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      刻劃頭以及刻劃裝置的制造方法

      文檔序號(hào):8932522閱讀:468來(lái)源:國(guó)知局
      刻劃頭以及刻劃裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種用于在基板上形成劃線的刻劃頭以及具有刻劃頭的刻劃裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]以往,玻璃基板等脆性材料基板的切斷是通過(guò)在基板表面形成劃線的刻劃步驟、以及沿著所形成的劃線對(duì)基板表面施加特定的力的斷裂步驟而進(jìn)行。在刻劃步驟中,使刻劃輪的刀尖一邊壓抵在基板表面,一邊沿著特定的線移動(dòng)。為了形成劃線,使用具有刻劃頭的刻劃裝置。
      [0003]刻劃裝置包含例如載置基板的平臺(tái),使刻劃頭相對(duì)于載置在該平臺(tái)上的基板沿水平方向及上下方向移動(dòng)。在刻劃頭的下端安裝著輪保持器,具有刀尖的刀輪以相對(duì)于該輪保持器自由旋轉(zhuǎn)的方式被保持(例如參照專利文獻(xiàn)I)。由外殼包圍輪保持器的升降機(jī)構(gòu)的周圍的構(gòu)成也已眾所周知(專利文獻(xiàn)2)。
      [0004][【背景技術(shù)】文獻(xiàn)]
      [0005][專利文獻(xiàn)]
      [0006][專利文獻(xiàn)I]日本再公表專利W02005/063460號(hào)公報(bào)
      [0007][專利文獻(xiàn)2]日本專利特開(kāi)2013-23404號(hào)公報(bào)

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0008][發(fā)明要解決的問(wèn)題]
      [0009]通常來(lái)說(shuō),在刻劃裝置中,當(dāng)形成劃線時(shí)會(huì)由基板產(chǎn)生微小的碎玻璃(碎肩)。如果碎玻璃混入到刻劃頭的機(jī)構(gòu)部,則有刻劃頭的動(dòng)作變得不穩(wěn)定的擔(dān)憂。特別是,如果碎玻璃混入到用以使刀輪升降的驅(qū)動(dòng)部分,則有妨礙刀輪精確地升降而影響刻劃動(dòng)作的擔(dān)憂。
      [0010]鑒于該問(wèn)題,本發(fā)明的目的在于提供一種能夠抑制碎玻璃混入到刻劃頭的機(jī)構(gòu)部的刻劃頭以及刻劃裝置。
      [0011][解決問(wèn)題的技術(shù)手段]
      [0012]本發(fā)明的第一態(tài)樣涉及一種刻劃頭。第一態(tài)樣的刻劃頭包含:機(jī)構(gòu)部,一端具有刀具保持器,并且使該刀具保持器升降;壁部,將供所述機(jī)構(gòu)部配置的空間劃分為封閉空間;以及供氣口,設(shè)置在所述壁部,用以對(duì)所述封閉空間供給氣體。
      [0013]根據(jù)本實(shí)施方式的刻劃頭,如果從供氣口供給氣體而使封閉空間相對(duì)于外部大氣成為正壓,則會(huì)從封閉空間的間隙向外部噴出氣體。因此,可防止刻劃動(dòng)作時(shí)由基板產(chǎn)生的碎玻璃從封閉空間的間隙進(jìn)入到封閉空間內(nèi)。由此,可抑制碎玻璃混入到刻劃頭的機(jī)構(gòu)部。
      [0014]在第一態(tài)樣的刻劃頭中,可構(gòu)成為,所述壁部包含:基座板;頂板,以連接于所述基座板的方式設(shè)置;底板,以連接于所述基座板的方式設(shè)置,與所述頂板隔開(kāi)特定間隔而對(duì)向;以及外殼,分別抵接于所述頂板、所述底板及所述基座板而形成所述封閉空間。在該構(gòu)成中,可在所述頂板與底板之間設(shè)置所述升降機(jī)構(gòu)。而且,可在所述外殼設(shè)置所述供氣口。
      [0015]在該構(gòu)成中,刻劃頭可構(gòu)成為,在所述外殼與所述頂板相互抵接的抵接部及所述外殼與所述底板相互抵接的抵接部中的至少靠近所述刀具保持器一方的抵接部,設(shè)置用以提高所述封閉空間的氣密性的密封構(gòu)件。
      [0016]在外殼與頂板相互抵接的抵接部、或外殼與底板相互抵接的抵接部,容易產(chǎn)生間隙。因此,在停止經(jīng)由供氣口供氣的情況下,容易引起碎玻璃或塵埃等從該間隙進(jìn)入到內(nèi)部的情況,而且,在供氣時(shí)也有碎玻璃或塵埃等進(jìn)入的擔(dān)心。特別是,由于靠近刀具保持器一方的抵接部靠近碎玻璃產(chǎn)生的位置,因此更容易發(fā)生碎玻璃進(jìn)入。相對(duì)于此,在所述構(gòu)成中,由于在靠近刀具保持器一方的抵接部設(shè)置密封構(gòu)件,因此至少在該抵接部幾乎不會(huì)產(chǎn)生間隙。由此,可更加抑制碎玻璃進(jìn)入到機(jī)構(gòu)部。此外,密封構(gòu)件優(yōu)選為除了設(shè)置在靠近刀具保持器一方的抵接部以外,還設(shè)置在遠(yuǎn)離刀具保持器一方的抵接部。由此,可進(jìn)一步抑制碎玻璃進(jìn)入到機(jī)構(gòu)部。
      [0017]而且,在所述構(gòu)成中,刻劃頭可構(gòu)成為,在所述外殼與所述基座板相互抵接的抵接部,設(shè)置用以提高所述封閉空間的氣密性的密封構(gòu)件。由此,可進(jìn)一步抑制碎玻璃進(jìn)入到機(jī)構(gòu)部。
      [0018]在第一態(tài)樣的刻劃頭中,所述供氣口優(yōu)選為配置在自所述壁部的所述機(jī)構(gòu)部的升降方向的中央偏向靠近所述刀具保持器一側(cè)的位置。由此,即便在靠近刀具保持器的位置、也就是靠近碎玻璃產(chǎn)生位置的位置產(chǎn)生間隙,也能夠增強(qiáng)從該間隙噴出的空氣的流動(dòng)。由此,可進(jìn)一步抑制碎玻璃進(jìn)入到機(jī)構(gòu)部。
      [0019]本發(fā)明的第二態(tài)樣涉及一種刻劃裝置。第二態(tài)樣的刻劃裝置包含:所述第一態(tài)樣的刻劃頭;支撐部,支撐切斷對(duì)象的基板;移動(dòng)機(jī)構(gòu),使所述刻劃頭相對(duì)于由所述支撐部支撐的所述基板移動(dòng);以及正壓源,連接于所述供氣口,對(duì)所述封閉空間供給氣體。
      [0020]根據(jù)本態(tài)樣的刻劃裝置,可發(fā)揮與所述第一態(tài)樣的刻劃頭相同的作用及效果。
      [0021][發(fā)明的效果]
      [0022]如上所述,根據(jù)本發(fā)明,可提供一種能夠抑制碎玻璃混入到刻劃頭的升降機(jī)構(gòu)的刻劃頭以及刻劃裝置。
      [0023]本發(fā)明的效果及意義通過(guò)以下所示的實(shí)施方式的說(shuō)明而更加明確。
      [0024]然而,以下所示的實(shí)施方式僅為實(shí)施本發(fā)明時(shí)的一個(gè)示例,本發(fā)明并不受以下實(shí)施方式中所記載的內(nèi)容任何限制。
      【附圖說(shuō)明】
      [0025]圖1是表示實(shí)施方式的刻劃裝置的構(gòu)成的示意圖。
      [0026]圖2是表示實(shí)施方式的刻劃頭的構(gòu)成的局部分解立體圖。
      [0027]圖3 (a)、(b)是表示實(shí)施方式的升降機(jī)構(gòu)與劃線形成機(jī)構(gòu)的構(gòu)成的立體圖。
      [0028]圖4(a)、(b)是表示實(shí)施方式的升降機(jī)構(gòu)與劃線形成機(jī)構(gòu)的構(gòu)成的側(cè)視圖。
      [0029]圖5是表示實(shí)施方式的劃線形成機(jī)構(gòu)下降時(shí)的刻劃頭的下部的構(gòu)成的側(cè)視圖。
      [0030]圖6是表示實(shí)施方式的刻劃頭的構(gòu)成的立體圖。
      [0031]圖7(a)、(b)是表示實(shí)施方式的刻劃裝置的主要部分構(gòu)成的框圖、及表示刻劃裝置的動(dòng)作的流程的流程圖。
      [0032]圖8是表示實(shí)施方式的刻劃頭的構(gòu)成的側(cè)視圖。
      [0033]圖9是表示實(shí)施方式的劃線形成機(jī)構(gòu)下降時(shí)的刻劃頭的下部的構(gòu)成的側(cè)視圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0034]以下,參照附圖,對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。此外,為方便起見(jiàn),在各圖中附記相互正交的X軸、Y軸及Z軸。X-Y平面平行于水平面,Z軸方向?yàn)殂U垂方向。
      [0035]在本實(shí)施方式中,平臺(tái)11相當(dāng)于權(quán)利要求書(shū)中所記載的“支撐部”,升降機(jī)構(gòu)21相當(dāng)于權(quán)利要求書(shū)中所記載的“機(jī)構(gòu)部”。而且,橡膠框26相當(dāng)于權(quán)利要求書(shū)中所記載的“密封構(gòu)件”。而且,輪保持器222相當(dāng)于權(quán)利要求書(shū)中所記載的“刀具保持器”。然而,并不因所述權(quán)利要求書(shū)與本實(shí)施方式的對(duì)應(yīng)關(guān)系而將權(quán)利要求書(shū)的發(fā)明限定于本實(shí)施方式。
      [0036]圖1是表示刻劃裝置I的構(gòu)成的示意圖。
      [0037]刻劃裝置I包含:平臺(tái)11、導(dǎo)軌12a、12b、滾珠螺桿13、柱14a、14b、導(dǎo)桿15、滑動(dòng)單元16、馬達(dá)17、CO) (Charge Coupled Device,電荷親合元件)相機(jī)18a、18b、以及刻劃頭2。
      [0038]平臺(tái)11構(gòu)成為可沿水平面旋轉(zhuǎn)。在平臺(tái)11上設(shè)置真空抽吸器件(未圖示)。真空抽吸器件將載置在平臺(tái)11的脆性材料基板G (例如玻璃板)固定在平臺(tái)11。導(dǎo)軌12a、12b支撐平臺(tái)11使之能夠沿Y軸方向移動(dòng)。導(dǎo)軌12a、12b設(shè)置為相互平行。滾珠螺桿13由馬達(dá)(未圖示)驅(qū)動(dòng),而使平臺(tái)11沿著導(dǎo)軌12a、12b移動(dòng)。
      [0039]柱14a、14b隔著導(dǎo)軌12a、12b垂直設(shè)置在刻劃裝置I的底座。導(dǎo)桿15以平行于X軸方向的方式,架
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