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      具有階梯功率的四氯化硅傳導爐的制作方法

      文檔序號:8293221閱讀:342來源:國知局
      具有階梯功率的四氯化硅傳導爐的制作方法
      【技術領域】
      [0001]本發(fā)明涉及四氯化硅生產(chǎn)技術領域,特別是其加熱元件的生產(chǎn)技術。
      【背景技術】
      [0002]在四氯化硅生產(chǎn)中需要對原料進行加熱,且需要的溫度較高,傳統(tǒng)的加熱方式是采用輻射爐,但輻射爐笨重,造價高,零部件多,結構復雜,且熱利用率低。后來又改用鑄造式加熱器供熱,但加熱器均勻布置功率,這樣會使得加熱器出口溫度處的部位溫度高,最容易受損。
      [0003]傳導爐是采用加熱元件澆筑在金屬內(nèi)的方式,讓金屬鑄件整體發(fā)熱,對金屬鑄件內(nèi)腔的介質(zhì)進行熱傳導,則可以使熱利用率提高。
      [0004]現(xiàn)有以往的加熱器均勻布置功率,這樣會使得加熱器出口溫度處的部位溫度高,最容易受損。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005]本發(fā)明目的是提出一種能滿足工藝需求、節(jié)約能源的具有階梯功率的四氯化硅傳導爐。
      [0006]本發(fā)明包括介質(zhì)傳輸管,在介質(zhì)傳輸管外串聯(lián)式布置至少兩組金屬加熱板,在各金屬加熱板內(nèi)鑄有若干電加熱管,其特征在于在同一個金屬加熱板內(nèi)的各電加熱管的功率相同,不同的金屬加熱板的發(fā)熱功率不同,沿著介質(zhì)傳輸管的長度方向依次設置的金屬加熱板的發(fā)熱功率呈階梯布置。
      [0007]本發(fā)明方便制作,生產(chǎn)時在同一個金屬加熱板內(nèi)鑄入相同功率的電加熱管,在不同金屬加熱板內(nèi)鑄入不同功率的電加熱管,以使各金屬加熱板具有不同的熱輸出功率,使整個傳導爐具有階梯功率,可使介質(zhì)進口處加熱器功率大,低溫介質(zhì)帶走的熱量多,隨著介質(zhì)溫度的升高,加熱器的功率在降低,帶走的熱量減少,保證加熱器本體的溫度均勻,還可大大提高加熱器的使用壽命,不會出現(xiàn)局部過熱而損壞加熱器。
      【附圖說明】
      [0008]圖1為本發(fā)明的一種結構示意圖。
      [0009]圖2為電加熱管的結構示意圖。
      【具體實施方式】
      [0010]如圖1所示,本發(fā)明在一根介質(zhì)傳輸管I外串聯(lián)式布置十組金屬加熱板2。在同一個金屬加熱板2內(nèi)的各電加熱管3的功率相同,不同的金屬加熱板2的發(fā)熱功率不同。
      [0011]在各金屬加熱板2內(nèi)鑄有的若干電加熱管3如圖2所示,電加熱管3內(nèi)發(fā)熱元件為電熱絲4,在每一根電加熱管3的金屬管5內(nèi)于發(fā)熱區(qū)通過絕緣填充料6支撐有均勻布置的電熱絲4。
      [0012]在圖1中,沿著介質(zhì)傳輸管I的長度方向自左向右依次設置的金屬加熱板2的發(fā)熱功率呈由大變小的階梯布置。
      【主權項】
      1.具有階梯功率的四氯化硅傳導爐,包括介質(zhì)傳輸管,在介質(zhì)傳輸管外串聯(lián)式布置至少兩組金屬加熱板,在各金屬加熱板內(nèi)鑄有若干電加熱管,其特征在于在同一個金屬加熱板內(nèi)的各電加熱管的功率相同,不同的金屬加熱板的發(fā)熱功率不同,沿著介質(zhì)傳輸管的長度方向依次設置的金屬加熱板的發(fā)熱功率呈階梯布置。
      【專利摘要】具有階梯功率的四氯化硅傳導爐,涉及四氯化硅生產(chǎn)技術領域,在介質(zhì)傳輸管外串聯(lián)式布置至少兩組金屬加熱板,在各金屬加熱板內(nèi)鑄有若干電加熱管,在同一個金屬加熱板內(nèi)的各電加熱管的功率相同,不同的金屬加熱板的發(fā)熱功率不同,沿著介質(zhì)傳輸管的長度方向依次設置的金屬加熱板的發(fā)熱功率呈階梯布置。本發(fā)明方便制作,使整個傳導爐具有階梯功率,可使介質(zhì)進口處加熱器功率大,低溫介質(zhì)帶走的熱量多,隨著介質(zhì)溫度的升高,加熱器的功率在降低,帶走的熱量減少,保證加熱器本體的溫度均勻,還可大大提高加熱器的使用壽命,不會出現(xiàn)局部過熱而損壞加熱器。
      【IPC分類】C01B33-107
      【公開號】CN104609427
      【申請?zhí)枴緾N201510077546
      【發(fā)明人】夏鑫, 苗紹良, 許順海
      【申請人】揚州市優(yōu)珂電氣有限公司
      【公開日】2015年5月13日
      【申請日】2015年2月13日
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