智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機的制作方法
【專利摘要】本申請?zhí)峁┝艘环N智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，針對現(xiàn)有真空鍍膜機操作復雜、人工成本過高、鍍膜質量差異不一的問題，本申請?zhí)峁┑闹悄艿入x子體蒸發(fā)鍍膜機的智能控制裝置分別與氣體流速控制裝置、變頻調速裝置和鍍膜真空室裝置連接，通過智能控制裝置控制鍍膜機的氣體進入速度、工裝裝置的基座轉動速率和溫度調控，本實用新型的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機可實現(xiàn)智能化生產(chǎn)、降低生產(chǎn)成本及提高鍍膜質量。
【專利說明】
智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機
技術領域
[0001]本申請涉及一種真空鍍膜機，特別涉及一種智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機。
【背景技術】
[0002]隨著人工智能的發(fā)展，智能化的儀器儀表在我們的生活中起到越來越大的作用，現(xiàn)在市場上的等離子體鍍膜機多數(shù)采用人工操作方法，在操作過程中，由于不同人員的操作習慣，使得制模差異性較大，而且由于真空室體內等離子體分布得可能不是很均勻，使得工件支架上的膜層質量存在一定差異；同時，由于需要人工操作，操作復雜，而且人工成本較高，給企業(yè)造成較大的負擔，因此，有必要提供一種智能控制鍍膜，有效解決現(xiàn)在人工成本過高、鍍膜質量差異不一的等離子體真空鍍膜機。
【實用新型內容】
[0003]本申請針對現(xiàn)有真空鍍膜機操作復雜、人工成本過高、鍍膜質量差異不一的問題，提供了一種能實現(xiàn)智能化生產(chǎn)、降低生產(chǎn)成本、提高鍍膜質量的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機。
[0004]本申請的技術方案為:一種智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，包括鍍膜裝置、工裝裝置、等離子體源裝置、蒸發(fā)源裝置和智能控制裝置;鍍膜裝置包括鍍膜真空室裝置、氣體流速控制裝置和栗組;工裝裝置包括行星工件裝置和變頻調速裝置;等離子體源裝置包括射頻等離子體電源裝置、匹配箱和射頻天線;蒸發(fā)源裝置包括蒸發(fā)電源裝置、蒸發(fā)源電極和加熱組件;鍍膜真空室裝置分別與氣體流速控制裝置和栗組連接;行星工件裝置設置在鍍膜真空室裝置內，與變頻調速裝置連接;射頻等離子體電源裝置通過鍍膜真空室裝置的導線與行星工件裝置連接;匹配箱通過鍍膜真空室裝置的導線與行星工件裝置連接;射頻天線固裝在行星工件裝置上，至少兩個蒸發(fā)源電極裝在鍍膜真空室體的中間，至少兩個蒸發(fā)源電極之間沿縱向設置有一組水平放置的加熱組件，加熱組件的兩端與蒸發(fā)源電極連接;蒸發(fā)電源裝置與蒸發(fā)源電極組兩端連接；智能控制裝置分別與氣體流速控制裝置、變頻調速裝置和鍍膜真空室裝置連接。
[0005]優(yōu)選的，行星工件裝置包括周向旋轉的基座，若干片工件片及轉動軸，基座的中心設置有第一通孔，轉動軸從第一通孔穿過，基座上設置有若干相互獨立的第二通孔，且個第二通孔繞第一通孔周向分布，各工件片位于相應的第二通孔內，且各工件片可繞第二通孔旋轉，該轉動軸上套設有第一斜齒輪，各工件片上設置有與第一斜齒輪相嚙合的第二斜齒輪，轉動軸通過設置在鍍膜真空室裝置外面的導線與匹配箱和射頻等離子體電源裝置連接。
[0006]優(yōu)選的，加熱組件由一組電熱絲組成，電熱絲的兩端與蒸發(fā)源電極連接，電熱絲內放置有用于導熱金屬條或金屬板材。
[0007]優(yōu)選的，加熱組件還包括用于控制加熱組件溫度的智能溫控裝置，智能溫控裝置分別與智能控制裝置和加熱組件的兩端連接。
[0008]優(yōu)選的，栗組由包括機械栗、羅茨栗和分子栗，其中，機械栗包括第一機械栗和第二機械栗，分子栗包括主分子栗和輔助分子栗;第一機械栗、羅茨栗和鍍膜真空室裝置通過管道順序連接形成一條由栗體通向鍍膜真空室裝置內腔的氣路，第二機械栗、分子栗和鍍膜真空室裝置順序連接形成另一條由栗體通向鍍膜真空室裝置內腔的氣路。
[0009]優(yōu)選的，氣體流速控制裝置由多路氣體控制裝置組成。
[0010]優(yōu)選的，其還包括與多路氣體控制裝置配合連接使用的多路進氣裝置。
[0011]優(yōu)選的，智能控制裝置包括PLC智能控制裝置和人機觸控裝置，PLC智能控制裝置分別與人機觸控裝置、鍍膜真空室裝置、氣體流速控制裝置、變頻調速控制裝置、智能溫控裝置連接。
[0012]優(yōu)選的，其還包括用于對異常情況進行報警，并執(zhí)行相應保護措施的警示保護裝置，警示保護裝置分別與鍍膜真空室裝置110、變頻調速裝置、智能溫控裝置和PLC智能控制裝置連接。
[0013]優(yōu)選的，其還包括用于校準系統(tǒng)參數(shù)的校準裝置，校準裝置分別與警示保護裝置、鍍膜真空室裝置、變頻調速裝置、智能溫控裝置和PLC智能控制裝置連接。
[0014]本申請的有益效果是:本申請?zhí)峁┝艘环N智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，包括鍍膜裝置、工裝裝置、等離子體源裝置、蒸發(fā)源裝置和智能控制裝置;鍍膜裝置包括鍍膜真空室裝置、氣體流速控制裝置和栗組;工裝裝置包括行星工件裝置和變頻調速裝置;等離子體源裝置包括射頻等離子體電源裝置、匹配箱和射頻天線;蒸發(fā)源裝置包括蒸發(fā)電源裝置、蒸發(fā)源電極和加熱組件;鍍膜真空室裝置分別與氣體流速控制裝置和栗組連接;行星工件裝置設置在鍍膜真空室裝置內，與變頻調速裝置連接;射頻等離子體電源裝置通過鍍膜真空室裝置的導線與行星工件裝置連接；匹配箱通過鍍膜真空室裝置的導線與行星工件裝置連接；射頻天線固裝在行星工件裝置上，至少兩個蒸發(fā)源電極裝在鍍膜真空室體的中間，至少兩個蒸發(fā)源電極之間沿縱向設置有一組水平放置的加熱組件，加熱組件的兩端與蒸發(fā)源電極連接;蒸發(fā)電源裝置與蒸發(fā)源電極組兩端連接;智能控制裝置分別與氣體流速控制裝置、變頻調速裝置和鍍膜真空室裝置連接。本申請解決了現(xiàn)有真空鍍膜機操作復雜、人工成本過高、鍍膜質量差異不一的問題，提供了一種智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，通過智能控制裝置控制鍍膜機的氣體進入速度、工裝裝置的基座轉動速率和溫度調控，提供了一種實現(xiàn)了智能化控制生產(chǎn)，降低生產(chǎn)成本，并提高鍍膜質量的真空鍍膜機。
【附圖說明】
[0015]圖1是本實用新型實施例提供的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0016]為了使本實用新型所解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
[0017]實施例1
[0018]一種智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，包括鍍膜裝置100、工裝裝置200、等離子體源裝置300、蒸發(fā)源裝置400和智能控制裝置500;鍍膜裝置100包括鍍膜真空室裝置110、氣體流速控制裝置120和栗組130;工裝裝置200包括行星工件裝置210和變頻調速裝置220;等離子體源裝置300包括射頻等離子體電源裝置310、匹配箱320和射頻天線330;蒸發(fā)源裝置400包括蒸發(fā)電源裝置410、蒸發(fā)源電極420和加熱組件430;鍍膜真空室裝置110分別與氣體流速控制裝置120和栗組130連接;行星工件裝置210設置在鍍膜真空室裝置110內，與變頻調速裝置220連接;射頻等離子體電源裝置310通過鍍膜真空室裝置110的導線與行星工件裝置210連接;匹配箱320通過鍍膜真空室裝置110的導線與行星工件裝置210連接;射頻天線330固裝在行星工件裝置210上，至少兩個蒸發(fā)源電極420裝在鍍膜真空室裝置110室體的中間，至少兩個蒸發(fā)源電極420之間沿縱向設置有一組水平放置的加熱組件430，加熱組件430的兩端與蒸發(fā)源電極420連接；蒸發(fā)電源裝置410與蒸發(fā)源電極420組兩端連接；智能控制裝置500分別與氣體流速控制裝置120、變頻調速裝置220和鍍膜真空室裝置110連接;氣體流速控制裝置上裝有進氣管。
[0019]實施例二
[0020]基于實施例一的另一種智能等離子體鍍膜機，在本實施方式中，其中，行星工件裝置210包括周向旋轉的基座，若干片工件片及轉動軸，基座的中心設置有第一通孔，轉動軸從第一通孔穿過，基座上設置有若干相互獨立的第二通孔，且個第二通孔繞第一通孔周向分布，各工件片位于相應的第二通孔內，且各工件片可繞第二通孔旋轉，該轉動軸上套設有第一斜齒輪，各工件片上設置有與第一斜齒輪相嚙合的第二斜齒輪，轉動軸通過設置在鍍膜真空室裝置110外面的導線與匹配箱320和射頻等離子體電源裝置310連接;工件片在轉動軸的驅動下，會沿豎直方向轉動，從而帶動被鍍膜物業(yè)會豎直方向轉動，在配合軸向轉動的基座，從而實現(xiàn)了被鍍膜物空間上的旋轉，大大提高了鍍膜效果。
[0021 ] 實施例三
[0022]基于實施例二的另一種智能等離子體鍍膜機，在本實施方式中，其中，加熱組件430由一組電熱絲組成，電熱絲的兩端與蒸發(fā)源電極420連接，電熱絲內放置有金屬條或金屬板材;加熱組件430還包括用于控制加熱組件430溫度的智能溫控裝置，智能溫控裝置分別與智能控制裝置500和加熱組件430的兩端連接，用于實現(xiàn)智能控制加熱組件的溫度調控。
[0023]實施例四
[0024]基于實施例三的另一種智能等離子體鍍膜機，在本實施方式中，其中，栗組130由包括機械栗、羅茨栗和分子栗，其中，機械栗包括第一機械栗和第二機械栗，分子栗包括主分子栗和輔助分子栗;第一機械栗、羅茨栗和鍍膜真空室裝置110通過管道順序連接形成一條由栗體通向鍍膜真空室裝置110內腔的氣路，第二機械栗、分子栗和鍍膜真空室裝置110順序連接形成另一條由栗體通向鍍膜真空室裝置110內腔的氣路;本實施例中采用分子栗可節(jié)省空間，降低耗能，減少了對環(huán)境的污染，而且具有較高的抽真空工作效率，實現(xiàn)穩(wěn)定性強、真空度極限高并且污染小的抽真空工作。
[0025]實施例五
[0026]基于實施例四的另一種智能等離子體鍍膜機，在本實施例中，其中，氣體流速控制裝置由多路氣體控制裝置組成，還包括與多路氣體控制裝置配合連接使用的多路進氣裝置，多路氣體控制裝置與多路進氣裝置用于控制鍍膜真空室體的氣壓，配合栗組工作，提高抽真空的工作效率，增強鍍膜的效果。
[0027]實施例六
[0028]基于實施例五的另一種智能等離子體鍍膜機，在本實施例中，其中，智能控制裝置500包括PLC智能控制裝置和人機觸控裝置，PLC智能控制裝置分別與人機觸控裝置、鍍膜真空室裝置110、氣體流速控制裝置、變頻調速控制裝置、智能溫控裝置連;本實施例中人機觸控裝置為HMI全彩人機觸控界面，采用人機交互的智能控制模式，實現(xiàn)邏輯全自動控制。
[0029]實施例七
[0030]基于實施例六的另一種智能等離子體鍍膜機，在本實施例中，還包括用于對異常情況進行報警，并執(zhí)行相應保護措施的警示保護裝置，警示保護裝置分別與鍍膜真空室裝置110、變頻調速裝置、智能溫控裝置和PLC智能控制裝置連接;當上述鍍膜真空室裝置110、變頻調速裝置、智能溫控裝置和PLC智能控制裝置發(fā)生異常情況時，警示保護裝置發(fā)出警報提醒人們關注鍍膜機工作情況，并執(zhí)行相應保護措施，提高了儀器的工作效率及有效防止了鍍膜質量不一的情況出現(xiàn)。
[0031 ]實施例八
[0032]基于實施例七的另一種智能等離子體鍍膜機，在本實施例中，還包括用于校準系統(tǒng)參數(shù)的校準裝置，校準裝置分別與警示保護裝置、鍍膜真空室裝置110變頻調速裝置220、智能溫控裝置和PLC智能控制裝置連接。
[0033]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于，包括鍍膜裝置、工裝裝置、等離子體源裝置、蒸發(fā)源裝置和智能控制裝置;所述鍍膜裝置包括鍍膜真空室裝置、氣體流速控制裝置和栗組;所述工裝裝置包括行星工件裝置和變頻調速裝置;所述等離子體源裝置包括射頻等離子體電源裝置、匹配箱和射頻天線;所述蒸發(fā)源裝置包括蒸發(fā)電源裝置、蒸發(fā)源電極和加熱組件;所述鍍膜真空室裝置分別與所述氣體流速控制裝置和所述栗組連接;所述行星工件裝置設置在所述鍍膜真空室裝置內，與所述變頻調速裝置連接;所述射頻等離子體電源裝置通過所述鍍膜真空室裝置的導線與所述行星工件裝置連接;所述匹配箱通過所述鍍膜真空室裝置的導線與所述行星工件裝置連接;所述射頻天線固裝在所述行星工件裝置上，至少兩個所述蒸發(fā)源電極裝在所述鍍膜真空室體的中間，至少兩個所述蒸發(fā)源電極之間沿縱向設置有一組水平放置的加熱組件，所述加熱組件的兩端與所述蒸發(fā)源電極連接；所述蒸發(fā)電源裝置與所述蒸發(fā)源電極組兩端連接;所述智能控制裝置分別與所述氣體流速控制裝置、所述變頻調速裝置和所述鍍膜真空室裝置連接。2.根據(jù)權利要求1所述的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于，所述行星工件裝置包括周向旋轉的基座，若干片工件片及轉動軸，所述基座的中心設置有第一通孔，所述轉動軸從所述第一通孔穿過，所述基座上設置有若干相互獨立的第二通孔，且所述第二通孔繞所述第一通孔周向分布，所述各工件片位于相應的所述第二通孔內，且所述各工件片可繞所述第二通孔旋轉，所述轉動軸上套設有第一斜齒輪，所述各工件片上設置有與所述第一斜齒輪相嚙合的第二斜齒輪，所述轉動軸通過設置在所述鍍膜真空室裝置外面的導線與所述匹配箱和所述射頻等離子體電源裝置連接。3.根據(jù)權利要求2所述的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于，所述加熱組件由一組電熱絲組成，所述電熱絲的兩端與所述蒸發(fā)源電極連接，所述電熱絲內放置有用于導熱的金屬條或金屬板材。4.根據(jù)權利要求3所述的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于，所述加熱組件還包括用于控制加熱組件溫度的智能溫控裝置，所述智能溫控裝置分別與所述智能控制裝置和所述加熱組件的兩端連接。5.根據(jù)權利要求4所述的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于，所述栗組由包括機械栗、羅茨栗和分子栗，其中，所述機械栗包括第一機械栗和第二機械栗，所述分子栗包括主分子栗和輔助分子栗;所述第一機械栗、所述羅茨栗和所述鍍膜真空室裝置通過管道順序連接形成一條由栗體通向所述鍍膜真空室裝置內腔的氣路，所述第二機械栗、所述分子栗和所述鍍膜真空室裝置順序連接形成另一條由栗體通向所述鍍膜真空室裝置內腔的氣路。6.根據(jù)權利要求5所述的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于，所述氣體流速控制裝置由多路氣體控制裝置組成。7.根據(jù)權利要求6所述的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于，還包括與所述多路氣體控制裝置配合連接使用的多路進氣裝置。8.根據(jù)權利要求7所述的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于，所述智能控制裝置包括PLC智能控制裝置和人機觸控裝置，所述PLC智能控制裝置分別與所述人機觸控裝置、所述鍍膜真空室裝置、所述氣體流速控制裝置、所述變頻調速控制裝置、所述智能溫控裝置連接。9.根據(jù)權利要求8所述的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于，還包括用于對異常情況進行報警，并執(zhí)行相應保護措施的警示保護裝置，所述警示保護裝置分別與所述鍍膜真空室裝置、所述變頻調速裝置、所述智能溫控裝置和所述PLC智能控制裝置連接。10.根據(jù)權利要求9所述的智能等離子體蒸發(fā)鍍膜機，其特征在于，還包括用于校準系統(tǒng)參數(shù)的校準裝置，所述校準裝置分別與所述警示保護裝置、所述鍍膜真空室裝置、所述變頻調速裝置、所述智能溫控裝置和所述PLC智能控制裝置連接。
【文檔編號】C23C14/24GK205603663SQ201620254636
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年3月30日
【發(fā)明人】李香菊
【申請人】深圳市東信高科自動化設備有限公司