發(fā)明背景及內(nèi)容

涂層在本技術(shù)領(lǐng)域中為已知技術(shù)，用于類似絕緣玻璃窗單元和/或其他的窗應(yīng)用中。已知的，在一些情況下，一般需要對(duì)涂層制品進(jìn)行熱處理(例如，熱回火，熱彎曲和/或熱強(qiáng)化)來用于回火、彎曲、或其他類似的目的。熱處理(HT)涂層制品通常需要使用至少580攝氏度的溫度，更優(yōu)選是至少約600攝氏度，且進(jìn)一步更優(yōu)選是至少620攝氏度。該高溫(例如，5-10分鐘以上)經(jīng)常會(huì)使涂層被損壞和/或惡化或是在不可預(yù)測(cè)的方式下被改變。因此，當(dāng)需要熱處理時(shí)，涂層必須在可預(yù)測(cè)的方式下能夠承受該熱處理(例如，熱回火)，來減少對(duì)于涂層的破壞。

特別是，為了制備回火的涂層玻璃制品，類似低輻射涂層的建筑涂層通常需要熱處理。由于與非回火的玻璃相比，回火的玻璃更昂貴，因此，回火的涂層制品通常只在需要時(shí)被使用。因此，理想的是，這兩種產(chǎn)品都可在市場(chǎng)被提供，一種是熱處理的，且另一種是不進(jìn)行熱處理的，即，實(shí)際為具有特定顏色和熱性能的“半涂層”(AC)產(chǎn)品，以及熱處理(HT)配套產(chǎn)品，隨著類似熱回火的熱處理，在性能和顏色基本上與AC產(chǎn)品相匹配。因此，理想的是AC和熱處理配套產(chǎn)品之間的顏色匹配足夠接近，當(dāng)兩種產(chǎn)品以特定的方式被一起應(yīng)用時(shí)以肉眼幾乎或基本上難以區(qū)分。其在以下情況下被實(shí)現(xiàn)：(a)當(dāng)AC和熱處理產(chǎn)品具有相同或相似的涂層時(shí)；(b)當(dāng)涂層制品可被熱處理(例如，熱回火)時(shí)；和(c)當(dāng)熱處理的涂層制品具有較低的ΔE*值(例如，ΔE*值不超過5.0，更優(yōu)選是不超過4.0)時(shí)。由于熱處理，較低的ΔE*值，指示出例如涂層制品的顏色由于熱處理沒有明顯的改變，涂層制品的熱處理版本基本上與非熱處理版相匹配。

技術(shù)用語ΔE*(和ΔE)在本技術(shù)領(lǐng)域中被廣泛使用，其可隨各種技術(shù)被確定，在中，以及Hunter等人的“外觀測(cè)量”第二版，Cptr.9，第162頁等[John Wiley&Sons,1987]中被說明。本技術(shù)領(lǐng)域中所使用的ΔE*(和ΔE)是一種恰當(dāng)?shù)乇硎驹跓崽幚碇蠡蛴捎跓崽幚?，制品中反射?或透射率(以及外觀顏色等)變化(或不足)的方法。ΔE可通過“ab”技術(shù)或Hunter技術(shù)(以下標(biāo)的“H”被指定)被計(jì)算。ΔE對(duì)應(yīng)于Hunter LAB尺度L,a,b(或L_h,a_h,b_h)。同樣，ΔE*對(duì)應(yīng)于CIE LAB尺度L*,a*,b*。兩者都被認(rèn)為是有用的，并且相當(dāng)于本發(fā)明的目的。例如，上述引用的Hunter等人的說明，可使用稱為L(zhǎng)*,a*,b*尺度的直角坐標(biāo)/尺度技術(shù)(CIE LAB 1976)，其中，L*是(CIE 1976)亮度單元；a*是(CIE 1976)紅綠單元；b*是(CIE 1976)黃藍(lán)單元；且L*o a*o b*o與L*1a*1b*1之間的距離ΔE*為:ΔE*＝[(ΔL*)2(Δa*)2(Δb*)2]1/2，其中：ΔL*＝L*1–L*o；Δa*＝a*1–a*o；Δb*＝b*1–b*o；其中，下標(biāo)的"o"表示熱處理之前的涂層(涂層制品)，且下標(biāo)的"1"表示熱處理之后的涂層(涂層制品)；且使用的數(shù)字(例如a*,b*,L*)則通過前述的(CIE LAB 1976)L*,a*,b*坐標(biāo)技術(shù)被計(jì)算。例如，當(dāng)玻璃側(cè)反射ΔE*值被測(cè)量時(shí)，則使用玻璃側(cè)反射a*,b*和L*值。以類似的方式，可使用有關(guān)ΔE*的上述公式，即ΔE*＝[(ΔL*)²+(Δa*)²+(Δb*)²]^1/2，來計(jì)算ΔE，通過Hunter Lab值a_h,b_h,L_h，替換a*,b*,L*。此外，在本發(fā)明的范圍內(nèi)，如果轉(zhuǎn)換為采用與上述定義的ΔE*相同概念的任何其他技術(shù)被計(jì)算時(shí)，與ΔE*的量化為等效數(shù)。此外，ΔE*在美國(guó)專利No.7,964,284中被定義，其被納入此處作為參考。

在熱處理過程中，涂層玻璃可被加熱至高溫650℃和750℃，隨后以較高的速率被冷卻，來生成內(nèi)應(yīng)力，其導(dǎo)致較高的強(qiáng)度，一旦發(fā)生斷裂，成為中斷模式。高溫處理會(huì)引起涂層中的不同過程(例如氧化、再結(jié)晶、擴(kuò)散、體積變化、應(yīng)力增加或松弛等)使涂層制品的顏色值被改變。因此，理想的是，經(jīng)熱處理引起涂層中的變化(例如，通過改變a*和/或b*顏色值被指示出的顏色變化)，通過不同時(shí)間的熱處理可預(yù)測(cè)。

以下將進(jìn)一步說明，有關(guān)顏色，理想的是AC和熱處理配套產(chǎn)品基本上相匹配(即，沒有被熱處理的AC產(chǎn)品與熱處理后的熱處理產(chǎn)品基本上相匹配)，且根據(jù)需要，甚至可以是在不同時(shí)段被熱處理的熱處理版本。實(shí)際上，低輻射涂層被應(yīng)用到厚度為4-12毫米的各種不同玻璃中，且各玻璃厚度要求熱處理過程中不同的加熱機(jī)制度，來達(dá)到所需的回火玻璃性能。在一般情況下，較厚的玻璃需要加熱更長(zhǎng)時(shí)間和/或更高的溫度，并以較低的速率被冷卻。并且涂層產(chǎn)品通常出售給不同的客戶，這些客戶使用不同型號(hào)和類型的爐，例如輻射爐、對(duì)流爐、或混合模型。這些爐型的每一個(gè)中，傳導(dǎo)至玻璃和涂層的熱都互不相同。

因此，理想的是，實(shí)現(xiàn)熱穩(wěn)定的產(chǎn)品，在熱處理產(chǎn)品的熱處理過程后，使熱處理產(chǎn)品與退火及非回火的產(chǎn)品基本上相匹配，具有相似或相同顏色的涂層，且不受玻璃厚度和不同爐型的限制。換句話說，理想的是，熱處理產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)較低的ΔE*值，例如，ΔE*值不超過5.0，更優(yōu)選是不超過4.0，并在一定的熱處理時(shí)間期間，如10分鐘、16分鐘、和/或24分鐘中的一個(gè)或多個(gè)。

由于熱處理過程期間涂層內(nèi)發(fā)生的上述程序，一些性能和顏色的變化是無法避免的。但是，大多數(shù)或一些變化發(fā)生在熱處理過程的開始階段或是較短時(shí)間內(nèi)，(例如，在8-16分鐘內(nèi)，或是熱處理的第一個(gè)10-12分鐘或10-16分鐘內(nèi))，從而使熱處理產(chǎn)品在熱處理過程最初的16分鐘左右基本上達(dá)到最終想要的顏色值，從而在熱處理過程的增加回火時(shí)間期間，與加熱爐類型無關(guān)，產(chǎn)品的顏色變化可保持基本穩(wěn)定。當(dāng)然，在一些情況下，熱處理過程將不超過16分鐘。例如，假設(shè)24分鐘的熱處理過程中，理想的是，涂層在熱處理過程的第一個(gè)16分鐘左右基本上實(shí)現(xiàn)最終想要的顏色值，從而產(chǎn)品的顏色變化在約16-24分鐘的時(shí)段內(nèi)能保持基本穩(wěn)定。另一方面，理想的是，24分鐘的熱處理過程中，與0-16分鐘時(shí)段相比，16-24分鐘時(shí)段中的涂層制品可實(shí)現(xiàn)更低的ΔE*值。因此，例如，具有相同涂層的一對(duì)熱回火產(chǎn)品，當(dāng)一個(gè)被熱處理12分鐘且另一個(gè)被熱處理20分鐘時(shí)基本上相匹配。

在一些情況下，涂層制品的設(shè)計(jì)師爭(zhēng)取將理想的可見光透射率、理想的顏色、低輻射(或輻射率)、和低表面電阻(R_S)相結(jié)合。低輻射((low-E)和低表面電阻特性使該涂層制品阻擋大量的紅外輻射，例如減少車輛或建筑內(nèi)部不理想的高溫。

在本發(fā)明的實(shí)施例中，涉及一種涂層制品，含有低輻射(low-E)涂層，由玻璃基板支撐。該涂層制品可被熱處理(例如，熱回火，熱彎曲和/或熱強(qiáng)化)。在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，涂層制品包括：基于錫酸鋅的層，配置在基于銀的紅外(IR)反射層之上，其中，基于錫酸鋅的層優(yōu)選是位于第一和第二基于銀的紅外反射層之間。在示例性實(shí)施例中，基于錫酸鋅的層被配置在(i)含鎳和/或鉻的上接觸層和(ii)含氮化硅的層之間，從而自玻璃基板的層堆?？砂ê幸韵虏牧系膶樱翰ＡАy/氧化鎳鉻/氧化鋅錫/氮化硅…銀...，根據(jù)本發(fā)明的各種實(shí)施例的低輻射涂層可具有，例如兩個(gè)或三個(gè)基于銀的紅外反射層。在此發(fā)現(xiàn)，提供基于錫酸鋅的層可使涂層制品在熱處理(HT)下具有改進(jìn)的熱穩(wěn)定性。該涂層制品，當(dāng)被熱處理(例如，熱回火)時(shí)，可實(shí)現(xiàn)較低的ΔE*值(玻璃側(cè)反射和/或透射率)，如ΔE*值不超過5.0，更優(yōu)選是不超過4.0，且在一定的熱處理時(shí)間期間，如10分鐘、16分鐘、和/或24分鐘中的一個(gè)或多個(gè)。此外，在此發(fā)現(xiàn)，在經(jīng)熱處理的理想方式下，與不存在基于錫酸鋅的層相比，提供基于錫酸鋅的層可使產(chǎn)品的玻璃側(cè)反射和/或透射ΔE*值令人驚訝地減少，(例如，與基于錫酸鋅的層由氧化錫層來替代相比)。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，涂層制品可以或也可以不被熱處理，并可在示例性應(yīng)用中被用于窗的環(huán)境，類似單片或絕緣玻璃窗單元。

因此，需要提供一種涂層制品，具有以下中的一個(gè)或多個(gè)特性：(i)理想的可見光透射率；(ii)耐久性好；(iii)理想的著色；(iv)理想的輻射率；(V)較低的霧度；和/或(vi)熱處理下的熱穩(wěn)定性，從而在一定的熱處理時(shí)間期間，例如10分鐘、16分鐘、和/或24分鐘中的一個(gè)或多個(gè)，玻璃側(cè)反射ΔE*值不超過5.0，更優(yōu)選是不超過4.5，最有選是不超過4.0。

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例，提供了一種涂層制品，含有涂層，由玻璃基板支撐，包括：第一介質(zhì)層，由所述玻璃基板支撐；含銀的第一紅外(IR)反射層，由所述玻璃基板支撐，并至少位于所述第一介質(zhì)層之上；含鎳和/或鉻氧化物的上接觸層，所述上接觸層位于所述含銀的第一紅外反射層之上并與其直接接觸；含錫酸鋅的層，位于所述含鎳和/或鉻氧化物的上接觸層之上并與其直接接觸；含氮化硅的第一層，位于所述含錫酸鋅的層之上并與其直接接觸；含銀的第二紅外反射層，至少位于所述含氮化硅的第一層之上；和另一個(gè)介質(zhì)層，至少位于所述第二紅外反射層之上。

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，提供了一種制備熱回火涂層制品的方法，所述方法包括：在至少600攝氏度的溫度下熱處理涂層制品，所述涂層制品含有涂層，由玻璃基板支撐，所述涂層包括：第一介質(zhì)層，由所述玻璃基板支撐；含銀的第一紅外(IR)反射層，由所述玻璃基板支撐，并至少位于所述第一介質(zhì)層之上；含鎳和/或鉻氧化物的上接觸層，所述上接觸層位于所述含銀的第一紅外反射層之上并與其直接接觸；含錫酸鋅的層，位于所述含鎳和/或鉻氧化物的上接觸層之上并與其直接接觸；含氮化硅的第一層，位于所述含錫酸鋅的層之上并與其直接接觸；含銀的第二紅外反射層，至少位于所述含氮化硅的第一層之上；和另一個(gè)介質(zhì)層，至少位于所述第二紅外反射層之上，且其中，(i)在所述熱處理期間，所述涂層制品的可見光透射率在12-24分鐘的熱處理時(shí)間之間，具穩(wěn)定性且變化不超過1.0％，和/或(ii)所述涂層制品在0-30分鐘的整個(gè)熱處理時(shí)間期間的熱處理下，具有不超過0.60％的霧霾百分比。

附圖簡(jiǎn)要說明

圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的涂層制品的橫截面圖；

圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施例的涂層制品的橫截面圖；

圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的絕緣玻璃窗單元中配置的圖1或圖2的涂層制品的橫截面圖(位于絕緣玻璃窗單元的表面2上)；

圖4是以分鐘為單位的熱處理(HT)時(shí)間相對(duì)于可見光透射率(TY％)的繪圖，將示例1與比較例(CE)進(jìn)行比較；

圖5是以分鐘為單位的熱處理(HT)時(shí)間相對(duì)于霧霾百分比的繪圖，將示例1與比較例(CE)進(jìn)行比較。

本發(fā)明示例性實(shí)施例的具體說明

以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明，在多個(gè)附圖/實(shí)施例中，相同的符號(hào)表示相同的部分。

根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的涂層制品可應(yīng)用于絕緣玻璃(IG)窗單元、車輛窗或其他類型窗的環(huán)境中。例如，在此所述的涂層可用在圖3所示出的絕緣玻璃窗單元的表面#2上。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的涂層制品，具有以下中的一個(gè)、兩個(gè)、三個(gè)、四個(gè)、五個(gè)、或所有六個(gè)特性：(i)理想的可見光透射率；(ii)耐久性好；(iii)理想的著色；(iv)理想的輻射率；(v)較低的霧度；和/或(vi)熱處理下的熱穩(wěn)定性。

本發(fā)明的示例性實(shí)施例涉及一種涂層制品，含有低輻射(low-E)涂層30，由玻璃基板1支撐。涂層30可被濺射沉積。該涂層制品可被熱處理(例如，熱回火，熱彎曲和/或熱強(qiáng)化)。在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，涂層制品包括：基于錫酸鋅的層14，配置在基于銀的紅外(IR)反射層9上，其中，基于錫酸鋅的層14優(yōu)選是位于第一和第二基于銀的紅外反射層9和19之間。在示例性實(shí)施例中，基于錫酸鋅的層14配置在(i)含鎳和/或鉻的上接觸層11和(ii)含氮化硅的層15之間并與其接觸，從而紅外反射層之間和/或含紅外反射層的層堆棧，自玻璃基板1可包括含有以下材料的層：玻璃…銀/氧化鎳鉻/氧化鋅錫/氮化硅…銀...，(例如，參照?qǐng)D1-2中的層9、層11、層14、和層15)。根據(jù)本發(fā)明的各種實(shí)施例的低輻射涂層，例如，可具有兩個(gè)或三個(gè)基于銀的紅外反射層。

在此發(fā)現(xiàn)，提供基于錫酸鋅的層14可使涂層制品在熱處理(HT)時(shí)具有改進(jìn)的熱穩(wěn)定性。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的涂層制品，當(dāng)被熱處理(例如，熱回火)時(shí)，可實(shí)現(xiàn)較低的ΔE*值(玻璃側(cè)反射和/或透射率)，如ΔE*值不超過5.0，更優(yōu)選是不超過4.0，且在一定的熱處理時(shí)間期間，如10分鐘、16分鐘、和/或24分鐘中的一個(gè)或多個(gè)。此外，在此發(fā)現(xiàn)，在經(jīng)熱處理的理想方式下，與不存在基于錫酸鋅的層14相比，提供基于錫酸鋅的層14可使產(chǎn)品的玻璃側(cè)反射和/或透射ΔE*值令人驚訝地減少，(例如，與基于錫酸鋅的層14由氧化錫層來替代相比)。

在示例性實(shí)施例中，基于錫酸鋅(例如ZnSnO,Zn₂SnO₄等)的層14按重量比，鋅的含量可比錫更多。例如，基于錫酸鋅的層14的金屬含量可包括：約51-90％的鋅和約10-49％的錫，更優(yōu)選是，約51-70％的鋅和約30-49％的錫，本發(fā)明的示例性實(shí)施例中的例子為約52％的鋅和約48％的錫(重量百分比，除了層中的氧氣之外)。因此，例如，在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，基于錫酸鋅的層可通過使用含有約52％的鋅和約48％的錫的金屬靶被濺射沉積。選擇性的，基于錫酸鋅的層14可摻雜類似鋁等的其他金屬。

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，涂層30包括雙銀堆棧(如圖1所示)，但是本發(fā)明并不局限于所述的實(shí)例(例如，如圖2所示，在一些情況下可使用三個(gè)基于銀的層)。在此應(yīng)理解，圖1-2中示出的涂層制品為單片形式。例如，在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，熱處理和/或非熱處理的涂層制品具有多個(gè)紅外反射層(例如，兩個(gè)或三個(gè)隔開的基于銀的層)，能夠?qū)崿F(xiàn)小于或等于3歐姆/平方的表面電阻(R_S)(更優(yōu)選是小于或等于2.5歐姆/平方，甚至更優(yōu)選是小于或等于2.0歐姆/平方，最優(yōu)選是小于或等于1.6歐姆/平方)。在示例性實(shí)施例中，在熱處理或非熱處理形式下，以單片形式進(jìn)行測(cè)量，在此所述的涂層制品能實(shí)現(xiàn)至少約40％的可見光透射率(Ill.C,2degree)，更優(yōu)選是至少約50％，更優(yōu)選是至少約55％，且最優(yōu)選是至少約60％。

在此所使用的技術(shù)用語“熱處置”和“熱處理”，指的是加熱到足夠的溫度，以實(shí)現(xiàn)玻璃涂層制品的熱回火、熱彎曲、和/或熱強(qiáng)化。該定義包括，例如，在烤爐或加熱爐中，至少在約580攝氏度的溫度下加熱涂層制品，更優(yōu)選是至少約為600攝氏度，以足夠的時(shí)間進(jìn)行回火、彎曲、和/或熱強(qiáng)化。在一些情況下，如上所述，熱處理可以是至少4分鐘或5分鐘或更多。

圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例的涂層制品的橫截面圖，其中低輻射涂層30具有兩個(gè)基于銀的紅外反射層9和19。該涂層制品包括：基板1(例如，透明的，綠色的，青銅色的，或藍(lán)綠色的玻璃基板，厚度約為1-10毫米，更優(yōu)選是約1-8毫米，例如，厚度約為6毫米)；和涂層(或?qū)酉到y(tǒng))30，直接或間接地配置在基板1上。涂層(或?qū)酉到y(tǒng))30包括：底部含氮化硅的透明介質(zhì)層3，其可以是富硅型的Si₃N₄，用來減少霧霾，或是本發(fā)明的不同實(shí)施例中任何其他合適的化學(xué)計(jì)量比；第一下接觸層7(其與紅外反射層9接觸)，第一導(dǎo)電及優(yōu)選是金屬或基本金屬的紅外(IR)反射層9；，第一上接觸層11(其與層9接觸)；含錫酸鋅的透明介質(zhì)層14，位于接觸層11之上并與其接觸；含氮化硅的透明介質(zhì)層15a和15b，其可以或也可以不包括氧化物；選擇性地，含NiCr,NiCrOx等的吸收和/或阻擋層16；第二下接觸層17(其與紅外反射層19接觸)；第二導(dǎo)電及優(yōu)選是金屬或基本金屬的紅外反射層19；第二上接觸層21(其與層19接觸)；透明介質(zhì)層23；和含氮化硅的透明介質(zhì)層25。當(dāng)阻擋/吸收層16不存在，基層15a和15b可以組合成一個(gè)單一的15層包括氮化硅或氮化硅的兩。“接觸”層11、7、17和21，每個(gè)接觸至少一個(gè)紅外反射層(例如，基于銀層)。上述層3-25彌補(bǔ)濺射Low-E(即低發(fā)射率涂層30)是在玻璃或塑料基板1提供。

圖2是示出根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施例的涂層制品的橫截面圖。圖2示出三重銀涂層30，而圖1示出雙銀涂層30。如參照符號(hào)所示，圖2的實(shí)施例包括許多圖1中所示出的層。在圖2實(shí)施例中的低輻射涂層30，與圖1的實(shí)施例相比，還包括：含氧化鈦(如TiO₂)的透明介質(zhì)層5；含氧化鋅的透明介質(zhì)下接觸27層；含NiCr,NiCrOx等的透明第三下接觸層28；第三導(dǎo)電及優(yōu)選是金屬或基本金屬的紅外反射層29；第三上接觸層31(其與層29接觸)；透明介質(zhì)層33；含氮化硅的透明介質(zhì)層35。且圖1實(shí)施例中含NiCr或NiCrOx的阻擋層16不需要存在于圖2實(shí)施例中。

在圖1和2中的各實(shí)施例中，可使用類似層14的錫酸鋅層來替代氧化錫層33，錫酸鋅層可位于接觸層31之上并與其直接接觸。由此可具有如上所述的優(yōu)點(diǎn)。

在單片實(shí)例中，如圖1-2所示，涂層制品僅包括一個(gè)玻璃基板1。但是，在此所述的單片涂層制品可用于類似層壓的汽車擋風(fēng)玻璃、絕緣玻璃窗單元、及類似裝置。在用于絕緣玻璃窗單元時(shí)，絕緣玻璃窗單元可包括至少2個(gè)隔開的玻璃基板。例如，示例性絕緣玻璃窗單元在美國(guó)專利文件No.2004/0005467中被示出并說明，其全部?jī)?nèi)容被納入此處作為參考。圖3是示出示例性絕緣玻璃窗單元，包括圖1或圖2中所示的涂層的玻璃基板1，通過隔片、密封膠40或類似等被耦合到另一個(gè)玻璃基板2，其之間定義有間隙50。在絕緣玻璃窗單元實(shí)施例中，基板之間的間隙50在一些情況下可填入類似氬氣(Ar)的氣體，或是氬氣和空氣的混合物。示例性絕緣玻璃單元可包括：一對(duì)隔開的透明玻璃基板1和2，厚度分別約為3-8毫米(例如，厚度約6毫米)，其中一個(gè)涂有示例性實(shí)施例中所述的涂層30，其中，基板之間的間隙50可約為5-30毫米，更優(yōu)選是約為10-20毫米，最優(yōu)選是約16毫米。在示例性的情況下，低輻射涂層30可配置在面對(duì)間隙的任何一個(gè)基板的內(nèi)表面(圖3中涂層被示出位于面對(duì)間隙50的基板1的內(nèi)部主要表面上，但其也可位于面對(duì)間隙50的基板2的內(nèi)部主要表面上)。無論是基板1或基板2都可以是建筑外墻的絕緣玻璃窗單元的最外層基板(例如，在圖3中，基板1是最靠近外墻的基板，且低輻射涂層30配置在絕緣玻璃窗單元的表面#2上)。在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，如圖3所示，涂層30配置在絕緣玻璃窗單元的表面#2上。在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，圖1或圖2的涂層30也可用于三層上釉的絕緣玻璃窗單元，例如位于該三層上釉的絕緣玻璃窗單元的表面#2上或該單元的任何其他合適的表面。

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，介質(zhì)層3、15(包括15a、15b)、25和35可由氮化硅構(gòu)成。氮化硅層3、15、25、35中可摻雜其他物質(zhì)來提高涂層制品的熱處理性，例如熱回火或類似，可以或也可以不包括氧氣。在本發(fā)明的不同實(shí)施例中，氮化硅層3、15、25和/或35可以是化學(xué)計(jì)量式(即，Si₃N₄)，或是富硅型。例如，富硅氮化硅3(和/或15，和/或25)與錫酸鋅14結(jié)合可使銀沉積(例如，通過濺射或類似等)，與在銀下面使用其他的材料相比，可減少表面電阻。此外，富硅氮化硅層中存在自由硅，可使熱處理(HT)期間從玻璃1向外遷移的原子，例如鈉(Na)，在達(dá)到銀及損壞銀之前經(jīng)富硅氮化硅層被更有效地阻止。

在示例性實(shí)施例中，當(dāng)富硅氮化硅被用于層3、15、25中的一個(gè)或多個(gè)時(shí)，富硅氮化硅層被沉積特征化為Si_xN_y層，其中x/y可以是0.76-1.5，更優(yōu)選是0.8-1.4，最優(yōu)選是0.85-1.2。此外，在示例性實(shí)施例中，熱處理之前和/或之后的富硅Si_xN_y層可具有至少2.05的折射率“n”，更優(yōu)選是至少2.07，且有時(shí)至少2.10(例如，632nm)(注意：化學(xué)計(jì)量的Si₃N₄也可被使用，具有2.02-2.04的折射率“n”)。在示例性實(shí)施例中發(fā)現(xiàn)，當(dāng)沉積的富硅Si_xN_y層具有至少2.10的折射率n時(shí)可實(shí)現(xiàn)改進(jìn)的熱穩(wěn)定性，更優(yōu)選是至少2.20，最優(yōu)選是2.2-2.4。此外，在示例性實(shí)施例中，富硅Si_xN_y層可具有至少0.001的消光系數(shù)“K”，更優(yōu)選是至少0.003(注意：化學(xué)計(jì)量的Si₃N₄具有有效0的消光系數(shù)“K”)。再次，在示例性實(shí)施例中發(fā)現(xiàn)，當(dāng)沉積(550nm)的富硅Si_xN_y層的消光系數(shù)“K”為0.001-0.05時(shí)可實(shí)現(xiàn)改進(jìn)的熱穩(wěn)定性。應(yīng)注意，由于熱處理，氮和鉀傾向于下降。在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，所述氮化硅層3、15、25、35中的任何一個(gè)和/或所有都可摻雜其他材料，例如不銹鋼或鋁。在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，所述氮化硅層中的任何一個(gè)或所有都可選擇性地包含0-15％的鋁，更優(yōu)選是約1-10％的鋁。在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，可在含有至少氮?dú)獾臍夥罩袨R射硅或硅鋁靶來沉積氮化硅。

紅外(IR)反射層9、19和29優(yōu)選是基本或完全金屬的和/或?qū)щ娦缘?，并且可?shí)質(zhì)上由銀(Ag)、金、或其他合適的紅外反射材料構(gòu)成。紅外反射層9、19和29可使涂層具有低輻射和/或良好的太陽能控制特性。然而，在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，紅外反射層可以稍微被氧化。

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，上接觸層11、21、31(以及下接觸層28)可含有氧化鎳(Ni)、鉻/氧化鉻(Cr)，或類似氧化鉻鎳(NiCrO_x)鎳合金氧化物，或是其他合適的材料，如鈦或鈦的氧化物。例如在這些層中使用NiCrO_x可提高耐久性。在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，這些層的NiCrO_x可充分被氧化(即充分地化學(xué)計(jì)量)，或者可部分被氧化(即亞氧化物)。在一些情況下，該NiCrO_x層可至少約50％被氧化。在本發(fā)明的不同實(shí)施例中，接觸層11、21、28和/或31(例如，含鎳和/或鉻的氧化物)可以或也可以不被氧化分級(jí)。氧化分級(jí)是指貫穿層厚度的層中氧化程度的變化。例如，接觸層可以被分級(jí)，從而與相鄰紅外反射層較遠(yuǎn)或更遠(yuǎn)處的接觸層部分相比，相鄰紅外反射層的接觸界面處被較少地氧化。美國(guó)專利No.6,576,349中說明了不同類型的氧化分級(jí)的接觸層，其公開的內(nèi)容被納入此處作為參考。在本發(fā)明的不同實(shí)施例中，接觸層11、21、28、和/或29(例如，含鎳和/或鉻的氧化物)可連續(xù)或非連續(xù)地穿過整個(gè)下覆或上覆紅外反射層。

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，透明介質(zhì)層23和33可含有氧化錫。但是在其他示例性實(shí)施例中，其可以摻雜其他材料，例如在選擇性的示例性實(shí)施例中摻雜鋁或鋅。

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，下接觸或種子層7和/或17，以及透明介質(zhì)層27含有氧化鋅(例如，ZnO)。這些氧化鋅層可含有類似鋁的其他材料(例如，形成ZnAlO_x)。例如，在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，氧化鋅層7、17、27中的一個(gè)或多個(gè)可摻雜約1-10％的鋁，更優(yōu)選是約1-5％的鋁，最優(yōu)選是約1-4％的鋁。

基于錫酸鋅的層14配置在含鎳和/或鉻氧化物的上接觸層11之上并與其接觸，并可以是含氮化硅的接觸層15(或15a)的下面，位于第一和第二紅外反射層9和19之間堆棧的中心部分。如上所述，在此發(fā)現(xiàn)，堆棧明顯提高了熱處理下的熱穩(wěn)定性并提高了耐久性。在選擇性的實(shí)施例中，可在基于錫酸鋅的14層(例如ZnSnO)中摻雜其他材料，如鋁、鋅、氮、或類似等。在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，基于錫酸鋅的層14基本上或?qū)嵸|(zhì)上完全被氧化。如上所述，當(dāng)所示位置中存在基于錫酸鋅的層14時(shí)，被發(fā)現(xiàn)可提高涂層的熱穩(wěn)定性，通過以下的示例與比較例可更充分地說明這一點(diǎn)。

所示的涂層之下或之上可配置其他層。因此，雖然，層系統(tǒng)或涂層是位于基板1“之上”或由基板1“支撐”(直接或間接地)，但其之間也可配置其他層。作為示例，如圖1或圖2所示的涂層，就算層3和基板1之間配置有其他層，其也可以被認(rèn)為是位于基板1“之上”和由基板1“支撐”。此外，不背離本發(fā)明實(shí)施例的整體思想的情況下，在一些實(shí)施例中，所示涂層中的一些層可被去除，且在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，多個(gè)層之間可添加其他層，或是多個(gè)層可與其他層斷開，添加在斷開的部分中。

在本發(fā)明的不同實(shí)施例中，雖然可在層中使用各種厚度及材料，但是，圖1實(shí)施例中的玻璃基板1上的各層的示例性厚度及材料如下被示出，從玻璃基板向外：

示例性材料/厚度；圖1實(shí)施例

在本發(fā)明的示例實(shí)施例中可以看出，含錫酸鋅的層14是涂層30中最厚的層，因此，比涂層30中的所有其他層厚。在示例性實(shí)施例中，含錫酸鋅的層14位于接觸層(例如，鎳和/或鉻氧化物)11和含氮化硅的層15a(或15)之間并與其直接接觸。在示例性實(shí)施例中，含錫酸鋅的層14比相鄰的接觸層(例如，鎳和/或鉻氧化物)11至少厚兩倍(更優(yōu)選是至少厚五倍，最優(yōu)選是至少厚十倍)。在示例性實(shí)施例中，含錫酸鋅的層14比相鄰的氮化硅層15a(或15)至少厚兩倍(更優(yōu)選是至少厚三倍)。其被應(yīng)用至圖1和/或圖2實(shí)施例。

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中可以看出(例如，參照?qǐng)D1)，上部基于銀的紅外反射層19比下部基于銀的紅外反射層9厚。在示例性實(shí)施例中，上部基于銀的紅外反射層19比下部基于銀的紅外反射層9至少厚20埃(更優(yōu)選是至少厚40埃，更優(yōu)選是至少厚60埃，最優(yōu)選是至少厚70埃)。所有厚度均為物理厚度。

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，根據(jù)圖1實(shí)施例的涂層制品在選擇性的熱處理之前和/或之后被單片測(cè)量時(shí)，可具有以下光學(xué)和太陽能特性。在此所述的表面電阻(R_s)考慮到所有的紅外反射層(例如，銀層9、19)。

光學(xué)/太陽能特性(圖1實(shí)施例；單片)

在本發(fā)明的不同實(shí)施例中，雖然可在層中使用各種厚度及材料，但是，圖2實(shí)施例中的玻璃基板1上的各層的示例性厚度及材料如下被示出，從玻璃基板向外：

示例性材料/厚度；圖2實(shí)施例

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，根據(jù)圖2實(shí)施例的涂層制品在選擇性的熱處理之前和/或之后被單片測(cè)量時(shí)，可具有以下光學(xué)和太陽能特性。在此所述的表面電阻(R_s)考慮到所有的紅外反射層(例如，銀層9、19、29)。

光學(xué)/太陽能特性(圖2實(shí)施例；單片)

以下示例僅被用于舉例說明的目的，除非特別聲明，其并不用來限制本發(fā)明。

示例–圖1實(shí)施例

以下示例通過在6毫米厚的透明玻璃基板1上濺射如圖1所示的涂層被完成，從而具有以下示出的層堆棧。厚度的單位為?？梢钥闯?，除了本發(fā)明示例1中的錫酸鋅層14被用來代替比較例中的氧化錫層(“n/a”表示該示例中該可應(yīng)用的層不存在)，其他的，比較例與本發(fā)明的示例1相同。換句話說，除了比較例中的中間介質(zhì)部分的氧化錫層，被替換成與根據(jù)本發(fā)明示例1的錫酸鋅層14之外，其他的本發(fā)明的示例1與比較例相同。

當(dāng)被濺射沉積到玻璃基板1上之后，比較例和示例1的樣品在650℃的箱式爐中以12-30分鐘的各種時(shí)間被熱處理(HT)。下表中示出比較例(CE)的結(jié)果，并示出各種顏色值(a*,b*)、可見光透射率百分比(TY)、L*值、可見光玻璃側(cè)反射(RgY)、可見光膜側(cè)反射(RfY)、表面電阻(歐姆/平方單位中的R_s)、以及各種時(shí)間的熱處理之后的霧霾百分比[Ill.C 2deg.觀測(cè)器]。為了獲得以下數(shù)據(jù)，生成多個(gè)相同的比較例，且各自在以下表中的各熱處理時(shí)間之后進(jìn)行測(cè)量。下表中還示出由于0-16分鐘(ΔE*0/16)的熱處理，比較例的透射、玻璃側(cè)反射、以及膜側(cè)反射ΔE*值。特別是，經(jīng)16分鐘650℃的熱處理，比較例實(shí)現(xiàn)3.27的透射ΔE*值，1.29的玻璃側(cè)反射ΔE*值，以及2.16的膜側(cè)反射ΔE*值。下表中的行ΔE*16/30示出比較例樣品被熱處理16分鐘和比較例樣品被熱處理30分鐘之間的ΔE*中的變化。因此，以玻璃側(cè)反射ΔE*值為例，在熱處理的前16分鐘期間ΔE*改變了1.29，然后在進(jìn)一步16分鐘至30分鐘的熱處理期間額外改變了2.87。因此，玻璃側(cè)反射顏色值不穩(wěn)定，且在16分鐘至30分鐘的熱處理期間持續(xù)明顯改變。

用于各種熱處理時(shí)間的比較例(CE)的表

下表中示出根據(jù)本發(fā)明的示例1的結(jié)果，并示出各種顏色值(a*,b*)、可見光透射率百分比(TY)、L*值、可見光玻璃側(cè)反射(RgY)、可見光膜側(cè)反射(RfY)、表面電阻(歐姆/平方單位中的R_s)、以及各種時(shí)間的熱處理之后的霧霾百分比[Ill.C 2deg.觀測(cè)器]。為了獲得以下數(shù)據(jù)，示例1的多個(gè)相同樣品被生成，且各自在以下表中的各熱處理時(shí)間之后進(jìn)行測(cè)量。下表中還示出由于0-16分鐘(ΔE*0/16)的熱處理，示例1的透射、玻璃側(cè)反射、以及膜側(cè)反射ΔE*值。特別是，經(jīng)16分鐘650℃的熱處理，示例1實(shí)現(xiàn)2.50的透射ΔE*值，2.70的玻璃側(cè)反射ΔE*值，以及3.74的膜側(cè)反射ΔE*值。下表中的行ΔE*16/30示出示例1樣品被熱處理16分鐘和示例1樣品被熱處理30分鐘之間的ΔE*中的變化。因此，以玻璃側(cè)反射ΔE*值為例，在熱處理的前16分鐘期間ΔE*改變了2.70，然后在進(jìn)一步16分鐘至30分鐘的熱處理期間僅額外改變了1.25。且示例1的透射ΔE*值，在熱處理的前16分鐘期間ΔE*改變了2.50，然后在進(jìn)一步16分鐘至30分鐘的熱處理期間僅額外改變了0.93。

用于各種熱處理時(shí)間的示例1的表

因此，從上面的表中可以看出，與比較例不同，在示例1中當(dāng)存在錫酸鋅層14時(shí)，至少玻璃側(cè)反射的顏色值和透射的顏色值實(shí)質(zhì)上穩(wěn)定，在16分鐘至30分鐘的熱處理期間沒有明顯的變化。特別是，示例1的ΔE*16/30值，明顯低于比較例，因此示出使用基于錫酸鋅的層14可獲得意想不到的優(yōu)點(diǎn)(錫酸鋅層14存在于示例1中，而不是在比較例中)。與比較例不同，示例1基本上能夠在熱處理過程的前16分鐘左右實(shí)現(xiàn)最終所需的顏色值(例如，透射或玻璃側(cè)反射中的一個(gè)或兩個(gè)的a*,b*和L*)，且示例1在16分鐘至30分鐘的熱處理期間基本上保持穩(wěn)定的a*,b*和L*值(玻璃側(cè)反射和/或透射)。因此，例如，示例1的一對(duì)熱回火產(chǎn)品，當(dāng)一個(gè)被熱處理16分鐘至30分鐘時(shí)，透射率和玻璃側(cè)反射值基本上可互相匹配。但比較例不是，在0至30分鐘的熱處理期間，透射ΔE*值超過5，較高不理想，該值通過將比較例的透射ΔE*0/16(3.27)與透射ΔE*16/30(2.54)值相加獲得。此外，示例1的優(yōu)勢(shì)在于玻璃側(cè)反射、膜側(cè)反射、及透射ΔE*16/30值均低于對(duì)應(yīng)的玻璃側(cè)反射、膜側(cè)反射、及透射ΔE*0/16值，表明在潛在的較長(zhǎng)熱處理過程中示例1的樣品外觀基本上穩(wěn)定–且比較例無法實(shí)現(xiàn)該玻璃側(cè)反射或膜側(cè)反射ΔE*值，再次說明了基于錫酸鋅的層14的使用較大地改進(jìn)了涂層的熱穩(wěn)定性。此外，可以看出，示例1的所有透射ΔE*值明顯比對(duì)應(yīng)的比較例ΔE*值更好(更低)。

圖4-5示出通過使用圖1所示的基于錫酸鋅的層14可實(shí)現(xiàn)改進(jìn)的熱穩(wěn)定性。圖4是以分鐘為單位的熱處理(HT)時(shí)間相對(duì)于可見光透射率(TY％)的繪圖，將示例1與比較例(CE)進(jìn)行比較；且圖5是以分鐘為單位的熱處理(HT)時(shí)間相對(duì)于霧霾百分比的繪圖，將示例1與比較例進(jìn)行比較。圖4-5中示例1的繪圖(ZnSn)具有多個(gè)圓圈，且圖4-5中比較例的繪圖(Sn)具有多個(gè)X。圖4示出示例1的可見光透射率在約12-24分鐘的熱處理期間基本穩(wěn)定(例如，變化不超過1.5％，更優(yōu)選是變化不超過1.0％)，而比較例的可見光透射率僅在較短的熱處理時(shí)間內(nèi)基本上穩(wěn)定，從而表明示例1的可見光透射率相對(duì)于比較例，具有更好的熱穩(wěn)定性。由于在實(shí)際應(yīng)用中，基于涂層被施加的支撐玻璃1的厚度和熱處理器所使用的爐型，可能會(huì)以不同的時(shí)間對(duì)涂層進(jìn)行熱處理，因此，長(zhǎng)時(shí)間熱處理中熱穩(wěn)定性被改進(jìn)時(shí)，有利于使大多數(shù)制備的涂層實(shí)現(xiàn)最終所需的外觀。同樣，圖5示出示例1在22-30分鐘的熱處理中具有相當(dāng)穩(wěn)定的霧霾百分比，而比較例則在22分鐘的熱處理后以不理想的方式明顯上升。其示出，與比較例相比，示例1的霧霾在長(zhǎng)時(shí)間熱處理中具熱穩(wěn)定性。本發(fā)明的示例性實(shí)施例中的涂層制品在0-30分鐘的整個(gè)熱處理期間，可實(shí)現(xiàn)不超過0.60％的霧霾百分比。再次，由于在實(shí)際應(yīng)用中，基于涂層被施加的支撐玻璃1的厚度和制備熱處理器所使用的爐型，可能會(huì)以不同的時(shí)間對(duì)涂層進(jìn)行熱處理，因此，長(zhǎng)時(shí)間熱處理中有關(guān)霧霾、顏色、和/或可見光透射率的熱穩(wěn)定性被改進(jìn)時(shí)，有利于使大多數(shù)制備的涂層實(shí)現(xiàn)最終所需的外觀。

示例–圖2實(shí)施例

以下示例通過在6毫米厚的透明玻璃基板1上濺射如圖2所示的涂層被完成，從而具有以下示出的層堆棧。厚度的單位為埃可以看出，除了本發(fā)明示例2中不存在比較例中的錫酸鋅層14附近的氧化錫層(“n/a”表示該示例中該可應(yīng)用的層不存在)，其他的，比較例與本發(fā)明的示例2相同。換句話說，除了錫酸鋅厚度和示例2中的錫酸鋅層與NiCrOx接觸層11直接接觸(相反比較例中其之間具有氧化錫層)，其他的，本發(fā)明的示例2與比較例大致相同。該錫酸鋅層以52/48的Zn/Sn重量％比例通過ZnSn靶被濺射。

當(dāng)被濺射沉積至玻璃基板1之后，比較例和示例2的樣品在650℃的箱式爐中以10-24分鐘的各種時(shí)間被熱處理(HT)。下表中示出比較例(CE)和示例2的結(jié)果[Ill.C 2deg.觀測(cè)器]。參照根據(jù)上述示例1的數(shù)據(jù)所說明的，來理解下列數(shù)據(jù)。

例如，650℃下16分鐘的熱處理，比較例實(shí)現(xiàn)2.46的玻璃側(cè)反射ΔE*值。上表中的行ΔE*16/24示出樣品被熱處理16分鐘和樣品被熱處理24分鐘之間ΔE*中的變化。因此，以玻璃側(cè)反射ΔE*值為例，比較例在熱處理的前16分鐘期間ΔE*改變2.46，然后在進(jìn)一步16分鐘至24分鐘的熱處理期間額外改變了2.11。然而，示例2，以玻璃側(cè)反射ΔE*值為例，在熱處理的前16分鐘期間ΔE*改變了1.81，但在進(jìn)一步16分鐘至24分鐘的熱處理期間僅額外改變了1.21。示例2的透射ΔE*16/24值(0.69)與比較例相比明顯更好(更低)，具有如上所述的優(yōu)勢(shì)。因此，與比較例相比，示例2的玻璃側(cè)反射顏色值更穩(wěn)定。如上所述，該改進(jìn)的熱穩(wěn)定性有利于玻璃窗的回火過程，即使如上所述在實(shí)際應(yīng)用中可能會(huì)基于不同的玻璃厚度和不同類型的回火爐使用不同的熱處理時(shí)間，也可使其更容易地實(shí)現(xiàn)最終產(chǎn)品或是最終的產(chǎn)品顏色。

在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，提供了一種涂層制品，含有涂層，由玻璃基板支撐，包括：第一介質(zhì)層，由所述玻璃基板支撐；含銀的第一紅外反射層，由所述玻璃基板支撐，并至少位于所述第一介質(zhì)層之上；上接觸層(含鎳和/或鉻氧化物，或鈦，或鈦的氧化物)，所述上接觸層位于所述含銀的第一紅外反射層之上并與其直接接觸；含錫酸鋅的層，位于所述含鎳和/或鉻氧化物的上接觸層之上并與其直接接觸；含氮化硅的第一層，位于所述含錫酸鋅的層之上并與其直接接觸；含銀的第二紅外反射層，至少位于所述含氮化硅的第一層之上；和另一個(gè)介質(zhì)層，至少位于所述第二紅外反射層之上。

根據(jù)前段落中的涂層制品，可進(jìn)一步包括：含氧化鋅的層，位于所述含銀的第二紅外反射層之下并與其直接接觸。

根據(jù)前兩個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述上接觸層含有鎳鉻氧化物。

根據(jù)前三個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述第一介質(zhì)層含有氮化硅。

根據(jù)前四個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，可具有含氧化錫的另一個(gè)介質(zhì)層。

根據(jù)前五個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，可具有含鎳鉻的層，位于所述含氮化硅的第一層和含氮化硅的另一個(gè)層的之間并與其直接接觸。

根據(jù)前六個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，可進(jìn)一步包括：含氧化鋅的層，位于所述含銀的第一紅外反射層之下并與其直接接觸。

根據(jù)前七個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述涂層可具有兩個(gè)或兩個(gè)以下含銀的紅外反射層。

根據(jù)前八個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述含錫酸鋅的層中，鋅含量比錫多。

根據(jù)前九個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述含錫酸鋅的層中，金屬含量可以是51-90wt.％的鋅和10-49wt.％的錫。

根據(jù)前十個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述含錫酸鋅的層可被基本上完全氧化。

根據(jù)前十一個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述含錫酸鋅的層可主要由錫酸鋅構(gòu)成。

根據(jù)前十二個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述涂層可具有不超過3.0歐姆/平方的表面電阻。

根據(jù)前十三個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述涂層制品，被單片測(cè)量，可具有至少40％的可見光透射率。

根據(jù)前十四個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述涂層制品可被熱處理。

根據(jù)前十五個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述含錫酸鋅的層可以是所述涂層中最厚的層。

根據(jù)前十六個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述含錫酸鋅的層，可比所述上接觸層至少厚5倍。

根據(jù)前十七個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述含錫酸鋅的層，可比位于所述含錫酸鋅的層之上并與其直接接觸的所述含氮化硅的層厚兩倍。

根據(jù)前十八個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述含銀的第二紅外反射層，可比所述含銀的第一紅外反射層至少厚40埃。

根據(jù)前十九個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述含錫酸鋅的層的厚度可以是350-600埃。

根據(jù)前二十個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，可進(jìn)一步包括：含銀的第三紅外反射層，至少位于所述另一個(gè)介質(zhì)層之上。

根據(jù)前二十一個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述涂層中的層材料和厚度可使所述涂層制品在0-30分鐘的整個(gè)時(shí)間期間650攝氏度的熱處理下，具有不超過5.0的透射和/或玻璃側(cè)反射ΔE*值。

根據(jù)前二十二個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述涂層中的層材料和厚度可使所述涂層制品在0-24分鐘的整個(gè)時(shí)間期間650攝氏度的熱處理下，具有不超過4.0的玻璃側(cè)反射和/或透射ΔE*值。

根據(jù)前二十三個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述涂層中的層材料和厚度可使所述涂層制品在0-30分鐘的整個(gè)時(shí)間期間650攝氏度的熱處理下，具有不超過0.60％的霧霾百分比。

根據(jù)前二十四個(gè)段落中任何一個(gè)的涂層制品，所述涂層中的所述層材料和厚度可使所述涂層制品的可見光透射率在12-24分鐘的熱處理時(shí)間期間650攝氏度的熱處理溫度下，基本上具穩(wěn)定性且變化不超過1.0％。

雖然參照最實(shí)用和優(yōu)選的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了說明，但是應(yīng)理解，本發(fā)明并不局限于所述實(shí)施例，相反可進(jìn)行各種修改和等效的配置，并被包括在后附的權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)。