一種單面研磨裝置的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及一種單面研磨裝置，包括底座和同轉(zhuǎn)軸設(shè)置于底座上的研磨底座，研磨底座內(nèi)同轉(zhuǎn)軸設(shè)置有研磨盤(pán)，研磨盤(pán)包括至少2個(gè)同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)，研磨銅環(huán)以轉(zhuǎn)軸為軸心設(shè)置；每個(gè)研磨銅環(huán)包括若干研磨銅塊，研磨銅塊間設(shè)有間隙。本實(shí)用新型中，當(dāng)單面研磨裝置開(kāi)始研磨工作研磨盤(pán)產(chǎn)生熱量時(shí)，由于研磨銅塊間都有間隙，產(chǎn)生的熱量可以依循研磨銅環(huán)擴(kuò)散，熱量最終分散到所有研磨銅塊上，每塊研磨銅塊的變形又可以被研磨銅塊間的間隙吸收，故雖然工作產(chǎn)生同樣熱量，熱變形的量卻較整個(gè)設(shè)置的研磨盤(pán)的變形量減少，晶片研磨精度提高，成品合格率提高，亦相應(yīng)減少研磨盤(pán)修正頻率，提高生產(chǎn)效率，滿足長(zhǎng)時(shí)間工作和大批量生產(chǎn)的需求。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
一種單面研磨裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于用于磨削或拋光的機(jī)床、裝置或工藝；磨具磨損表面的修理或調(diào)節(jié);磨削，拋光劑或研磨劑的進(jìn)給的技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種能減少研磨盤(pán)熱變形以提高晶片研磨的精度的單面研磨裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]單面研磨裝置是高精度的平面加工設(shè)備，有著高強(qiáng)度的機(jī)械構(gòu)造和穩(wěn)定的精度，其主要適用于石英晶體片、硅、鍺片、玻璃、陶瓷片、活塞環(huán)、閥板、閥片、軸承、鉬片、藍(lán)寶石等各種片狀金屬及其他圓盤(pán)類(lèi)零件、非金屬零件的單面研磨。
[0003]目前，單面研磨裝置一般采用整體銅盤(pán)作為下研磨盤(pán)，當(dāng)設(shè)備工作的時(shí)候，會(huì)由于研磨產(chǎn)生大量的熱量，一旦無(wú)法及時(shí)散熱則會(huì)導(dǎo)致銅盤(pán)的熱變形，甚至?xí)霈F(xiàn)中間低兩邊高的碗狀變形，這可能會(huì)影響到片狀金屬、圓盤(pán)類(lèi)零件和非金屬零件的單面研磨質(zhì)量，同時(shí)，銅盤(pán)變形后需要拆開(kāi)整體設(shè)備將銅盤(pán)取出進(jìn)行修盤(pán)，工作量大，工作時(shí)間長(zhǎng)，往往會(huì)影響整個(gè)流水線的生產(chǎn)效率，無(wú)法滿足長(zhǎng)時(shí)間工作和大批量生產(chǎn)的需求。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型解決的技術(shù)問(wèn)題是，現(xiàn)有技術(shù)中，單面研磨裝置一般采用整體銅盤(pán)作為下研磨盤(pán)，而導(dǎo)致的當(dāng)設(shè)備工作的時(shí)候，會(huì)由于研磨產(chǎn)生大量的熱量，一旦無(wú)法及時(shí)散熱則會(huì)使得銅盤(pán)熱變形，甚至?xí)霈F(xiàn)中間低兩邊高的碗狀變形，這可能會(huì)影響到片狀金屬、圓盤(pán)類(lèi)零件和非金屬零件的單面研磨質(zhì)量，同時(shí)，銅盤(pán)變形后需要拆開(kāi)整體設(shè)備將銅盤(pán)取出進(jìn)行修盤(pán)，工作量大，工作時(shí)間長(zhǎng)，往往會(huì)影響整個(gè)流水線的生產(chǎn)效率，無(wú)法滿足長(zhǎng)時(shí)間工作和大批量生產(chǎn)的需求的問(wèn)題，進(jìn)而提供了一種優(yōu)化結(jié)構(gòu)的單面研磨裝置。
[0005]本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是，一種單面研磨裝置，包括底座和同轉(zhuǎn)軸設(shè)置于底座上的研磨底座，所述研磨底座內(nèi)同轉(zhuǎn)軸設(shè)置有研磨盤(pán)，所述研磨盤(pán)包括至少2個(gè)同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)，所述研磨銅環(huán)以轉(zhuǎn)軸為軸心設(shè)置;所述每個(gè)研磨銅環(huán)包括若干研磨銅塊，所述研磨銅塊間設(shè)有間隙。
[0006]優(yōu)選地，所述每個(gè)研磨銅環(huán)寬度相等。
[0007]優(yōu)選地，所述研磨盤(pán)包括3個(gè)寬度相等的同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)，所述研磨銅環(huán)以轉(zhuǎn)軸為軸心設(shè)置。
[0008]優(yōu)選地，所述每個(gè)研磨銅環(huán)的研磨銅塊面積相等。
[0009]本實(shí)用新型提供了一種優(yōu)化結(jié)構(gòu)的單面研磨裝置，通過(guò)將研磨底座內(nèi)的研磨盤(pán)先分割成至少2個(gè)同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)，再將每個(gè)研磨銅環(huán)分割成若干研磨銅塊，且研磨銅塊間設(shè)有間隙，即當(dāng)單面研磨裝置開(kāi)始研磨工作，研磨盤(pán)產(chǎn)生熱量時(shí)，由于研磨銅塊間都有一定的間隙，因此整個(gè)研磨工作產(chǎn)生的熱量可以依循研磨銅環(huán)一層層擴(kuò)散，熱量最終分散到研磨盤(pán)的所有研磨銅塊上，同時(shí)每塊研磨銅塊的變形又可以被研磨銅塊間的間隙吸收，故雖然工作產(chǎn)生同樣的熱量，對(duì)于整個(gè)研磨盤(pán)來(lái)說(shuō)，熱變形的量較整個(gè)設(shè)置的研磨盤(pán)的變形量大大減少，晶片研磨的精度提高，成品的合格率提高，亦相應(yīng)減少了研磨盤(pán)修正的頻率，提高了單面研磨裝置的生產(chǎn)效率，滿足長(zhǎng)時(shí)間工作和大批量生產(chǎn)的需求。
【附圖說(shuō)明】
[00?0]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0011]圖2為本實(shí)用新型中研磨盤(pán)的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的詳細(xì)描述，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不限于此。
[0013]如圖所示，本實(shí)用新型涉及一種單面研磨裝置，包括底座I和同轉(zhuǎn)軸設(shè)置于底座I上的研磨底座2，所述研磨底座2內(nèi)同轉(zhuǎn)軸設(shè)置有研磨盤(pán)3，所述研磨盤(pán)3包括至少2個(gè)同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)4，所述研磨銅環(huán)4以轉(zhuǎn)軸為軸心設(shè)置;所述每個(gè)研磨銅環(huán)4包括若干研磨銅塊5，所述研磨銅塊5間設(shè)有間隙。
[0014]本實(shí)用新型中，研磨底座2內(nèi)的研磨盤(pán)3先分割成至少2個(gè)同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)4，再將每個(gè)研磨銅環(huán)4分割成若干研磨銅塊5，且研磨銅塊5間設(shè)有間隙，也即是將整個(gè)研磨盤(pán)3分割為了若干塊以轉(zhuǎn)軸為中心輻射設(shè)置的研磨銅塊5，當(dāng)單面研磨裝置開(kāi)始研磨工作，研磨盤(pán)3產(chǎn)生熱量時(shí)，由于研磨銅塊5間都有一定的間隙，因此整個(gè)研磨工作產(chǎn)生的熱量可以依循研磨銅環(huán)4一層層擴(kuò)散傳遞，熱量最終分散到研磨盤(pán)3的所有研磨銅塊5上，同時(shí)每塊研磨銅塊5的變形又可以被研磨銅塊5間的間隙吸收，故雖然工作產(chǎn)生同樣的熱量，對(duì)于整個(gè)研磨盤(pán)3來(lái)說(shuō)，熱變形的量較整個(gè)設(shè)置的研磨盤(pán)3的變形量大大減少。
[0015]本實(shí)用新型中，為了保證熱傳遞的順利進(jìn)行，使得研磨盤(pán)3不會(huì)因?yàn)槭軣岵痪a(chǎn)生形變，故研磨銅塊5的面積不能太大，同時(shí)為了保證研磨作業(yè)能順利進(jìn)行，研磨銅塊5在工作中不產(chǎn)生較大幅度的振動(dòng)，故研磨銅塊5的面積亦不能太小。
[0016]本實(shí)用新型中，提供可以采用包括24塊研磨銅塊5的最外圈的研磨銅環(huán)4、12塊研磨銅塊5的中圈的研磨銅環(huán)4和12塊研磨銅塊5的最內(nèi)圈的研磨銅環(huán)4取代整體銅盤(pán)，熱變形的量較整個(gè)設(shè)置的研磨盤(pán)3的變形量大大減少，晶片研磨的精度提高，成品的合格率提高，亦相應(yīng)減少了研磨盤(pán)3修正的頻率，提高了單面研磨裝置的生產(chǎn)效率，滿足長(zhǎng)時(shí)間工作和大批量生產(chǎn)的需求。
[0017]本實(shí)用新型中，上述研磨銅塊5和研磨銅環(huán)4的數(shù)量設(shè)置僅為本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，具體工作環(huán)境中，可以依據(jù)實(shí)際的研磨盤(pán)3大小及研磨精度的要求對(duì)研磨銅塊5和研磨銅環(huán)4的數(shù)量設(shè)置做進(jìn)一步的調(diào)整。
[0018]所述每個(gè)研磨銅環(huán)4寬度相等。
[0019]本實(shí)用新型中，為了保證研磨的效果，每個(gè)研磨銅環(huán)4的受力、受熱應(yīng)當(dāng)盡可能均勻，故將每個(gè)研磨銅環(huán)4的寬度設(shè)置為等寬，此時(shí)研磨銅環(huán)4間的相對(duì)位置最為穩(wěn)定，不會(huì)產(chǎn)生不必要的振動(dòng)或跳動(dòng)，同時(shí)熱量能順著等寬的研磨銅環(huán)4順次自?xún)?nèi)向外傳遞。
[0020]所述研磨盤(pán)3包括3個(gè)寬度相等的同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)4，所述研磨銅環(huán)4以轉(zhuǎn)軸為軸心設(shè)置。
[0021]本實(shí)用新型中，一般情況下，一個(gè)研磨盤(pán)3分割為3個(gè)寬度相等的同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)4是最合理、最恰當(dāng)?shù)脑O(shè)置，當(dāng)研磨銅環(huán)4多于3個(gè)時(shí)，很可能會(huì)產(chǎn)生相鄰的研磨銅環(huán)4間的翹起，而當(dāng)研磨銅環(huán)4為2個(gè)時(shí)又無(wú)法達(dá)成本實(shí)用新型的分配、傳遞熱量的需求，同時(shí)，現(xiàn)有技術(shù)中研磨盤(pán)3的大小也滿足設(shè)置3個(gè)同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)4的需求，能進(jìn)一步減少研磨盤(pán)3修正的頻率，提高單面研磨裝置的生產(chǎn)效率。
[0022]所述每個(gè)研磨銅環(huán)4的研磨銅塊5面積相等。
[0023]本實(shí)用新型中，每個(gè)研磨銅環(huán)4被分割成若干研磨銅塊5，為了保證所有位置的被研磨晶片等能受力、受熱均勻，故將研磨銅塊5設(shè)置為面積相等，保證了研磨的正常進(jìn)行。
[0024]本實(shí)用新型中，研磨銅塊5的設(shè)置并非無(wú)序的。本實(shí)用新型中，研磨銅塊5為圓環(huán)弧結(jié)構(gòu)，所述研磨銅塊5與對(duì)應(yīng)的研磨銅環(huán)4的寬度相等，且每個(gè)研磨銅環(huán)4的研磨銅塊5以轉(zhuǎn)軸為中心對(duì)稱(chēng)設(shè)置。此結(jié)構(gòu)保證了研磨銅塊5設(shè)置的便利性及研磨效果的優(yōu)異、熱傳遞的順利。
[0025]本實(shí)用新型解決了現(xiàn)有技術(shù)中，單面研磨裝置一般采用整體銅盤(pán)作為下研磨盤(pán)，而導(dǎo)致的當(dāng)設(shè)備工作的時(shí)候，會(huì)由于研磨產(chǎn)生大量的熱量，一旦無(wú)法及時(shí)散熱則會(huì)使得銅盤(pán)熱變形，甚至?xí)霈F(xiàn)中間低兩邊高的碗狀變形，這可能會(huì)影響到片狀金屬、圓盤(pán)類(lèi)零件和非金屬零件的單面研磨質(zhì)量，同時(shí)，銅盤(pán)變形后需要拆開(kāi)整體設(shè)備將銅盤(pán)取出進(jìn)行修盤(pán)，工作量大，工作時(shí)間長(zhǎng)，往往會(huì)影響整個(gè)流水線的生產(chǎn)效率，無(wú)法滿足長(zhǎng)時(shí)間工作和大批量生產(chǎn)的需求的問(wèn)題，通過(guò)將研磨底座2內(nèi)的研磨盤(pán)3先分割成至少2個(gè)同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)4，再將每個(gè)研磨銅環(huán)4分割成若干研磨銅塊5，且研磨銅塊5間設(shè)有間隙，即當(dāng)單面研磨裝置開(kāi)始研磨工作，研磨盤(pán)3產(chǎn)生熱量時(shí)，由于研磨銅塊5間都有一定的間隙，因此整個(gè)研磨工作產(chǎn)生的熱量可以依循研磨銅環(huán)4 一層層擴(kuò)散，熱量最終分散到研磨盤(pán)3的所有研磨銅塊5上，同時(shí)每塊研磨銅塊5的變形又可以被研磨銅塊5間的間隙吸收，故雖然工作產(chǎn)生同樣的熱量，對(duì)于整個(gè)研磨盤(pán)3來(lái)說(shuō)，熱變形的量較整個(gè)設(shè)置的研磨盤(pán)3的變形量大大減少，晶片研磨的精度提高，成品的合格率提高，亦相應(yīng)減少了研磨盤(pán)3修正的頻率，提高了單面研磨裝置的生產(chǎn)效率，滿足長(zhǎng)時(shí)間工作和大批量生產(chǎn)的需求。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種單面研磨裝置，包括底座和同轉(zhuǎn)軸設(shè)置于底座上的研磨底座，所述研磨底座內(nèi)同轉(zhuǎn)軸設(shè)置有研磨盤(pán)，其特征在于:所述研磨盤(pán)包括至少2個(gè)同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)，所述研磨銅環(huán)以轉(zhuǎn)軸為軸心設(shè)置;所述每個(gè)研磨銅環(huán)包括若干研磨銅塊，所述研磨銅塊間設(shè)有間隙。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單面研磨裝置，其特征在于:所述每個(gè)研磨銅環(huán)寬度相等。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種單面研磨裝置，其特征在于:所述研磨盤(pán)包括3個(gè)寬度相等的同心圓環(huán)結(jié)構(gòu)的研磨銅環(huán)，所述研磨銅環(huán)以轉(zhuǎn)軸為軸心設(shè)置。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單面研磨裝置，其特征在于:所述每個(gè)研磨銅環(huán)的研磨銅塊面積相等。
【文檔編號(hào)】B24B37/16GK205520898SQ201620060886
【公開(kāi)日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年1月22日
【發(fā)明人】張峰, 裴忠, 梁文, 朱勤超, 蘇靜洪
【申請(qǐng)人】天通吉成機(jī)器技術(shù)有限公司