本實(shí)用新型涉及白炭黑加工領(lǐng)域,具體為一種沉淀法生產(chǎn)白炭黑過(guò)程中的多級(jí)沉淀裝置。
背景技術(shù):
白炭黑又稱水合沉淀二氧化硅,為白色無(wú)定形微細(xì)粉末,主要用作橡膠的補(bǔ)強(qiáng)劑,是一種重要的硅系無(wú)機(jī)功能性粉體材料。國(guó)內(nèi)大部分采用傳統(tǒng)沉淀法制備,是以泡花堿(即硅酸鈉)溶液和硫酸為原料,在一定的溫度下調(diào)節(jié)PH值,得到二氧化硅沉淀,然后從反應(yīng)器的漿料經(jīng)壓濾機(jī)過(guò)濾洗滌,除去硫酸鈉和雜質(zhì)等,然后得到的濾餅經(jīng)高速攪拌液化成糊狀漿料,稱為打漿,最后噴霧干燥,得到二氧化硅產(chǎn)品。硅酸鈉經(jīng)酸化后需經(jīng)容器沉淀,不同采購(gòu)批次的原料品質(zhì)有所不同,需混合在一起進(jìn)入下道工藝。
中國(guó)專利庫(kù)中公開(kāi)了制備白炭黑的沉淀裝置(CN201220609620.1),涉及白炭黑生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域,其特征在于:包括設(shè)置在室外的五個(gè)立式貯液罐,所述貯液罐上設(shè)有進(jìn)料口與出料口,所述貯液罐之間相通。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,設(shè)置在戶外,不受空間的限制,多數(shù)量和大容積的貯液罐可將不同批次的原料溶液混合在一起,沉淀、貯存、備用。
中國(guó)專利庫(kù)中公開(kāi)了一種白炭黑沉淀裝置(CN201320847640.7),包括沉淀釜A(1)、沉淀釜B(2),陳化槽(3),其特征在于:在陳化槽(3)泵出口安裝返料管A(4)至沉淀釜B(2)和沉淀釜A(1)、從沉淀釜B(2)循環(huán)泵出口安裝返料管B(5)至沉淀釜A(1)。本實(shí)用新型能提高產(chǎn)品的吸油值,降低氨耗,保證產(chǎn)品質(zhì)量。
現(xiàn)有的白炭黑沉淀設(shè)備沉淀效果不好,自動(dòng)化程度較低,沉淀時(shí)間較長(zhǎng)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的是提供一種沉淀法生產(chǎn)白炭黑過(guò)程中的多級(jí)沉淀裝置,包括進(jìn)液管、出液管、若干沉淀池,在沉淀池上設(shè)置有出料口、pH值檢查裝置,沉淀池之間設(shè)置有濾網(wǎng),濾孔依次變小,根據(jù)沉淀池內(nèi)溶液pH值來(lái)調(diào)節(jié)溶液流速。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
一種沉淀法生產(chǎn)白炭黑過(guò)程中的多級(jí)沉淀裝置,其包括,進(jìn)液管1、出液管2、沉淀池3、出料口4、流速檢測(cè)裝置5、pH檢測(cè)裝置6、濾網(wǎng)7、電磁閥8、設(shè)備盒9、控制芯片10、電源控制器11、操作面板12、顯示屏13、電源開(kāi)關(guān)14、電磁閥調(diào)節(jié)旋鈕15。
所述進(jìn)液管1上設(shè)置有電磁閥8,所述進(jìn)液管1內(nèi)部設(shè)置有流速檢測(cè)裝置5,所述進(jìn)液管1與沉淀池3連接,所述沉淀池3底部設(shè)置有出料口4,所述沉淀池3內(nèi)部設(shè)置有pH檢測(cè)裝置6,所述沉淀池3之間設(shè)置有濾網(wǎng)7,所述沉淀池3與出液管2連接且連接處設(shè)置有濾網(wǎng)7,所述沉淀池3外側(cè)設(shè)置有設(shè)備盒9、操作面板12,所述設(shè)備盒9內(nèi)部設(shè)置有控制芯片10、電源控制器11,所述操作面板12上設(shè)置有顯示屏13、電源開(kāi)關(guān)14、電磁閥調(diào)節(jié)旋鈕15,所述控制芯片10分別與流速檢測(cè)裝置5、pH檢測(cè)裝置6、電磁閥8、顯示屏13、電磁閥調(diào)節(jié)旋鈕15連接,所述電源控制器11分別與流速檢測(cè)裝置5、pH檢測(cè)裝置6、電磁閥8、控制芯片10、顯示屏13、電源開(kāi)關(guān)14電連接。
優(yōu)選地,所述沉淀池3的數(shù)量為3-6。
優(yōu)選地,順流方向,所述沉淀池3的體積逐漸減小。
優(yōu)選地,所述流速檢測(cè)裝置5為水流傳感器。
優(yōu)選地,所述pH檢測(cè)裝置6為pH傳感器。
優(yōu)選地,順流方向,所述濾網(wǎng)7上的濾孔逐漸減小。
本實(shí)用新型的有益效果:本沉淀裝置設(shè)計(jì)合理,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,使用方便;設(shè)置多個(gè)沉淀池形成多級(jí)沉淀結(jié)構(gòu),使反應(yīng)形成的白炭黑沉淀充分;溶液流速可調(diào),根據(jù)沉淀池內(nèi)溶液pH的大小調(diào)節(jié)溶液的流速,提高沉淀效率。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型控制流程圖。
圖1中,1-進(jìn)液管、2-出液管、3-沉淀池、4-出料口、5-流速檢測(cè)裝置、6-pH檢測(cè)裝置、7-濾網(wǎng)、8-電磁閥、9-設(shè)備盒、10-控制芯片、11-電源控制器、12-操作面板、13-顯示屏、14-電源開(kāi)關(guān)、15-電磁閥調(diào)節(jié)旋鈕。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明:
如圖1所示,所述進(jìn)液管1上設(shè)置有電磁閥8,所述進(jìn)液管1內(nèi)部設(shè)置有流速檢測(cè)裝置5,所述進(jìn)液管1與沉淀池3連接,所述沉淀池3底部設(shè)置有出料口4,所述沉淀池3內(nèi)部設(shè)置有pH檢測(cè)裝置6,所述沉淀池3之間設(shè)置有濾網(wǎng)7,所述沉淀池3與出液管2連接且連接處設(shè)置有濾網(wǎng)7,所述沉淀池3外側(cè)設(shè)置有設(shè)備盒9、操作面板12,所述設(shè)備盒9內(nèi)部設(shè)置有控制芯片10、電源控制器11,所述操作面板12上設(shè)置有顯示屏13、電源開(kāi)關(guān)14、電磁閥調(diào)節(jié)旋鈕15,所述控制芯片10分別與流速檢測(cè)裝置5、pH檢測(cè)裝置6、電磁閥8、顯示屏13、電磁閥調(diào)節(jié)旋鈕15連接,所述電源控制器11分別與流速檢測(cè)裝置5、pH檢測(cè)裝置6、電磁閥8、控制芯片10、顯示屏13、電源開(kāi)關(guān)14電連接。
如圖2所示,所述控制芯片10分別與流速檢測(cè)裝置5、pH檢測(cè)裝置6、電磁閥8、顯示屏13、電磁閥調(diào)節(jié)旋鈕15連接,所述控制芯片10分別接收流速檢測(cè)裝置5、pH檢測(cè)裝置6、電磁閥調(diào)節(jié)旋鈕15上傳的信號(hào),分析判斷后分別向電磁閥8、顯示屏13下發(fā)對(duì)應(yīng)指令。
工作原理
流速檢測(cè)裝置5檢測(cè)進(jìn)液管1內(nèi)的溶液流速,pH檢測(cè)裝置6檢測(cè)沉淀池3內(nèi)的pH,隨著反應(yīng)進(jìn)行,pH會(huì)發(fā)生變化,控制芯片10根據(jù)上傳的pH數(shù)據(jù)分析判斷,并向電磁閥8下發(fā)指令來(lái)調(diào)節(jié)流速;控制芯片10通過(guò)顯示屏13顯示溶液流速、各個(gè)沉淀池3內(nèi)溶液的pH;操作人員液可以通過(guò)調(diào)節(jié)電磁閥調(diào)節(jié)旋鈕15來(lái)調(diào)節(jié)溶液流速。
最后說(shuō)明的是,以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案所做的其他修改或者等同替換,只要不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的精神和范圍,均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。