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      一種碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備的制作方法

      文檔序號(hào):39345963發(fā)布日期:2024-09-10 12:09閱讀:33來(lái)源:國(guó)知局
      一種碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備的制作方法

      本發(fā)明涉及碳化硅晶體制備,具體為一種碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備。


      背景技術(shù):

      1、碳化硅晶體是一種重要的半導(dǎo)體材料,其晶體結(jié)構(gòu)具有多種形態(tài),主要分為六方或菱面體的α-sic和立方體的β-sic兩大類,它具有一系列優(yōu)良的特性,比如高硬度、高熱導(dǎo)率、高化學(xué)穩(wěn)定性等,碳化硅在電子、電力、光電等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用,在電子領(lǐng)域,可用于制作高溫、高頻、大功率的電子器件;在電力領(lǐng)域,可應(yīng)用于制造電力電子器件,提高電能轉(zhuǎn)換效率和可靠性;在光電領(lǐng)域,對(duì)其特性的開發(fā)利用也在不斷深入,一般通過(guò)物理氣相傳輸法(pvt)、高溫化學(xué)氣相沉積法(htcvd)或液相法等技術(shù)配合碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備來(lái)制備高質(zhì)量的sic單晶材料。

      2、碳化硅晶體制備過(guò)程中,依靠碳化硅粉料的自然生長(zhǎng),整體周期過(guò)長(zhǎng),且在生長(zhǎng)過(guò)程中,由于籽晶邊緣區(qū)域的過(guò)飽和度影響,碳化硅粉料易在籽晶表面形成碳包裹,進(jìn)而造成多晶核的情況,從而導(dǎo)致碳化硅晶體的制備品質(zhì)和效率降低的問(wèn)題。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、為實(shí)現(xiàn)以上目的,本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn):一種碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備,包括機(jī)架,機(jī)架起到支撐和固定整個(gè)設(shè)備的基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)作用,所述機(jī)架的頂部固定安裝有碳化硅晶體生長(zhǎng)爐,碳化硅晶體生長(zhǎng)爐提供晶體生長(zhǎng)所需的環(huán)境和條件,所述碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的表面鉸接有爐門,所述碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的頂部安裝有提拉器,提拉器起到提拉作用,控制晶體成品的取出,所述提拉器的一側(cè)安裝有旋轉(zhuǎn)器,旋轉(zhuǎn)器使相關(guān)部件旋轉(zhuǎn),所述旋轉(zhuǎn)器的輸出端延伸至碳化硅晶體生長(zhǎng)爐內(nèi)部,且與碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的頂部?jī)?nèi)壁相適配,所述碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的內(nèi)部設(shè)置有電加熱器,電加熱器提供熱量,維持生長(zhǎng)所需溫度,所述電加熱器位于旋轉(zhuǎn)器的下方,且所述電加熱器的頂部安裝有坩堝取出板,坩堝取出板方便坩堝的取出操作,所述坩堝取出板的頂部放置有生長(zhǎng)坩堝,生長(zhǎng)坩堝容納碳化硅原料進(jìn)行晶體生長(zhǎng);

      2、其中,所述生長(zhǎng)坩堝包括坩堝鍋體,所述坩堝鍋體的底面與坩堝取出板頂部相接觸,且所述坩堝鍋體呈錐筒狀,所述坩堝鍋體的外緣表面與旋轉(zhuǎn)器的輸出端相連接,所述坩堝鍋體的頂部可拆卸式安裝有坩堝蓋,坩堝鍋體和坩堝蓋構(gòu)成坩堝結(jié)構(gòu),所述坩堝鍋體的外緣表面上開設(shè)有氣體流通槽,氣體流通槽用于微氣流的流通,所述坩堝鍋體的內(nèi)腔中容置有碳化硅粉料,所述碳化硅粉料用于受熱后升華形成氣相組分,所述坩堝鍋體的內(nèi)緣表面可拆卸式安裝有承載架,承載架起到承載相關(guān)部件的作用,所述承載架的底面安裝有導(dǎo)流板,導(dǎo)流板用于引導(dǎo)微氣流及碳化硅粉料受熱后升華形成氣相組分的流動(dòng)方向,所述承載架的內(nèi)緣表面安裝有籽晶托架,籽晶托架用于支撐和固定籽晶,所述籽晶托架的軸心位置容置盛托有籽晶,所述籽晶用于供碳化硅粉料升華后的氣相組分凝結(jié)形成碳化硅晶體。

      3、優(yōu)選的,所述提拉器包括有立架,立架起到支撐其他相關(guān)部件的作用,所述立架的底面與碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的頂部相固定,所述立架的頂部固定安裝有伺服電機(jī),伺服電機(jī)提供升降動(dòng)作的動(dòng)力,所述伺服電機(jī)的輸出軸貫穿立架的頂部,且與立架的內(nèi)壁相轉(zhuǎn)動(dòng),所述伺服電機(jī)的輸出軸端部固定連接有絲桿,絲桿與伺服電機(jī)配合,實(shí)現(xiàn)升降動(dòng)作的傳動(dòng),所述絲桿的底部與碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的頂部相轉(zhuǎn)動(dòng),所述絲桿的外緣表面螺紋傳動(dòng)有升降板,升降板用于在絲桿作用下進(jìn)行升降運(yùn)動(dòng),所述升降板靠近立架的一側(cè)表面與立架的表面相滑動(dòng),所述立架的外緣表面上固定安裝有限位滑桿,所述限位滑桿的底部與碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的頂部相固定,所述升降板遠(yuǎn)離立架的一端內(nèi)壁與限位滑桿的外緣表面相滑動(dòng)。

      4、優(yōu)選的,所述旋轉(zhuǎn)器包括有電機(jī),電機(jī)提供旋轉(zhuǎn)動(dòng)力,所述電機(jī)的底面與升降板遠(yuǎn)離立架的一端頂部相固定,所述電機(jī)的輸出軸貫穿升降板且與升降板的內(nèi)壁相轉(zhuǎn)動(dòng),所述電機(jī)的輸出軸端部固定連接有轉(zhuǎn)桿,轉(zhuǎn)桿傳遞旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),所述轉(zhuǎn)桿的底端延伸至碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的內(nèi)部,且所述轉(zhuǎn)桿的外緣表面與碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的頂部?jī)?nèi)壁相適配滑動(dòng),所述轉(zhuǎn)桿的底部安裝有坩堝提拉架,坩堝提拉架用于提拉和固定坩堝。

      5、優(yōu)選的,所述坩堝提拉架包括有橫板,所述橫板的頂部與轉(zhuǎn)桿的底部相固定,所述橫板的外側(cè)表面固定安裝有提拉板,且所述提拉板關(guān)于橫板的中心線對(duì)稱設(shè)置,所述提拉板的內(nèi)側(cè)表面底端固定安裝有弧抓板,橫板、提拉板和弧抓板共同作用實(shí)現(xiàn)對(duì)坩堝的穩(wěn)定抓取和操作,所述弧抓板的內(nèi)緣表面上固定安裝有咬合墊塊,所述咬合墊塊的內(nèi)側(cè)表面傾斜設(shè)置,且所述咬合墊塊的內(nèi)側(cè)表面開設(shè)有弧槽,咬合墊塊和弧槽確保抓取的牢固和契合。

      6、優(yōu)選的,所述承載架包括有外環(huán)板,所述外環(huán)板的外緣表面與坩堝鍋體的內(nèi)緣表面相適配滑動(dòng),所述外環(huán)板的外緣表面上開設(shè)有疏導(dǎo)槽,疏導(dǎo)槽用于引導(dǎo)微氣流的流動(dòng),所述疏導(dǎo)槽和氣體流通槽均設(shè)置有若干個(gè),且所述疏導(dǎo)槽與氣體流通槽相對(duì)應(yīng)設(shè)置。

      7、優(yōu)選的,所述坩堝鍋體的內(nèi)緣表面上固定安裝有支撐塊,所述支撐塊設(shè)置在外環(huán)板的下方,且所述支撐塊的頂部開設(shè)有定位插槽,所述外環(huán)板的底面固定安裝有插桿,所述插桿的外緣表面與定位插槽的內(nèi)壁相適配插接,支撐塊、定位插槽和插桿共同配合起到支撐和定位的作用。

      8、優(yōu)選的,所述籽晶托架包括有撐板,所述撐板的底端與外環(huán)板的內(nèi)緣表面相固定,所述撐板遠(yuǎn)離外環(huán)板的一端固定連接有籽晶撐塊,所述撐板等間距設(shè)置,且相鄰所述撐板之間固定連接有連接板,所述籽晶撐塊的底面固定連接有承托墊環(huán),所述籽晶撐塊和承托墊環(huán)用于承托籽晶,籽晶撐塊、撐板和承托墊環(huán)用于保證籽晶的穩(wěn)定放置和良好生長(zhǎng)條件。

      9、優(yōu)選的,所述導(dǎo)流板包括有導(dǎo)流斜板,所述導(dǎo)流斜板的頂部與外環(huán)板的底面相固定,所述導(dǎo)流斜板設(shè)置有若干個(gè),相鄰所述導(dǎo)流斜板之間固定安裝有固定插板,所述導(dǎo)流斜板靠近坩堝鍋體內(nèi)緣表面的一側(cè)開設(shè)有通槽,所述導(dǎo)流斜板的頂部開設(shè)有調(diào)流槽,且所述調(diào)流槽傾斜設(shè)置,調(diào)流槽和通槽配合,對(duì)氣流進(jìn)行改向。

      10、優(yōu)選的,所述電加熱器包括有電加熱元件,所述電加熱元件的底面與機(jī)架的頂部相固定,所述電加熱元件的輸出端延伸至碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的內(nèi)部且固定連接有保溫桶,所述保溫桶的底面與碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的內(nèi)腔底面相固定,所述保溫桶位于生長(zhǎng)坩堝的下方且與生長(zhǎng)坩堝處在同一軸線上,所述保溫桶的內(nèi)部設(shè)置有電加熱線圈,且保溫桶內(nèi)部的電加熱線圈與電加熱元件的輸出端電性連接。

      11、優(yōu)選的,所述坩堝取出板包括有支撐板,所述支撐板的外緣表面與碳化硅晶體生長(zhǎng)爐的內(nèi)緣表面相滑動(dòng),所述支撐板的底面與保溫桶的頂部相滑動(dòng),所述支撐板的表面上固定安裝有拉柄,所述支撐板的頂部固定安裝有坩堝墊座,且所述坩堝墊座位于生長(zhǎng)坩堝的下方,坩堝墊座采用耐高溫材料支撐,起到保護(hù)作用。

      12、本發(fā)明提供了一種碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備。具備以下有益效果:

      13、一、該碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備,通過(guò)生長(zhǎng)坩堝盛放碳化硅粉料和籽晶,并利用提拉器使生長(zhǎng)坩堝落入電加熱器中,對(duì)生長(zhǎng)坩堝進(jìn)行加熱,再配合旋轉(zhuǎn)器的驅(qū)動(dòng),帶動(dòng)生長(zhǎng)坩堝轉(zhuǎn)動(dòng),并配合熱效應(yīng)和空氣的流動(dòng)效果,加速碳化硅粉料升華形成氣相組分并在籽晶上凝結(jié),共同形成晶塊,且通過(guò)加快碳化硅晶體的生長(zhǎng)制備,從而避免碳化硅粉料在籽晶表面形成碳包裹,造成多晶核的情況,進(jìn)而提高碳化硅晶體的制備品質(zhì)和效率。

      14、二、該碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備,通過(guò)電加熱元件產(chǎn)生熱量提高保溫桶溫度并進(jìn)行保溫,再利用伺服電機(jī)和絲桿配合使升降板下降,并使電機(jī)和轉(zhuǎn)桿下降,由坩堝提拉架咬合提拉生長(zhǎng)坩堝,將生長(zhǎng)坩堝送入保溫桶中,以提高生長(zhǎng)坩堝的溫度,輔助進(jìn)行碳化硅晶體的生長(zhǎng),利用電機(jī)和轉(zhuǎn)桿作用使坩堝提拉架和坩堝鍋體轉(zhuǎn)動(dòng),由氣體流通槽將轉(zhuǎn)動(dòng)產(chǎn)生的微氣流導(dǎo)送入坩堝鍋體中,配合承載架和導(dǎo)流板對(duì)氣流進(jìn)行變向,從而加速升華后的碳化硅粉料氣相組分在坩堝鍋體中流動(dòng)逸散,以便在籽晶上凝結(jié),實(shí)現(xiàn)碳化硅晶體的高效高品質(zhì)的生長(zhǎng)制備。

      15、三、該碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備,通過(guò)疏導(dǎo)槽與氣體流通槽的對(duì)應(yīng)設(shè)置,使氣體流通槽導(dǎo)入的微氣流經(jīng)由疏導(dǎo)槽變向,使其吹向坩堝鍋體內(nèi)部的碳化硅粉料,并且由于導(dǎo)流斜板在疏導(dǎo)槽的下方,使得氣流在導(dǎo)流斜板處分散,一部分吹向碳化硅粉料,一部分經(jīng)由通槽配合調(diào)流槽導(dǎo)送吹向籽晶托架上承載的籽晶,從而加速坩堝鍋體內(nèi)部碳化硅粉料氣相組分的快速流動(dòng)及碳化硅晶體的生長(zhǎng)。

      16、四、該碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備,通過(guò)籽晶撐塊和承托墊環(huán)對(duì)籽晶進(jìn)行承托,并將籽晶限制在坩堝鍋體的中心區(qū)域,以便在整個(gè)生長(zhǎng)過(guò)程中,維持籽晶與生長(zhǎng)界面附近的溫度階梯,避免籽晶上不同區(qū)域溫度不同而出現(xiàn)多晶核的情況,并且利用撐板及連接板的承托與連接,留出坩堝鍋體內(nèi)部碳化硅粉料氣相組分的流動(dòng)空間,從而便于碳化硅粉料氣相組分與籽晶的接觸,以提高接觸面積,確保碳化硅晶體的生長(zhǎng)體量。

      17、五、該碳化硅晶體生長(zhǎng)設(shè)備,通過(guò)支撐板和坩堝墊座配合,可對(duì)生長(zhǎng)坩堝進(jìn)行承托,利用提拉器對(duì)電機(jī)的提拉作用,使轉(zhuǎn)桿和坩堝提拉架在碳化硅晶體生長(zhǎng)爐上升降,配合轉(zhuǎn)桿受力提升帶動(dòng)橫板和提拉板上升,使得弧抓板和咬合墊塊與生長(zhǎng)坩堝表面貼合,可對(duì)生長(zhǎng)坩堝進(jìn)行提拉,使生長(zhǎng)坩堝脫離坩堝墊座,以使得生長(zhǎng)坩堝在坩堝取出板抽出后進(jìn)入保溫桶中對(duì)其進(jìn)行加熱實(shí)現(xiàn)碳化硅晶體的生長(zhǎng),同時(shí)利用弧槽的設(shè)置,能有效保證咬合墊塊與生長(zhǎng)坩堝間的摩擦力,進(jìn)而提高生長(zhǎng)坩堝在保溫桶中旋轉(zhuǎn)進(jìn)行碳化硅晶體生長(zhǎng)制備時(shí)的穩(wěn)定性。

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