yōu)化研磨加工，最大程度地規(guī)避單點(diǎn)加工的效率以及多點(diǎn)加工的工序復(fù)雜問(wèn)題。
[0004]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案具體為:
[0005]—種光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置，包括壓力針、支撐單元和拋光盤(pán)，所述壓力針的末端與支撐單元相連接，所述支撐單元與所述拋光盤(pán)相接觸;其中:
[0006]所述支撐單元包括角度架和承載夾具，角度架包括基架和由所述基架向外延伸的三個(gè)支架組，每個(gè)所述支架組包括支架和承載夾具，傾斜結(jié)構(gòu)的所述支架的兩端分別與所述基架和所述承載夾具相連接；
[0007]每個(gè)所述承載夾具內(nèi)安裝有待加工的鏡片，所述鏡片的待加工面與所述拋光盤(pán)的研磨工作面接觸。
[0008]在上述光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置中，三個(gè)所述支架組的支架以三點(diǎn)式的分布方式傾斜、對(duì)稱地設(shè)于所述基架。
[0009]在上述光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置中，所述壓力針通過(guò)球形頂尖加壓于所述基架中心的凹槽，實(shí)現(xiàn)活動(dòng)式連接。
[0010]在上述光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置中，所述基架與各個(gè)所述支架為固定的一體式結(jié)構(gòu)。
[0011]在上述光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置中，所述支架與與其對(duì)應(yīng)的承載夾具為固定的一體式結(jié)構(gòu)。
[0012]在上述光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置中，拋光盤(pán)對(duì)三個(gè)支架組內(nèi)的待加工鏡片進(jìn)行研磨的過(guò)程中，三個(gè)支架組的承載夾具的運(yùn)動(dòng)軌跡互不干涉。
[0013]本實(shí)用新型產(chǎn)生的有益效果是:
[0014]本實(shí)用新型的三點(diǎn)研磨裝置利用對(duì)稱三支點(diǎn)自由活動(dòng)結(jié)構(gòu)對(duì)光學(xué)元件進(jìn)行冷加工，易于操作且活動(dòng)結(jié)構(gòu)具有調(diào)節(jié)性，較之于單點(diǎn)加工，提高了加工效率，尤其適用于批量處理。
【附圖說(shuō)明】
[0015]當(dāng)結(jié)合附圖考慮時(shí)，能夠更完整更好地理解本實(shí)用新型。此處所說(shuō)明的附圖用來(lái)提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。
[0016]圖1為本實(shí)用新型一種光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置的立體示意圖；
[0017]圖2為本實(shí)用新型一種光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置的相關(guān)參數(shù)圖。
[0018]圖中:
[0019]1、壓力針
[0020]21、基架
[0021]22、支架
[0022]23、承載夾具
[0023]3、拋光盤(pán)。
【具體實(shí)施方式】
[0024]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0025]如圖1-2所示的一種光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置，包括壓力針1、支撐單元和拋光盤(pán)3，壓力針I(yè)與支撐單元相連接，支撐單元內(nèi)安裝的待加工鏡片與拋光盤(pán)3接觸;其中:
[0026]支撐單元包括角度架和承載夾具23，角度架包括基架和傾斜、對(duì)稱式設(shè)于基架上的三個(gè)支架，每個(gè)支架分別連接有承載夾具23，置于承載夾具23內(nèi)的待加工的鏡片與拋光盤(pán)3的盤(pán)面接觸對(duì)其進(jìn)行研磨加工。其中:
[0027]壓力針I(yè)末端的球形頂尖配合以直接加壓的方式與基架21中心的凹槽實(shí)現(xiàn)活動(dòng)式連接，基架21與各支架22以及支架22與其對(duì)應(yīng)的承載夾具23(厚度為I?2_)之間均為固定的一體式結(jié)構(gòu)。
[0028]本實(shí)用新型的三點(diǎn)研磨裝置通過(guò)壓力針I(yè)及三點(diǎn)對(duì)稱的承載夾具23將由設(shè)備傳導(dǎo)來(lái)的壓力轉(zhuǎn)接到被加工的學(xué)元件上，根據(jù)鏡片的球面半徑確定拋光盤(pán)3的球面半徑，同時(shí)根據(jù)鏡片的其他參數(shù)(外徑、厚度)確定支架22相對(duì)于基架21的設(shè)置角度，以如圖2所示的凹面鏡片為例，鏡片&和&(以及沒(méi)在圖中顯示的C3)的外徑為d，則為了兼顧研磨質(zhì)量和效率，需滿足以下條件:
[0029]tan(P/2) = (d/2+a)/R，即 0 = 2arctan( (d/2+a)/R) (I)
[0030]l = 2Rsin(0/2)(2)
[0031]上述參數(shù)的設(shè)定保證了在對(duì)鏡片進(jìn)行研磨加工時(shí)，三個(gè)鏡片的球面中心與拋光盤(pán)3的球面中心重合；以及三個(gè)鏡片在拋光盤(pán)表面的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)之間互不干涉。同時(shí)利用球心指向原則及單點(diǎn)自平衡構(gòu)造保證了元件加工過(guò)程中的穩(wěn)定性。
[0032]以上結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)地說(shuō)明，此處的附圖是用來(lái)提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解。顯然，以上所述僅為本實(shí)用新型較佳的【具體實(shí)施方式】，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是可輕易想到的、實(shí)質(zhì)上沒(méi)有脫離本實(shí)用新型的變化或替換，也均包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置，其特征在于，包括壓力針、支撐單元和拋光盤(pán)，所述壓力針的末端與支撐單元相連接，所述支撐單元與所述拋光盤(pán)相接觸;其中: 所述支撐單元包括角度架和承載夾具，角度架包括基架和由所述基架向外延伸的三個(gè)支架組，每個(gè)所述支架組包括支架和承載夾具，傾斜結(jié)構(gòu)的所述支架的兩端分別與所述基架和所述承載夾具相連接； 每個(gè)所述承載夾具內(nèi)安裝有待加工的鏡片，所述鏡片的待加工面與所述拋光盤(pán)的研磨工作面接觸。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置，其特征在于，三個(gè)所述支架組的支架以三點(diǎn)式的分布方式傾斜、對(duì)稱地設(shè)于所述基架。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置，其特征在于，所述壓力針通過(guò)球形頂尖加壓于所述基架中心的凹槽，實(shí)現(xiàn)活動(dòng)式連接。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置，其特征在于，所述基架與各個(gè)所述支架為固定的一體式結(jié)構(gòu)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置，其特征在于，所述支架與與其對(duì)應(yīng)的承載夾具為固定的一體式結(jié)構(gòu)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的三點(diǎn)研磨裝置，其特征在于，拋光盤(pán)對(duì)三個(gè)支架組內(nèi)的待加工鏡片進(jìn)行研磨的過(guò)程中，三個(gè)支架組的承載夾具的運(yùn)動(dòng)軌跡互不干涉。
【文檔編號(hào)】B24B37/02GK205438157SQ201521137944
【公開(kāi)日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2015年12月31日
【發(fā)明人】姜宏林
【申請(qǐng)人】希比希光學(xué)（北京）有限公司