高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于包括：真空鍍膜室、非氣體捕集式真空泵、氣體捕集式真空泵、超高真空閥、氣體輸入控制閥、泄氣閥以及濺射系統(tǒng)，濺射系統(tǒng)包括高壓電源、陰極工作臺和伸縮陽極工作臺，陰極工作臺設(shè)置于真空鍍膜室內(nèi)部的下側(cè)，且與高壓電源負(fù)極連接，并由高壓電源向所述陰極工作臺提供高負(fù)偏壓，伸縮陽極工作臺則設(shè)置于真空鍍膜室內(nèi)部的上側(cè)，用于根據(jù)不同工件的鍍膜要求自動伸縮調(diào)節(jié)與陰極工作臺的濺射距離。本實用新型通過氣體捕集式真空泵將工作氣體進(jìn)一步純化，同時伸縮陽極工作臺根據(jù)不同鏡片的鍍膜要求自動調(diào)節(jié)與陰極工作臺之間的最佳濺射距離，從而最大限度地提高鏡片真空濺射鍍膜的工作效率。
【專利說明】
高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及光學(xué)鏡片鍍膜制造技術(shù)領(lǐng)域，具體來說是一種涉及高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置。
【【背景技術(shù)】】
[0002]隨著人們生活水平和安全意識的不斷提高，手機(jī)、行車記錄儀、安全攝像頭等普及率也隨之提高，然而光學(xué)鏡片是其手機(jī)、行車記錄儀、安全攝像頭等作為對光折射成像的重要部件，必然也導(dǎo)致光學(xué)鏡片需求日益增多，而光學(xué)鏡片鍍膜生產(chǎn)過程中，其真空鍍膜是一項重要的生產(chǎn)工藝技術(shù)，對于光學(xué)鏡片的生產(chǎn)是否合格起著決定性的作用。
[0003]但是現(xiàn)有的真空濺射鍍膜設(shè)備一般需要先將濺射真空室抽取到一個合適的真空負(fù)載，最常用的方法是向真空室內(nèi)連續(xù)充入一定流量的惰性氣體，例如，通常采用較為廉價而且安全的工業(yè)氬氣，但是由于工業(yè)氣體存在雜質(zhì)氣體的現(xiàn)象不可避免，因此降低了濺射鍍膜過程中真空栗的有效抽速，從而降低了濺射真空室的真空負(fù)載，在雜質(zhì)氣體不能被有效地抽除的情況下，對于活潑性較強(qiáng)的的Nb、T1、Al等金屬，在濺射鍍膜過程中與雜質(zhì)氣體中的02、H2等發(fā)生反應(yīng)，對光學(xué)鏡片表面薄膜質(zhì)量造成影響，甚至鍍膜失??；另外，現(xiàn)有真空濺射鍍膜設(shè)備中的陽極工作臺與陰極工作臺之間的濺射距離無法調(diào)節(jié)，滿足不了不同光學(xué)鏡片的不同鍍膜要求，致使鍍膜光學(xué)鏡片沒能夠在最合適的濺射環(huán)境下高效地完成濺射鍍膜工作，于此，對于現(xiàn)有的真空濺射設(shè)備存在的不足現(xiàn)象而造成光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜工作效率低下的問題，如何提供一種高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置是本領(lǐng)域技術(shù)人員一直研究的方向。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0004]針對如何提高光學(xué)鏡片在真空濺射鍍膜工作效率的技術(shù)問題，本實用新型的目的在于提供高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn):
[0006]高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于包括:
[0007]真空鍍膜室；
[0008]非氣體捕集式真空栗，其設(shè)置于所述真空鍍膜室外部的下方；
[0009]氣體捕集式真空栗，其與所述氣體捕集式真空栗同設(shè)于一側(cè)；
[0010]超高真空閥，其均設(shè)置于所述非氣體捕集式真空栗和所述氣體捕集式真空栗與所述真空鍍膜室之間，且配合所述非氣體捕集式真空栗及所述氣體捕集式真空栗用于對所述真空鍍膜室快速抽高真空處理；
[0011 ]氣體輸入控制閥，其設(shè)置于所述真空鍍膜室的左側(cè)；
[0012]泄氣閥，其設(shè)置于所述真空鍍膜室的右側(cè)；
[0013]濺射系統(tǒng)，其包括高壓電源、陰極工作臺和可伸縮調(diào)節(jié)高度的伸縮陽極工作臺，所述陰極工作臺設(shè)置于所述真空鍍膜室內(nèi)部的下側(cè)，且與所述高壓電源負(fù)極連接，并由所述高壓電源向所述陰極工作臺提供高負(fù)偏壓，所述伸縮陽極工作臺則設(shè)置于所述真空鍍膜室內(nèi)部的上側(cè)，用于根據(jù)不同工件的鍍膜要求自動伸縮調(diào)節(jié)與所述陰極工作臺的濺射距離。
[0014]如上所述的高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述濺射系統(tǒng)還包括水冷裝置，所述水冷裝置設(shè)置于所述陰極工作臺上，用于對所述陰極工作臺接通高負(fù)偏壓而發(fā)熱時進(jìn)行冷卻。
[0015]如上所述的高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述伸縮陽極工作臺上設(shè)有伸出所述真空鍍膜室的伸縮推動件，用于調(diào)節(jié)所述伸縮陽極工作臺的伸縮距離。
[0016]如上所述的高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述伸縮推動件上套設(shè)有上密封圈和下密封圈，所述上密封圈設(shè)置于所述真空鍍膜室外部的上表面，所述下密封圈設(shè)置于所述真空鍍膜室內(nèi)部的上表面，位于所述上密封圈的下方，其兩者相互配合用于固定密封所述伸縮推動件與所述真空鍍膜室之間的間隙。
[0017]如上所述的高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述非氣體捕集式真空栗為分子栗。
[0018]如上所述的高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述氣體捕集式真空栗為吸氣劑栗。
[0019]與現(xiàn)有技術(shù)相比，上述實用新型有如下優(yōu)點:
[0020]1、本實用新型通過氣體捕集式真空栗將工作氣體進(jìn)一步純化，大大地提高對濺射真空室抽高真空效率，同時伸縮陽極工作臺根據(jù)不同鏡片的鍍膜要求自動伸縮調(diào)節(jié)與陰極工作臺之間的距離，滿足于濺射靶材最佳的濺射距離，從而能夠最大限度地提高光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜的工作效率；
[0021]2、本實用新型通過氣體捕集式真空栗將工作氣體進(jìn)一步純化，大大地降低了活性氣體對光學(xué)鏡片表面薄膜的污染，甚至破壞，提高了薄膜的生長質(zhì)量，進(jìn)而提高光學(xué)鏡片的合格率；
[0022]3、本實用新型通過結(jié)構(gòu)簡單，制作方便，從而可以最大限度的減少企業(yè)經(jīng)濟(jì)成本?！尽靖綀D說明】】
[0023]圖1是本實用新型高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【【具體實施方式】】
[0024]高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，包括:
[0025]真空鍍膜室I;
[0026]非氣體捕集式真空栗2，其設(shè)置于所述真空鍍膜室I外部的下方；
[0027]氣體捕集式真空栗3，其與所述氣體捕集式真空栗2同設(shè)于一側(cè)；
[0028]超高真空閥4，其均設(shè)置于所述非氣體捕集式真空栗2和所述氣體捕集式真空栗3與所述真空鍍膜室I之間，且配合所述非氣體捕集式真空栗2及所述氣體捕集式真空栗3用于對所述真空鍍膜室I快速抽高真空處理；
[0029 ]氣體輸入控制閥5，其設(shè)置于所述真空鍍膜室I的左側(cè)；
[0030]泄氣閥6，其設(shè)置于所述真空鍍膜室I的右側(cè)；
[0031]濺射系統(tǒng)7，其包括高壓電源71、陰極工作臺72和可伸縮調(diào)節(jié)高度的伸縮陽極工作臺74，所述陰極工作臺72設(shè)置于所述真空鍍膜室I內(nèi)部的下側(cè)，且與所述高壓電源71負(fù)極連接，并由所述高壓電源71向所述陰極工作臺72提供高負(fù)偏壓，所述伸縮陽極工作臺74則設(shè)置于所述真空鍍膜室I內(nèi)部的上側(cè)，用于根據(jù)不同工件的鍍膜要求自動伸縮調(diào)節(jié)與所述陰極工作臺72的濺射距離。
[0032]具體地，所述濺射系統(tǒng)7還包括水冷裝置73，所述水冷裝置73設(shè)置于所述陰極工作臺72上，用于對所述陰極工作臺72接通高負(fù)偏壓而發(fā)熱時進(jìn)行冷卻。
[0033]進(jìn)一步地，所述伸縮陽極工作臺74上設(shè)有伸出所述真空鍍膜室I的伸縮推動件741，用于調(diào)節(jié)所述伸縮陽極工作臺74的伸縮距離。
[0034]更進(jìn)一步地，所述伸縮推動件741上套設(shè)有上密封圈742和下密封圈743，所述上密封圈742設(shè)置于所述真空鍍膜室I外部的上表面，所述下密封圈743設(shè)置于所述真空鍍膜室I內(nèi)部的上表面，位于所述上密封圈742的下方，其兩者相互配合用于固定密封所述伸縮推動件741與所述真空鍍膜室I之間的間隙。
[0035]更進(jìn)一步地，所述非氣體捕集式真空栗2為分子栗。其優(yōu)點在于能夠大大縮短真空鍍膜室的抽真空時間，并可獲得無油污染的清潔真空環(huán)境。
[0036]更進(jìn)一步地，所述氣體捕集式真空栗3為吸氣劑栗。其優(yōu)點在于能夠?qū)I(yè)氣體進(jìn)行進(jìn)一步地純化，且其結(jié)構(gòu)簡單，操作維護(hù)容易。
[0037]本實用新型工作原理:
[0038]將要鍍膜的鏡片基體9放置于伸縮陽極工作臺74上，濺射靶材8放置于陰極工作臺72，隨之開啟非氣體捕集式真空栗2將真空鍍膜室I抽至滿足氣體捕集式真空栗3工作要求的真空狀態(tài)，開啟氣體捕集式真空栗3，同時關(guān)閉非氣體捕集式真空栗2，進(jìn)而開啟氣體輸入控制閥5，向真空鍍膜室I室內(nèi)輸送工作氣體至滿足濺射所需的工作氣壓，隨后關(guān)閉氣體輸入控制閥5，切斷工作氣體的繼續(xù)輸入，并等待10-20分鐘，待工作氣體被氣體捕集式真空栗3純化后啟動濺射系統(tǒng)7，進(jìn)而通過伸縮推動件741調(diào)節(jié)伸縮陽極工作臺74與陰極工作臺之間的距離，滿足于濺射靶材8最佳的濺射距離，隨后開啟高壓電源71，進(jìn)行濺射鍍膜工作，待濺射鍍膜結(jié)束后，開啟泄氣閥6，用于泄放真空鍍膜室I內(nèi)部氣壓至大氣環(huán)境，取出鏡片基體9，完成整一個濺射鍍膜工作。
[0039]綜上所述對本實用新型的實施方式作了詳細(xì)說明，但是本實用新型不限于上述實施方式。即使其對本實用新型作出各種變化，則仍落入在本實用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項】
1.高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于包括: 真空鍍膜室(I); 非氣體捕集式真空栗(2)，其設(shè)置于所述真空鍍膜室(I)外部的下方； 氣體捕集式真空栗(3)，其與所述氣體捕集式真空栗(2)同設(shè)于一側(cè)； 超高真空閥(4)，其均設(shè)置于所述非氣體捕集式真空栗(2)和所述氣體捕集式真空栗(3)與所述真空鍍膜室(I)之間，且配合所述非氣體捕集式真空栗(2)及所述氣體捕集式真空栗(3)用于對所述真空鍍膜室(I)快速抽高真空處理； 氣體輸入控制閥(5)，其設(shè)置于所述真空鍍膜室(I)的左側(cè)； 泄氣閥(6)，其設(shè)置于所述真空鍍膜室(I)的右側(cè)； 濺射系統(tǒng)(7)，其包括高壓電源(71)、陰極工作臺(72)和可伸縮調(diào)節(jié)高度的伸縮陽極工作臺(74)，所述陰極工作臺(72)設(shè)置于所述真空鍍膜室(I)內(nèi)部的下側(cè)，且與所述高壓電源(71)負(fù)極連接，并由所述高壓電源(71)向所述陰極工作臺(72)提供高負(fù)偏壓，所述伸縮陽極工作臺(74)則設(shè)置于所述真空鍍膜室(I)內(nèi)部的上側(cè)，用于根據(jù)不同工件的鍍膜要求自動伸縮調(diào)節(jié)與所述陰極工作臺(72)的濺射距離。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述濺射系統(tǒng)(7)還包括水冷裝置(73)，所述水冷裝置(73)設(shè)置于所述陰極工作臺(72)上，用于對所述陰極工作臺(72)接通高負(fù)偏壓而發(fā)熱時進(jìn)行冷卻。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述伸縮陽極工作臺(74)上設(shè)有伸出所述真空鍍膜室(I)的伸縮推動件(741)，用于調(diào)節(jié)所述伸縮陽極工作臺(74)的伸縮距離。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述伸縮推動件(741)上套設(shè)有上密封圈(742)和下密封圈(743)，所述上密封圈(742)設(shè)置于所述真空鍍膜室(I)外部的上表面，所述下密封圈(743)設(shè)置于所述真空鍍膜室(I)內(nèi)部的上表面，位于所述上密封圈(742)的下方，其兩者相互配合用于固定密封所述伸縮推動件(741)與所述真空鍍膜室(I)之間的間隙。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述非氣體捕集式真空栗(2)為分子栗。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高效光學(xué)鏡片真空濺射鍍膜裝置，其特征在于:所述氣體捕集式真空栗(3)為吸氣劑栗。
【文檔編號】C23C14/34GK205662593SQ201620480047
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年5月23日
【發(fā)明人】楊嘉嘉, 楊文志, 陳招燕, 程亞麗
【申請人】中山市萬物文化發(fā)展有限公司