專利名稱：：通過還原消除相應(yīng)的4-鹵素衍生物而制備2,5-取代的四氫吡喃衍生物的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及從卣代四氫吡喃衍生物及其前體制備四氫吡喃衍生物的方法。
背景技術(shù)：
：具有四氫吡喃環(huán)作為分子的中心部分的化合物在有機化學(xué)中起重要作用，例如作為天然或合成香味物質(zhì)、藥物或者介晶(mesogenic)或液晶化合物的成分，或者作為用于合成這些有用物質(zhì)的前體。這里特別感興趣的是介晶或液晶四氫吡喃衍生物，其具有合適的(介晶)取代基，在2-和/或5-位上的環(huán)和/或環(huán)系，因為它們具有一些有利的用于液晶介質(zhì)的電光學(xué)性能和其它物理性能。因此，基本上需要極其簡單和有效的合成方法，所述合成方法另外使得可獲得結(jié)構(gòu)上非常多樣的多種2，5-二取代的四氫吡喃衍生物。另外，所述四氫吡喃衍生物應(yīng)該已經(jīng)在制備過程中完全或部分地具有所需的立體化學(xué)。這種類型的兩種已知的合成方法是基于使用所謂的烯烴易位反應(yīng)，其采用金屬-亞烷基配位催化作用。借助這些方法，可通過閉環(huán)交叉易位(DE102004021338Al)或者通過烯炔易位和任選進一步交叉易位(DE102004022891Al)獲得2,5-二取代二氫吡喃衍生物，在每種情況下都在合適的金屬卡賓配合物(金屬-亞烷基配合物)(例如GrubbsI或GrubbsII催化劑或相關(guān)的催化劑；參見，尤其是WO96/04289;WO97/06185;T.M.Trnka等人，Acc.Chem.Res.2001，34，18;S.K.Armstrong,J.Chem.Soc.，PerkinTrans.11998，371;J.Renaud等人，Angew.Chem.2000，112，3231)的存在下進行。這兩種方法分別在方案la和方案lb中概述，其中"基團"，和"基團2"各自表示合適的(介晶)取代基、環(huán)或環(huán)系。然后也可以借助于(催化)加氫從可獲得的二氫吡喃制備所需要的2，5-二取代的四氫吡喃衍生物?；鶊F11;~基團<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>^基團2方案lb.然而，這兩種合成方法由于金屬-亞烷基配合物的價格高而不總是值得采用的，并因此需要成本較低的方法。J.0.Metzger和U.Bie醒nn,Bull.Soc.Belg.，103，1994，393-397描述了氯化鋁誘導(dǎo)的甲醛向取代的烯烴上的加成反應(yīng)，形成了4-氯取代的四氫吡喃衍生物，其可隨后通過自由基方法使用Bu3SnH轉(zhuǎn)化成相應(yīng)的無S素四氫吡喃衍生物。他們公開了合成在2-和5-位上具有兩個取代基的4-氯四氫吡喃衍生物的單一例子，其需要作為起始化合物的帶有這兩個取代基的高烯丙醇。然而，此合成具有低的收斂性和發(fā)散度，并且使用二取代的高烯丙醇僅可以制備只具有非常受限的結(jié)構(gòu)范圍的2，5-二取代四氫吡喃衍生物的前體。沒有提及無卣素四氬p比喃的立體化學(xué)。E.Hanschke，Chem.Ber.88，1955，1053-1061描了未取代的高烯丙醇與甲醛在閨化氫存在下反應(yīng)，以及其與未取代的Cw烷烴基(alkanyl)醛以及與巴豆醛在氯化氫存在下在高于大氣壓的壓力下進行反應(yīng)，其中需要用于進一步反應(yīng)的4-卣素-取代的四氫吡喃衍生物僅以低收率非選擇性地伴隨著其它產(chǎn)物獲得。使用K0H將2-甲基-4-氯四氫吡喃脫卣化氫得到2-甲基二氫吡喃。
發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的目的是指出制備四氫吡喃衍生物的簡單和有效的方法，所述四氫吡喃衍生物自身可以用作合成(其它)介晶或液晶型2，5-二取代四氫吡喃衍生物的起始化合物。另外，在所述制備過程中，所述四氫吡喃衍生物應(yīng)當(dāng)已經(jīng)完全或部分地具有所需的反式立體化學(xué)。根據(jù)本發(fā)明通過制備式I的四氫吡喃衍生物的方法達到了這個目的A屮A考A24^^JVfz考Z"4廿z5—i其特征在于，將式II的四氫吡喃衍生物L(fēng)。進行取代基X'的還原消除，以得到式I的四氫吡喃衍生物或其前體，其中，在式I和II中，a、b、c、d、e和f;f皮jt匕《蟲立地表示0或1,其中a+b+c+d+e+f等于0、1、2、3或4;R'在每種情況下獨立地表示H、卣素、-CN、具有1至15個C原子的烷基，該烷基是未取代的或者被-CN單取代或者被卣素單或多取代，其中另外地，在這些基團中的一個或多個CH2基團可以各自彼此獨立地被-C^C-、-CH=CH-、-0-、-S-、-S0-、-SO廣、-CO-0-或-0-C0-以在所述鏈中的氧原子彼此不直接相連的方式替代；R'在每種情況下獨立地表示H、面素、-CN、-NCS、-N02、-OH、-SF5、-0-芳烷基、具有1至15個C原子的烷基，該烷基是未取代的或者被-CN單取代或者被卣素、0H或-0-芳烷基單或多取代，其中另外地，在這些基團中的一個或多個CH2基團可以各自彼此獨立地被-C三C一、—CH=CH-、-O一、-S-、-SO一、-SO廣、-CO—、一C0-0-或—0-C0—以在所述鏈中的氧原子彼此不直接相連的方式替代；A1、A2、A3、A4、A5和A6各自彼此獨立地，也經(jīng)旋轉(zhuǎn)或成鏡像地，表示Zi表示單鍵、具有1至6個碳原子的亞烷基橋，該亞烷基橋是未取代的或者被F和/或Cl單或多取代，或者表示-CH20-、-0CH2-,并且，如果A'不是亞環(huán)己基或亞環(huán)己烯基環(huán)，則Z'也可以表示-CF20-;Z2表示單鍵、具有1至6個碳原子的亞烷基橋，該亞烷基橋是未取代的或者被F和/或Cl單或多取代；Z3、Z4、Z5和Z6各自彼此獨立地表示單鍵、具有1至6個碳原子的亞烷基橋，該亞烷基橋是未取代的或者被F和/或Cl單或多取代，或者表示-0120-、-OCH廣、-CF20-，其中-CF20-橋不通過其0原子直接連接至亞環(huán)己基或亞環(huán)己烯基環(huán)上；nl、n2和n3各自彼此獨立地為0、1、2、3或4;Y1、Y2、Y3、Y4、丫5和Y6各自彼此獨立地表示H、卣素、-CN、Ch烷烴基、Ch歸基、C2—6炔基、-0CH烷烴基、-OCh蹄基或-OCw炔基，其中脂肪族基團是未取代的或者被卣素單或多取代；優(yōu)選H或F;和W'表示-CH廣、-CF廣或-O-；和在式II中X〗表示氯、溴或碘；其中式II的化合物不是4-氯-2-己基-5-(7-曱氧基羰基庚基)四氫吡喃。特別地，所述方法包括直接從式II的衍生物制備式I的衍生物，即式II的衍生物還原消除得到式I的衍生物。然而，在廣義上其還包括制備式I的用于液晶混合物的液晶化合物和介晶組分，其以基本上已知的方式從所述直接消除的產(chǎn)物形成。本發(fā)明的用于制備式I的衍生物的方法因此包括至少一個或兩個方法步驟，所述步驟的特征在于從式II化合物還原消除取代基X1，其中由于借助于原則上已知的反應(yīng)的衍生化，所述四氫吡喃環(huán)的其它取代基可以具有不同的含義。在所述兩個式I和II中的基團R1、R2、A1—6、Z1—6、a-f因此可具有相同或不同的含義。所述還原消除自身可在一步中進行或在兩步中通過將取代基X1的消除和隨后的還原所形成的二氫吡喃的雙鍵相結(jié)合而進行。為了簡化，在式I和II中的四氫吡喃環(huán)位置的編號一除非另外明確指明一在本說明書中如下所示本發(fā)明的方法使得可以借助易于獲得的和廉價的試劑，以簡單的方式、良好的收率和高的化學(xué)和立體選擇性，從式II的閨代四氫吡喃衍生物開始獲得式I的四氬吡喃衍生物。式I的四氬吡喃衍生物自身可用于制備其它介晶或液晶型四氫吡喃衍生物。在其它情況下，式I的衍生物已經(jīng)是對于所述應(yīng)用，例如對于液晶組分所需的化合物。這里有利的是所述方法的產(chǎn)物易于純化，因為沒有形成難以除去的副產(chǎn)物。除了主要的四氫吡喃環(huán)以外，可通過本發(fā)明的方法制備的式I化合物還可以沒有其它環(huán)或者具有一個、兩個、三個或四個其它環(huán)(或環(huán)系)，即，指數(shù)a、b、c、d、e和f的總和等于0、1、2、3或4。(a+b+c+d+e+f)優(yōu)選>1，特別是l、2或3,和非常特別是1或2。在此優(yōu)選式II的卣4、四氫吡喃4汙生物以及式I的四氫吡喃4汙生物沒有環(huán)或在5-位上具有一個環(huán)，即，a+b優(yōu)選為G或l。另外，優(yōu)選式II的四氫吡喃衍生物以及式I的四氬吡喃衍生物沒有另外的環(huán)或在2-位上具有一個、兩個或三個另外的環(huán)，即，c+d+e+f等于0、1、2或3，特別是1或2。f優(yōu)選是H、烷烴基、烯基、烷氧基或烯氧基，其中每一個具有l(wèi)至10個碳原子并且是未取代的或者被一個或多個氟和/或氯原子取代，并且一如果a和/或b為l一還可以是氯、氟或溴。R'特別優(yōu)選表示H、烷烴基或烷氧基，其中每一個具有1至8個碳原子并且是未取代的或者被一個或多個氟和/或氯原子取代，特別地，是具有1、2、3、4、5或6個碳原子的直鏈烷烴基，其是未取代的或者被一個或多個氟原子取代。R2優(yōu)選是H、Cl、F、Br、-0H、-CO廣C卜6-烷烴基、-0-芳烷基、-CH(CH20-"保護基團")2或烷烴基、烯基、烷氧基或烯氧基，其中每一個具有1至8個碳原子并且是未取代的或者被一個或多個氟原子、氯原子或0H基取代，特別優(yōu)選F、Cl、-OH、-C0廠CH-烷烴基、-0CH2-苯基、-CH(CH2OCH2-芳基)2、-CH(CH20H)2或烷烴基或烷氧基，其中每一個具有1至8個碳原子并且是未取代的或者被一個或多個氟和/或氯原子取代，和特別是F，Cl,-C0廣曱基、-乙基、-正丙基、-異丙基、-正丁基、-叔丁基或-正己基，-0CH2-苯基，-CH(CH20CH2-苯基)2，或具有1、2、3、4、5或6個碳原子的直鏈烷烴基或烷氧基，其中每一個是未取代的或者被一個或多個氟原子取代。W和R2還包括通過由所迷元素對CH2基團的多重取代形成的基團，如果它們是常規(guī)的，例如，對于R2還包括芳基磺酸酯-0(S02)-Ar或-0(S02)-CH3,其在隨后的合成中用作保護基團或作為離去基團。烷基的所有CH2基團也可以被所指出的基團取代。對于此目的，直接的S-S鍵和-S-O-鏈通常是較不常規(guī)的，并且優(yōu)選不是W或f基團的一部分。在其中(a+b)-O的情況下，f優(yōu)選不表示氫、鹵素或CN。在其中(c+d+e+f)=0的情況下，112優(yōu)選不表示氫、-CN、-NCS、-N02、-0H、-SF5、-O-芳烷基或烷氧基。環(huán)Ai和A2優(yōu)選彼此獨立地表示1，4-亞環(huán)己基或表示1，4-亞苯基，其任選被1至4個氟原子取代，和特別優(yōu)選表示環(huán)A3、A4、A5和A6優(yōu)選彼此獨立地表示1，4-亞環(huán)己基或表示1，4-亞苯基，其任選被0至4個氟原子取代，和特別優(yōu)選表示Zi和Z2優(yōu)選彼此獨立地表示單鍵或具有2、4或6個碳原子的亞烷基橋，其也可以被一個或多個氟原子取代。Zi和Z2特別優(yōu)選都是單鍵。Z3、Z4、Z5和Z6優(yōu)選彼此獨立地表示單鍵、-CH20-或-CF20_，其中-CF20-橋優(yōu)選不通過其0原子直接連接至亞環(huán)己基或亞環(huán)己烯基環(huán)。它們特別優(yōu)選彼此獨立地是單鍵、-CF20-或-CH力-,非常特別優(yōu)選在每種情況下，Z3、Z4、Z5和Z。中僅有一個不是單鍵。在其中橋連單元Z3、Z4、Z5或^包含氧原子的情況下，其優(yōu)選不直接鍵接至在式I或II中的四氫吡喃環(huán)上。相應(yīng)的情況適用于制備式II化合物的原料。根據(jù)本發(fā)明的還原消除方法從式II的鹵代四氫吡喃4汙生物開始進行。在此X)表示氯、溴或碘，優(yōu)選氯或溴，并尤其是溴。特別優(yōu)選的式II化合物選自式II-l至II-5的化合物:在本發(fā)明方法優(yōu)選的實施方案中，為了得到I而進行的II的還原消除通過自由基鏈?zhǔn)椒磻?yīng)發(fā)生，在該過程中一形式上考慮一在式I的四氫吡喃衍生物中的卣素原子X'被抽出并被氫原子替代。在此，待反應(yīng)的式II化合物中的X'特別優(yōu)選是溴或氯，特別是溴。本發(fā)明的還原消除的這種實施方案優(yōu)選在有機錫氫化物或有機硅氫化物的存在下進行。在此優(yōu)選的有機錫氫化物是三烷基錫氫化物和烷基二芳基錫氫化物，特別優(yōu)選三烷基錫氫化物，特別是三正丁基錫氫化物(Bu3SnH)。典型地，使用基于待還原的式I化合物計的1至10當(dāng)量和優(yōu)選2至4當(dāng)量的所述錫氫化物。進一步優(yōu)選使用結(jié)合于固體載體，優(yōu)選固體有機載體上的有機錫氫化物；非常特別優(yōu)選的結(jié)合于固體載體上的有機錫氫化物是通過Bu2SnHLi(Bu-正丁基)(原位形成的)與a-卣代烷基聚苯乙烯的反應(yīng)獲得的那些(參見例如，U.Gerigk等人，Synthesis1990，448-452，和G.D腿rtin等人，Synlett1994，952-954)。結(jié)合于固體載體上的有機錫氫化物通常的用量為基于式II化合物計的2至4當(dāng)量。優(yōu)選的有機硅氫化物是取代的硅烷，特別優(yōu)選是三(三烷基甲硅烷基)硅烷，特別是三(三曱基甲硅烷基)硅烷(TTMSS)(參見例如，M.Ballestri等人，J.Org.Chem.1991，56，678-683)。所述有機硅氫化物通常的用量為基于待還原的式II化合物計的1至3當(dāng)量，優(yōu)選1.1至1.5當(dāng)量。非常特別優(yōu)選與其它還原劑組合使用TTMSS，所述其它還原劑例如是復(fù)合金屬氫化物，例如硼氫化鈉，NaBH,(參見例如，M.Lesage等人，TetrahedronLett.1998，第30巻，2733—2734)。該方法變體允許使用欠化學(xué)計量用量的實際還原劑TTMSS，其通過硼氫化鈉在反應(yīng)循環(huán)過程中再形成；因此可以通過使用較不昂貴的NaBH4節(jié)省大量的相對昂貴的TTMSS。典型的混合比例是2至IO倍量，優(yōu)選約5倍量的NaBH,，和5-20mol%，優(yōu)選約10mo"/。的TTMSS，在每種情況下都基于式II的化合物。使用有機錫氫化物或有機硅氫化物的本發(fā)明這種優(yōu)選的實施方案通常在至少一種自由基鏈?zhǔn)椒磻?yīng)引發(fā)劑("自由基引發(fā)劑")，例如合適的偶氮或過氧化合物，例如AIBN(2，2，-偶氮雙異丁腈)或叔丁基過氧化氫的存在下，在UV光的存在下進行。所述自由基引發(fā)劑以用于該類反應(yīng)的常用量，優(yōu)選以1至20mol。/。的量使用。另選地或者除了自由基引發(fā)劑之外，所述反應(yīng)還可以通過UV輻射的作用而引發(fā)。用于本發(fā)明的這種優(yōu)選實施方案的合適的溶劑是烴，例如庚烷、苯、二甲苯和醚，例如二甲氧基乙烷或甲氧基乙醇。所述反應(yīng)通常在20至14(TC下進行。反應(yīng)持續(xù)時間通常為2至24小時。在本發(fā)明的進一步優(yōu)選的實施方案中，在式II中的乂1是溴，并且所述還原消除通過在氫化催化劑和堿，優(yōu)選胺的存在下與氫氣反應(yīng)而進行。所述氫化催化劑是均相催化劑(例如Pd(0)或Pd(II)或Ni(O)或Ni(n)與烷基取代的和/或芳基取代的膦或亞磷酸酯配體形成的配合物)或優(yōu)選是非均相過渡金屬催化劑。所述氫化催化劑特別優(yōu)選是非均相鈀、鉑或鎳催化劑，特別是鈀。特別優(yōu)選在碳上的鈀或在氧化鋁上的鈀，特別是在碳上的鈀。所述堿優(yōu)選是氮堿或者是胺，特別是叔胺。所述胺優(yōu)選是三烷基胺，特別優(yōu)選是二異丙基乙胺或三乙胺，特別是三乙胺。所述反應(yīng)在3至20倍量的THF下，在氫氣壓力為1至50巴下，在1至24小時內(nèi)，在約20至約120。C的溫度下進行。在這種優(yōu)選的實施方案的情況下，根據(jù)本發(fā)明的還原消除的進行，在給定基團和取代基的適當(dāng)選擇下，不僅導(dǎo)致囟化四氫吡喃環(huán)轉(zhuǎn)化成相應(yīng)的脫卣化四氫吡喃環(huán)，而且導(dǎo)致還原除去某些保護基團。這尤其適用于其中f表示0-芳烷基的式I化合物，所述0-芳烷基特別是任選取代的0-節(jié)基基團。上述提及的本發(fā)明兩種優(yōu)選實施方案的突出之處尤其在于，為得到式I的四氫吡喃纟汙生物而進行的式I的四氫吡喃衍生物的還原消除在保留所述四氫吡喃環(huán)的2-和5-位上的取代基的構(gòu)型的情況下進行。因此，其中在2-、4-和5-位上的所有三個取代基都是平伏對齊排列，使得在2-位上的取代基與5-位上的取代基成反式排列的式I的卣化的四氫吡喃，在保留立體化學(xué)的情況下，得到相應(yīng)的具有反式-2,5-二取的式I的四氫吡喃4汙生物。在本發(fā)明進一步優(yōu)選的實施方案中，為得到式I的四氫吡喃衍生物而進行的式I化合物的還原消除分兩步進行，其中，在第一步(A)中，將式II的四氬吡喃衍生物轉(zhuǎn)化成二氬吡喃衍生物，特別是式IIIa和/或IIIb的二氫吡喃衍生物其中a、b、c、d、e、f、R1、R2、A1、A2、A3、A4、A5、A6、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6如上述對于式I和II所定義；和，在第二步(B)中，將以此方式形成的二氫吡喃衍生物或二氬吡喃4汙生物的混合物轉(zhuǎn)化成式I的四氫吡喃4汁生物。利用強堿進行1^從式I的四氫吡喃衍生物上的消除(脫卣化氫)。合適的堿已經(jīng)證明尤其是醇鹽，例如堿金屬醇鹽，例如乙醇鈉或叔丁醇鉀，和強的非離子型氮堿，其尤其具有pKa值〉20。這些強的非離子型氮堿的例子是由J.G.Verkade，TopicsinCurrentChemistry220，3-44提及的那些，尤其是1，5-二氮雜雙環(huán)[4.3.0]壬-5-烯(DBN);1，8-二氮雜雙環(huán)[5.4.0]十一碳-7-烯(DBU);以及1，1，3，3-四甲基胍(TMG)，7-甲基-1，5，7-三氮雜雙環(huán)[4.4.0]癸-5-烯(MTBD)和2，8，9-三異丙基-2，5，8，9-四氮雜-1-磷雜雙環(huán)[3.3.3]十一烷(TTPU)(同樣參見S.Ar麵gam,J.G.Verkade，J.Org.Chem.1997，62,4827)。所述消除優(yōu)選在合適的惰性溶劑中或在溶劑混合物中進行，例如在芳香烴，例如甲苯，或者醚，例如l，4-二氧六環(huán)，二甲氧基乙烷和四氫呋喃中。特別優(yōu)選使用非極性溶劑。所述反應(yīng)通常在室溫至沸點之間的溫度下進行，優(yōu)選在約60。C至沸點的升高的溫度下進行，特別優(yōu)選約8(TC至沸點。所述第一步(A)的反應(yīng)持續(xù)時間通常為約1h至約48h,優(yōu)選為約4h至約16h。當(dāng)進行本發(fā)明的這種優(yōu)選實施方案的步驟(A)時，通常形成式IIIa和IIIb這兩種二氫吡喃衍生物的混合物，在多數(shù)情況下以異構(gòu)體比例為約2:1形成。其它的異構(gòu)體通常一如果它們確實形成一以次要的量形成。盡管異構(gòu)體原則上可利用常規(guī)分離方法，例如色譜法進行分離，然而在步驟(B)中的進一步反應(yīng)之前，其通常不進行。根據(jù)本發(fā)明的這種實施方案可獲得的式IIIb的化合物，關(guān)于所述四氫吡喃環(huán)的2-和5-位上的取代基的構(gòu)型方面，具有與式II的起始化合物相同的構(gòu)型。因此，具有全平伏排列的式II的四氫吡喃衍生物容易得到相應(yīng)的式IIIb的反式2，5-二取代四氫吡喃衍生物。用于形成式I的四氫吡喃衍生物的步驟(B)采用催化氫化進行。在此氫化可以采用均相催化或采用非均相催化進行。關(guān)于式IIIb的二氬吡喃衍生物，所述氫化自身和對進行所述氫化所采用的條件的選擇對于在所述雜環(huán)的2-和5-位上的取代基的立體化學(xué)定向沒有影響。因此，通常和優(yōu)選存在的式IIIb的反式-2，5-二取代化合物，在保留立體化學(xué)的情況下，得到相應(yīng)的式I的反式-2,5-二取代四氫吡喃。然而，關(guān)于式IIIa的二氫吡喃4汙生物，用于形成式I的四氫吡喃^f汙生物的另外的反應(yīng)操作過程通常對在彼此相關(guān)的氧雜環(huán)的2-和5-位上的取代基的排列具有影響。因此，例如在非均相鈀、鉑或鎳催化劑上進行的非均相催化的氫化反應(yīng)，通常主要或唯一地產(chǎn)生式I的順式-2，5-構(gòu)型的四氫吡喃。其異構(gòu)化，例如使用強堿，例如叔丁醇鉀，使用酸或使用含氟根的化合物，例如CsF或四丁基氟化銨，使得可以獲得希望的式I的2，5-反式構(gòu)型的異構(gòu)體。如果，相反地，采用均相催化進行所述氫化反應(yīng)，例如在Wilkinson催化劑，氯代三(三苯基膦)銠(I)(CI-Rh[P(C6H5)3]3)的存在下，在氫氣壓力為10至100巴下，在溫度為約8(TC至約12(TC下，反應(yīng)持續(xù)時間為約6至約48小時，在合適的溶劑中(例如曱苯)中進行(參見德國專利申請DE102004036068Al)，所需要的式I化合物的2，5-反式異構(gòu)體以過量獲得一通常以反式異構(gòu)體與順式異構(gòu)體的比例為約3:1。因此可以良好的收率獲得所需要的式I的反式-2,5-二取代的四氫吡喃衍生物。本發(fā)明進一步優(yōu)選的實施方案涉及式II的鹵代四氫吡喃衍生物的制備，所述式II的閨代四氫吡喃衍生物隨后被轉(zhuǎn)化成所需的式I的四氫吡喃衍生物，其特征在于式II的化合物通過式IV的高烯丙醇與式V的醛或其縮醛或水合物，在包含至少一個氯、溴或碘原子的至少一種Lewis酸的存在下和/或在包含至少一個氯、溴或碘離子的Br6nsted酸的存在下反應(yīng)而獲得，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>IV<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>V其中在式IV和V中的a、b、c、d、e、f、R1、R2、A1、A2、A3、A4、A5、A6、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6如上述對于式I所定義。所述酸和各自的卣素原子或其卣離子的特定選擇確定了在式II中X〗的含義；例如，如果所用的Lewis酸包含氯原子，如在AlCl3中那樣，則乂1將是氯，而如果所用的Br6nsted酸是HBr,則X'是溴。本發(fā)明的這種實施方案可在包含至少一個氯、溴或碘原子的至少一種Lewis酸的存在下，或在包含至少一個氯、溴或碘陰離子的至少一種Br6nsted酸(質(zhì)子酸)的存在下，或在至少一種如上定義的Lewis酸與至少一種如上定義的Br6nsted酸的混合物的存在下進行。本發(fā)明的實施方案可利用一種或多種不同的Lewis酸和/或Br6nsted酸進行，優(yōu)選采用不多于三種不同的酸。特別優(yōu)選在本發(fā)明的方法中，僅使用一種Lewis酸或Br6nsted酸或者Lewis酸和Br6nsted酸的混合物。上下文中提及"酸"因此是指一除非另外指明一既使用單一的酸，又使用多種不同的酸。在使用多于一種酸的情況下，多種酸的選擇不受特別限制，只要它們彼此化學(xué)相容并且不會導(dǎo)致任何不希望的副反應(yīng)。在本發(fā)明這種實施方案的第一個優(yōu)選變體中，式IV的高烯丙醇與式V的醛的反應(yīng)在至少一種包含至少一個氯、溴或》典原子的Lewis酸存在下進行。優(yōu)選所述Lewis酸在每種情況下，除了存在的任何非鹵素基團或配體外，只包含這些閨素原子中的一種類型，即，或者只包含氯原子，或者只包含溴原子，或者只包含碘原子。式I的四氫吡喃衍生物的卣素取代基X1對應(yīng)于所述至少一種Lewis酸的這個卣素原子。所述Lewis酸非常特別優(yōu)選包含溴原子。所述至少一種Lewis酸優(yōu)選選自式M(X》。和R3M(X。h的化合物，其中M表示B、Al、In、Ga、In、Sn、Ti、Fe、Zn、Nb、Zr、Au和Bi;X'表示Cl、Br或I;f表示具有1至10個碳原子的直鏈或支鏈烷基；和n是2、3、4或5的整數(shù)并以其等于M的形式氧化數(shù)的方式選擇。這些Lewis酸的例子是二異丁基氯化鋁和Bm(X')3、AT"(X1)3、Gam(X1)3、In111(X1)3、SnIV(X1)4、TiIV(X1)4、Fe111(X1)3、Zn11(X1)2、ZrIV(X1)4、NbV(X1)5、Au出(X"3和Bi出(X1)3，其中X是氯、溴或碘，優(yōu)選氯或溴，并且特別是溴。溴可以比氯更容易地消除。所用Lewis酸的精確用量可以在寬范圍內(nèi)變化并尤其取決于一特別是關(guān)于最小用量一每個Lewis酸分子中存在的鹵素原子t的數(shù)目。因此，在原子M的形式氧化數(shù)為4(IV)的Lewis酸的情況下，基于待反應(yīng)的式IV的高烯丙醇計少至25mol%,可能足以確保反應(yīng)物轉(zhuǎn)化完全。通常，所述Lewis酸的用量為約20mo"/。至約300mol%，優(yōu)選約34mo"/。至約250mol%，和特別優(yōu)選約50mol。/。至約200mol%，其中在每種情況下所述用量數(shù)據(jù)基于式IV的高烯丙醇計。反應(yīng)溫度通常為約-80'C至約+40'C，其中反應(yīng)溫度的精確選擇也取決于所選擇的各Lewis酸的性質(zhì)。因此，優(yōu)選的溫度范圍對于卣化硼為-70。C至-40。C，對于A1、In、Sn和的卣化物為-50°C至(TC，和對于Zn和Bi的卣化物為(TC至+40'C。反應(yīng)時間通常為1至72小時，優(yōu)選2至36小時，并特別優(yōu)選4至24小時。根據(jù)本發(fā)明的反應(yīng)可通過向溶解或懸浮于合適溶劑中的式IV的高烯丙醇和式V的醛的混合物中加入作為固體或在溶液中的Lewis酸而進行；或者，也可以將所述Lewis酸初始引入并然后，例如相繼地，力口入所述醛和所述高烯丙醇，或反之亦然。所述至少一種Lewis酸特別優(yōu)選是式M(X1)n的化合物，其中M是B、Al、Fe、Zn或Bi，并且X'尤其表示Br。特別地，所述Lewis酸是AlBr3、ZnBr2或BiBr3。在本發(fā)明這種實施方案的另外優(yōu)選的變體中，本發(fā)明的方法在包含至少一個氯、溴或^f典陰離子的Br6nsted酸的存在下進^f亍。該Br6nsted酸的例子是氯化氫、溴化氫和碘化氫。所述Br6nsted酸可例如作為氣體形式使用，其被通入到例如在合適溶劑中的包含本發(fā)明方法的其它反應(yīng)物的混合物中；或者，也可以使用包含所述Br6nsted酸的溶液，例如在冰醋酸中的HBr。用于本發(fā)明方法中的Briinsted酸特別優(yōu)選溴化氫。所述Br6nsted酸一特別是如果它是氫卣酸一以化學(xué)計量或超化學(xué)計量的量使用(基于式IV的高烯丙醇)，優(yōu)選用量為約100mol。/。至約350mol%，特別優(yōu)選約100mol。/。至約225mol°/。，和特別是不多于約150mol°/。。在該實施方案中的反應(yīng)溫度通常為約(TC至約+70。C，優(yōu)選約10。C至約40。C和特別優(yōu)選約室溫(18-25°C)。反應(yīng)時間通常為1h至72h,優(yōu)選2h至36h，和特別優(yōu)選4h至24h，并且還受所選擇的溶劑影響例如，所述反應(yīng)在冰醋酸中比在水中通常進行得更快。本19發(fā)明的反應(yīng)可以通過向溶解或懸浮于合適溶劑中的式IV的高烯丙醇和式V的醛的混合物中加入作為溶液形式的Br6nsted酸而進行；或者，所述Br6nsted酸也可以作為氣體形式通入。在本發(fā)明這種實施方案的另外優(yōu)選的變體中，式IV的高烯丙醇與式V的醛的反應(yīng)在至少一種Lewis酸和至少一種Br6nsted酸的混合物存在下進行。這些酸以它們彼此化學(xué)相容并且不導(dǎo)致不希望的副反應(yīng)的方式選擇。有利的是，所述Lewis酸包含與所述Br貼sted酸相同的卣素原子，即，例如，除了氫溴酸外，還采用式M(Brh的Lewis酸溴化物。優(yōu)選的組合是HBr與BiBr3或AuBr3。如果所述反應(yīng)以相應(yīng)的方式進行(即，反應(yīng)溫度為約(TC至約50°C，和Br6nsted酸與Lewis酸的摩爾比為約100:約0.5:約2)，所述Lewis酸可以容易地包含不同于所述Briinsted酸的卣素原子，如例如在FeCh與HBr的組合的情況下那樣。通過這種方法變體制備的式II化合物這樣就包含所述Br6nsted酸的卣素作為X1，因此X'在采用FeCl3與HBr的所述例子中是Br。原則上，所述Lewis酸和Br6nsted酸可以以彼此之間4壬4可所需的混合比例一使用。然而，優(yōu)選所述Lewis酸相對于所述Br6nsted酸的用量為約0.1moP/。至約20mol%，特別優(yōu)選約0.3mol。/D至約10mol%,和特別是約Q.5mol。/。至約2mol%。所述Br6nsted酸在此優(yōu)選以相對于式IV的高烯丙醇計至少化學(xué)計量(約100mol%)至超化學(xué)計量(約350mol%)的量使用。在本發(fā)明的這種變體中的反應(yīng)溫度通常在約-IO。C至約+70。C。優(yōu)選首先初始引入在合適溶劑中的式V的醛和式IV的高烯丙醇，并在約-10。C至約+35。C下加入所述Lewis酸；隨后將所述Br6nsted酸在約(TC至約+5(TC下一優(yōu)選釆用外部冷卻一作為氣體形式通入，直至反應(yīng)介質(zhì)飽和。還可以使用合適的Br6nsted酸的溶液。反應(yīng)時間通常為幾分鐘至24小時，優(yōu)選10min至6h，和特別優(yōu)選15min至3h。原則上，在每個變體中，式IV的高烯丙醇和式V的醛的反應(yīng)可以沒有溶劑的方式進行，并優(yōu)選在溶劑或溶劑混合物中進行。在此合適的溶劑是那些自身不起到酸的作用，或者僅在輕微程度上起到酸的作用的溶劑，并且對所用的酸是惰性的。介質(zhì)的精確選擇特別取決于所述反應(yīng)物的溶解特性并取決于所述酸。合適的溶劑，其可單獨或以2種或3種溶劑的混合物形式用作反應(yīng)介質(zhì)，例如是水；烴，例如己烷、石油醚、苯、甲苯、二甲苯；氯代烴，例如三氯乙烯、1，2-二氯乙烷、氯仿和特別是二氯甲烷；醇，例如甲醇、乙醇、2-丙醇、正丙醇、正丁醇；醚，例如乙醚、二異丙基醚、四氫呋喃(THF)或1，4-二氧六環(huán)；二醇醚，例如乙二醇單甲醚或單乙醚(甲基乙二醇，乙基乙二醇或聚乙二醇)，乙二醇二曱醚(二甘醇二曱醚)；二硫化碳；硝基化合物，例如硝基甲烷或硝基苯，其中，在使用Lewis酸(單獨或者與Br6nsted酸一起)作為根據(jù)本發(fā)明使用的酸的時候，不使用水和醇作為溶劑或溶劑成分。優(yōu)選脂肪族、芳香族和氯代烴，特別優(yōu)選氯代烴，特別是二氯甲烷。令人驚奇地，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，當(dāng)實施本發(fā)明方法的這種實施方案時，主要形成或唯一形成式I的四氫吡喃衍生物的那些立體異構(gòu)體，其中在2-和5-位上的取代基彼此成反式排列。這種情況顯著有利于這些化合物進一步用于借助本發(fā)明的還原消除制備式I的四氫吡喃衍生物，因為在2-和5-位的取代基的反式排列使得可以實現(xiàn)雙平伏構(gòu)象，形成了對于介晶性能而言重要的伸長的分子形狀。還令人驚奇地發(fā)現(xiàn)，通過本發(fā)明方法的這種實施方案制備的式II化合物的4-位上的鹵素取代基X也主要或唯一地與5位上的取代基成反式定向。因此，在本發(fā)明的這個方法步驟中，在2-、4-和5-位上的三個取代基采用全平伏排列定向的四氫吡喃衍生物以高的選擇性形成。如果至少一種Lewis酸一單獨或與至少一種Briinsted酸組合一參與所述反應(yīng)，則根據(jù)本發(fā)明的反應(yīng)的高選擇性是特別顯著的。除了所述的高立體化學(xué)選擇性外，根據(jù)本發(fā)明制備式II的卣代四氫吡喃衍生物的方法的突出之處還在于另外的優(yōu)點式II的四氫吡喃衍生物可以良好至非常好的收率獲得。另外，式IV的高烯丙醇與式V的醛的反應(yīng)以高化學(xué)選擇性進行，即，不需要的副產(chǎn)物不形成或者以不干擾進一步使用式II的四氫吡喃衍生物的最小量形成。在的，并且其操作不需要任何特別的或不尋常的預(yù)防，措施:已經(jīng)證s;特別有利的是，本發(fā)明的方法開辟了收斂性合成方案用于制備其它具有高結(jié)構(gòu)多樣性的四氫吡喃衍生物，特別是式I的四氫吡喃衍生物從特定的式IV的高烯丙醇開始，式V的醛的基團的變化使得可以制備寬范圍的各種取代的式II的四氫吡喃衍生物并隨后制備相應(yīng)的式I的四氳吡喃衍生物。其同樣適用于補充操作過程，即，從特定的式V的醛開始，式IV的高烯丙醇的基團的變化也使得可以制備具有大的結(jié)構(gòu)多樣性的式II和I的四氬吡喃4汙生物。對于式II、III、IV和V的^f匕合物，a、b、c、d、e、f、R1、R2、A1、A2、A3、A4、A5、A6、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6和X1具有與對于式I化合物所給的相同的優(yōu)選含義。通過本發(fā)明的方法可獲得的式I的四氪吡喃衍生物自身通常是從現(xiàn)有技術(shù)中已知的，具有介晶或液晶性能并用作液晶介質(zhì)的組分，例如用于電光顯示元件中，和/或用作制備其它包含四氫吡喃結(jié)構(gòu)單元的介晶或液晶化合物的起始化合物。在本發(fā)明的方法步驟中采用的試劑和溶劑是從文獻中已知的并通常是可商購的。或者，它們可通過自身已知的方法制備，如在文獻中描述的那樣(例如，在合成有機化學(xué)的標(biāo)準(zhǔn)著作中，例如Houben-Weyl，MethodenderorganischenChemie(有機化學(xué)方法)，Georg-Thieme-Verlag，Stuttgart)，精確地說在已知的并適合于所述反應(yīng)的反應(yīng)條件下進行。然而，還可以使用自身已知的在此沒有更詳細提及的變化形式。式V的醛是可商購的或可例如通過現(xiàn)有4支術(shù)中已知的反應(yīng)從其它醛獲得。因此，其中甲?；I接于環(huán)己基環(huán)上的式V的醛(如果，例如，在式V中的c等于l,則23表示單鍵和人3表示亞環(huán)己基)可以通過公開于DE19612814Al中公開的方法制備。其它的式V的醛，其中甲酰基例如通過單鍵連接于任選取代的亞苯基上(如果，例如，在式V中的c等于l，則Z3表示單鍵和As表示亞苯基)，或者通過亞烷基橋、-CH20-、-OCH廣或-CF20-鍵接于環(huán)狀基團(如果，例如，在式V中的c等于l，則23表示亞烷基橋、-CH20-、-OCH廣或-CF20-，和A3具有在權(quán)利要求1中和以上在說明書中指出的含義之一)，可以使用合適的還原劑，例如二異丁基氫化鋁(DIBAL-H),由可通過從文獻中已知的方法獲得和/或可商購的相應(yīng)的羧酸酯或羧酸衍生物制備(尤其參見，德國專利申請DE102004021334Al)。其中甲酰基通過單鍵鍵接于四氫吡喃基團的5-位上的式V的醛也可以簡單的方式獲得，所述四氫吡喃基團還在2-位上被取代。這里的起始材料例如是相應(yīng)的羧酸酯或腈前體，其可例如通過在方案la中所示的易位法(其中，例如，基團1=-C02-烷基或-CN)，和在隨后例如使用均相催化劑，例如Wilkinson催化劑進行的催化氫化后獲得，并且將其與二異丁基氫化鋁(DIBAL-H)反應(yīng)，得到所述甲?；苌铩Ｊ絀V的高烯丙醇同樣是在現(xiàn)有技術(shù)中已知的，可商購的，或者可通過自身從文獻中已知的合成方法容易地制備。方案2概述了從式A的烯丙基卣衍生物開始的合成途徑<formula>formulaseeoriginaldocumentpage23</formula>方案2A的制備例如可以從醛R1-[A1-Z']a-[A2-Z2]b-CHO開始，例如通過Refo雇tsky合成，得到不飽和酯R〗-[A1-Z1]a-[A2-Z2]b-CH=CH-C02一烷烴基，隨后使用DIBAL-H進行還原得到相應(yīng)的烯丙醇Rt[A1-Z1]「[A2-Z2]b-CH=CH-CH20H,和最后使用PBr3(Hal=Br)、PC1S或S02C12(Hal=CI)，或HI(Hal=I)進行卣化，從A開始，與合適的金屬或有機金屬試劑的反應(yīng)得到化合物B;其中"Met"取決于所用的金屬或有機金屬試劑而定，表示Cu、Bi(基團)2、In(基團)2、Sn(基團)3、Sn(基團)、Zn(基團)、Ge(基團)，其中"基團"表示在所述金屬上的一個或多個合適的基團或配體。B與曱醛(或者合成等同物)進行的進一步反應(yīng)在相應(yīng)的整理后得到所需要的式IV的高烯丙醇，所述反應(yīng)也可以在不用預(yù)先分離出作為中間體形成的B的情況下進行。獲得式IV的高烯丙醇的其它方法根據(jù)方案3實現(xiàn)；"Hal"在這里具有如上在方案2中相同的含義；"Met"優(yōu)選是Cu(I)(參見A.Carpita，R.Rossi,Synthesis1982,469):<formula>formulaseeoriginaldocumentpage24</formula>將卣化物C一根據(jù)在方案2中的操作步驟一使用合適的試劑轉(zhuǎn)化成有機金屬衍生物D，其隨后與E反應(yīng)，得到乙酸高烯丙酯F。所需要的式IV的高烯丙醇然后可借助于皂化而從F獲得。另外，式IV的高烯丙醇，其中RL[A'-Zla-[A2-Z2]b-表示烷基，也可以通過相應(yīng)的利用巴豆酸的二陰離子的烷基卣化物R1-[A1-Z1]a-[A2-Z2]「Hal進行的烷基化和隨后的利用LiAlH4的還原而獲得。該二陰離子由巴豆酸，例如通過與2當(dāng)量的二異丙基氨基化鋰(LDA)反應(yīng)獲得(參見，P.E.Pfeffer，L.S.Silvert，J.Org.Chem.1971,36,3290;R.H.vanderVeen，H.Cerfountain,J.Org.Chem.1985，50，342)。與本發(fā)明相關(guān)地，術(shù)語"烷基"——除非在本說明書中其它處或在權(quán)利要求書中另外定義——以其最一般的含義表示具有1至15個(即，1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14或15個)碳原子的直鏈或支鏈的、飽和或不飽和的脂肪族烴基；該基團是未取代的或者被氟、氯、溴、碘、羧基、硝基、-NH2、-N(烷烴基)2和/或氰基單或多取代，其中所述的多取代可以用相同或不同的取代基進行。在所述脂肪族烴鏈中的烷基自身也可以是官能化的。如果該烷基是飽和基團，其也被稱為"烷烴基"。另外，術(shù)語"烷基"還包括如下烴基，其是未取代的或者相應(yīng)地特別是被F、Cl、Br、I和/或CN單取代或相同或不同地多取代，和其中一個或多個CH2基團可以被-O-("烷氧基"、"氧雜烷基")、-s-("硫代烷基")、-S0廣、-CH=CH-("烯基，，)、-CsC-("炔基，，)、-C0-0-或-0-C0-以在所述鏈中的雜原子(0、S)彼此不直接連接的方式替代，其中-0-S0廣鍵接又是可能的。烷基優(yōu)選是具有1、2、3、4、5、6、7或8個碳原子的直鏈或支鏈的、未取代或取代的烷烴基、烯基或烷氧基。如果烷基表示烷烴基，其優(yōu)選是甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基；CF3、CHF2、CH2F、CF2CF3。所述烷經(jīng)基特別優(yōu)選是直鏈和未取代的或4皮F取代的。因為在烷基中的一個或多個CH2基團可以被-0-替代，所以術(shù)語"烷基，，還包括"烷氧基"或"氧雜烷基"。烷氧基是指0-烷基，其中氧原子被直接鍵接于由所述烷氧基取代的基團上或者鍵接于被取代的環(huán)上，并且烷基如上所定義；這樣烷基優(yōu)選是烷烴基或烯基。優(yōu)選的烷氧基是曱氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基和辛氧基，其中這些基團中的每一個也可以是優(yōu)選被一個或多個氟原子取代的。烷氧基特別優(yōu)選是-0CH3、-OC2H5、-0-n-C3H7、-OtC4H9、-0-tert-C4H9、-0CF3、-0CHF2、-0CHF或-0CHFCHF2。與本發(fā)明相關(guān)地，術(shù)語"氧雜烷基"表示如下烷基，其中至少一個非末端CH2基團已經(jīng)被-0-以不存在相鄰雜原子(0、S)的方式替代。氧雜烷基優(yōu)選包括式CaH2a+1-0-(CH2)b-的直鏈基團，其中a和b各自彼此獨立地表示1、2、3、4、5、6、7、8、9或10;a特別優(yōu)選是1至6的整數(shù)和b是1或2。如果在如上定義的烷基中的一個或多個CH2基團已經(jīng)被硫替代，則存在"硫代烷基"。"硫代烷基"優(yōu)選包括式CaH2a+1-S-(CH2)b-的直鏈基團，其中a是l、2、3、4、5、6、7、8、9或10和b是0、1、2、3、4、5、6、7、8、9或10;a特別優(yōu)選是1至6的整數(shù)和b是0、1或2。所述硫代烷基同樣可以羊皮F、Cl、Br、I和/或-CN取代并且優(yōu)選是未取代的。與本發(fā)明相關(guān)地，術(shù)語"烯基"表示其中存在一個或多個-CH-CH-基團的如上定義的烷基。如果在所述基團中存在兩個-CH-CH-基團，其還可以被稱為"烷二烯基"。烯基可以包含2至15(即2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14或15)個石灰原子，并且是支鏈的或者優(yōu)選是直鏈的。所述基團是未取代的或者被特別是F、Cl、Br、I和/或CN單取代或相同或不同地多取代，即所述-CH=CH-單元的一個或兩個氫和/或所述烯基團的其它CH2或CH3基團的一個或多個氫可以被相應(yīng)的一個或多個取代基替代。另外，一個或多個CH2基團可以各自彼此獨立地被-O-("烯基氧基")、-S-、-C^C-、-CO-、-co-o-、-OC-O-以雜原子(0、S)不彼此直接鍵接的方式替代。如果所述CH-CH基團在兩個碳原子上都帶有非氫的基團，例如如果它是非末端基團，則所述CH-CH基團可以兩種構(gòu)型存在，即作為E異構(gòu)體和作為Z異構(gòu)體形式。相應(yīng)的情況適用于被鹵素和/或-CN取代的C-C雙鍵基團。通常地，優(yōu)選E異構(gòu)體(反式)。所述烯基優(yōu)選包含2、3、4、5、6或7個碳原子并表示乙烯基、烯丙基、1E-丙烯基、2-丙烯基、1E-丁烯基、1E-戊烯基、1E-己烯基、1E-庚烯基、2-丙烯基、2E-丁烯基、2E-戊烯基、2E-己烯基、2E-庚烯基、3-丁烯基、3E-戊烯基、3E-己烯基、3E-庚烯基、4-戊烯基、4Z-己烯基、4E-己烯基、4Z-庚烯基、5-己烯基或6-庚烯基。特別優(yōu)選的烯基是乙烯基、烯丙基、1E-丙烯基、2-丙烯基和3E-丁烯基。如果在烷基中的一個或多個CH2基團已經(jīng)被-CsC-替代，則存在的是炔基。一個或多個CH2基團被-C0-0-或-0-C0-替代也是可能的。在此優(yōu)選如下這些基團乙酰氧基、丙酰氧基、丁酰氧基、戊酰氧基、己酰氧基、乙酰氧基甲基、丙酰氧基甲基、丁酰氧基甲基、戊酰氧基甲基、2-乙酰氧基乙基、2-丙酰氧基乙基、2-丁酰氧基乙基、2-乙酰氧基丙基、3-丙酰氧基丙基、4-乙酰氧基丁基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁氧基羰基、戊氧基羰基、曱氧基羰基甲基、乙氧基羰基曱基、丙氧基羰基甲基、丁氧基羰基曱基、2-(曱氧基羰基)乙基、2-(乙氧基羰基)乙基、2-(丙氧基羰基)乙基、3-(甲氧基羰基)丙基、3-(乙氧基羰基)-丙基和4-(曱氧基羰基)丁基。如果在烷基中的CH2基團已經(jīng)被未取代的或取代的-CH-CH-替代并且相鄰的CH2基團已經(jīng)被C0、-CO-O-或-0-C0-替代，則該基團可以是直鏈或支鏈的。優(yōu)選是直鏈的并具有4至12個C原子。因此，其特別優(yōu)選表示丙烯酰氧基甲基、2-丙烯酰氧基乙基、3-丙烯酰氧基丙基、4-丙烯酰氧基丁基、5-丙烯酰氧基戊基、6-丙烯酰氧基己基、7-丙烯酰氧基庚基、8-丙烯酰氧基辛基、9-丙烯酰氧基壬基、曱基丙烯酰氧基甲基、2-甲基丙烯酰氧基乙基、3-甲基丙烯酰氧基丙基、4-甲基丙烯酰氧基丁基、5-甲基丙烯酰氧基戊基、6-甲基丙烯酰氧基己基、7_曱基丙烯酰氧基庚基或8-曱基丙烯酰氧基辛基。如果所述烷基、烷烴基、烯基或烷氧基被至少一個卣素取代，該基團優(yōu)選是直鏈的。鹵素優(yōu)選是F或C1。在多取代的情況下，鹵素優(yōu)選是F。所形成的基團也包括全氟代基團。在單取代的情況下，所述氟或氯取代基可以在任何希望的位置上，但優(yōu)選在co-位。與本發(fā)明相關(guān)地，"亞烷基"或"亞烷基橋"一除非該術(shù)語在本說明書中其它處或在權(quán)利要求書中另外定義一表示在所述鏈中具有1、2、3、4、5、6、7或8個碳原子的二價脂肪族烴基，其任選也可以被卣素、CN、羧基、硝基、烷烴基、烷氧基、-NH2或被-N(烷烴基)2單或多取代，其中所述多取代可以被相同或不同的取代基進行。"亞烷基"或"亞烷基橋，，優(yōu)選表示具有1、2、3、4、5或6個碳原子的直鏈的飽和脂肪族基團，其是未取代的或者被氟單或二取代的，特別是表示-CH2CH2—、—CH2CH2CH「、—(CH》廣、一CF2CF廣或—(CF2)廣。與本發(fā)明相關(guān)地，術(shù)語"芳烷基"表示芳基烷基，即表示其中芳基取代基通過烷基橋連接至原子、鏈、另一個基團或官能團上的基團。所述烷基橋優(yōu)選是飽和的二價烴基("亞烷基")，特別是亞甲基(-CH廣)或亞乙基(-CH2-CH廣)。芳烷基的優(yōu)選的例子是節(jié)基和苯乙基。為了本發(fā)明的目的，"芳烷基-o-基團"是通過鍵接于所述烷基橋上的氧原子連接于其它原子、鏈、另一個基團或官能團上的芳烷基。芳烷基-o-基團的優(yōu)選的例子是0-千基和0-CH2CH2-苯基。在該芳烷基中的亞甲基又可以被雜原子橋，例如-0-、-S02-、-(C0)-等替代，得到常規(guī)的離去和保護基團。與本發(fā)明相關(guān)地，術(shù)語"芳基"表示芳香族或部分芳香性環(huán)系，在較狹義上表示苯環(huán)，其可以被簡單的基團，例如1-5個C的烷基、鹵素、硝基、氰基等單、二或三取代，以改變其電子性質(zhì)或提供立體空間屏蔽(例如叔丁基)。所述芳基優(yōu)選是苯基或?qū)妆交Ｅc本發(fā)明相關(guān)地，"鹵素"表示氟、氯、溴或碘。的化合物自身可以作為光學(xué)活性或立體異構(gòu)的基團、取代基或化合物形式存在，那么由于它們例如具有不對稱性的中心，這些也由本發(fā)明所包括。這里不言而喻的是，這些化合物可以異構(gòu)體純的形式存在，例如作為純的對映異構(gòu)體、非對映異構(gòu)體、E或Z異構(gòu)體、反式或順式異構(gòu)體形式，或作為以任何希望比例的多種異構(gòu)體的混合物形式存在，例如作為外消旋體，E/Z異構(gòu)體混合物或作為順式/反式異構(gòu)體混合物形式。性的官能團或取代基在本發(fā)明的反應(yīng)中和/或在先前或隨后的反應(yīng)中和/或整理步驟中不發(fā)生不希望的反應(yīng)，可以使用保護基團，其可以在所述反應(yīng)完成時再次被斷裂除去。使用合適的保護基團的方法對本領(lǐng)域4支術(shù)人員而言是已知的并描述于例如T.W.Green，P.G.M.Wuts:ProtectiveGroupsinOrganicSynthesis，第3版，JohnWiley&Sons(1999)中。具體實施例方式本發(fā)明進一步通過如下實施例舉例說明，而不意于將其限制于這些實施例。在結(jié)構(gòu)式圖中，其中n>2的基團-CAw表示正烷基。除了常用的和公知的縮寫，還使用下述的縮寫C:結(jié)晶相；N:向列相；Sm:近晶相；I:各向同性相。在這些符號之間的數(shù)字指示所述具體物質(zhì)的轉(zhuǎn)變溫度。溫度數(shù)據(jù)以。C計表示，除非另外指出。物理、物理化學(xué)或電光學(xué)參數(shù)通過公知的方法確定，如特別描述于小冊子"MerckLiquidCrystals-Licristal-PhysicalPropertiesofLiquidCrystals-DescriptionoftheMeasurementMethods"(默克液晶-Licristal-液晶的物理性能-測量方法"i兌明)，1998，MerckKGaA，Darmstadt。在上下文中，An表示光學(xué)^^向異性(589nm,20X:)和As表示介電各向異性(1kHz,20°C)。所述介電各向異性Ae在2(TC和1kHz下測定。所述光學(xué)各向異性厶n在2(TC下和波長589.3nm下測定。單個化合物的As和An值和清亮點(cl.p.)通過從由5-10%的本發(fā)明的特定化合物和90-95%的商購液晶混合物ZLI-4792(混合物MerckKGaA，Darmstadt)組成的液晶混合物的線性外推而獲得。實施例實施例1:GWPl—在非均相催化劑和三烷基胺存在下的還原消除將式II的溴化的底物溶解在足量的四氫呋喃中(約4至12倍式II化合物的體積或重量)，加入10至30重量％，優(yōu)選20重量％(對應(yīng)于基于II的約0.5-6moiy。的鈀)的5%4巴/碳(55°/。的水)，2.5摩爾當(dāng)量的三乙胺和兩倍量的水(基于所述底物)，將該混合物在加壓高壓釜中使用在4至6巴壓力下的氬氣進行氫化至氫的理論吸收量。冷卻后，過濾該反應(yīng)混合物，并將該濾液傾倒在水上，并用濃鹽酸將pH調(diào)節(jié)到1。將該混合物采用庚烷和庚烷/曱苯混合物各萃取一次。將合并的有機相用水洗滌4次，干燥并蒸發(fā)。根據(jù)所述產(chǎn)物的性質(zhì)而定，借助于結(jié)晶、色鐠分離和/或蒸餾進行進一步純化。關(guān)于通過GWP1獲得的式I的四氫吡喃衍生物的反應(yīng)條件和收率的詳細數(shù)據(jù)示于表1中。實施例2:利用三丁基錫氫化物進行的還原消除<formula>formulaseeoriginaldocumentpage30</formula>將18.5g(0.05mol)的4-氯四氫吡喃II-a與32g(0.11mol)三丁基錫氫化物和0.81g(5mmol)的偶氮二異丁腈一起在500ml苯中在回流下加熱24小時。隨后將所述溶劑蒸發(fā)除去，并將殘余物吸收于200ml甲基諫又丁基醚(MTBE)中。加入232ml的10%KF水溶液(0.4molKF)和1.08g(2.5mmol)的18-冠-6，并將該混合物劇烈混合。將有機相干燥，蒸發(fā)，釆用庚烷/曱苯(9:1)通過硅膠進行過濾，并將在蒸發(fā)后獲得的殘余物從庚烷中重結(jié)晶。I-a的收率(沒有最優(yōu)化)8.7g(52%，100%全平伏異構(gòu)體)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage30</formula>實施例3:利用三(三甲基甲硅烷基)硅烷(TTMSS)進行的還原消除FF將在600ml的1，2-二甲氧基乙烷中的20.75g(0.05mol)4-溴四氫吡喃II-b在攪拌下，在石英裝置中，與1.24g(5mmol)的TTMSS和9.5g(0.25mol)的NaBH4—起在加入60mg(2mmol)對曱氧基過氧化苯曱酰后用波長為254nm的光照射12小時。然后將溶劑在真空下基本蒸發(fā)除去，并將殘余物采用庚烷/硅膠通過硅膠進行過濾。蒸發(fā)并從庚烷中重結(jié)晶得到I-b;收率(沒有最優(yōu)化)8.lg(48%,100%全平伏異構(gòu)體)。C58I。實施例4:式I化合物的脫卣化氫得到式IIIa和/或IIIb的化合物實施例4.1Br4-2a4-2b將156g(0.487mol)4-溴-2-(4-溴苯基)四氫吡喃4-1(異構(gòu)體混合物2，4-順式2，4-反式=84:16)與87.2ml(0.73mol)的1，5-二氮雜雙環(huán)[4.3.0]壬-5-烯(DBN)—起在330ml曱苯中在攪拌下回流溫?zé)?小時，在此期間形成懸浮液。在冷卻后，將該混合物用400ml水和稀石危酸調(diào)節(jié)至pH3并劇烈混合。將有機相分離出并用水和NaHC03溶液洗滌，通過硅膠過濾并蒸發(fā)，得到105g(90%)包含比例為65:35的4-2a和4-2b的產(chǎn)物混合物。實施例4.2<formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula>4-34-4a4-4b將10g(0.0273mol)順式-4-溴-2-(4-節(jié)氧基)苯基四氬吡喃4-3與5.08g(0.0401mol)的DBN在20ml的1，4-二氧六環(huán)中在攪拌下回流溫?zé)?小時。然后將溶劑通過在真空中蒸發(fā)除去，并將該殘余物釆用劇烈振搖吸收于100ml甲苯和100ml稀石充酸中。甲苯相用碳酸氫鈉溶液和水洗滌，干燥并通過硅膠過濾。濾液的蒸發(fā)得到6.88g(95%)包含比例為67:32的4-4a和4-4b的產(chǎn)物混合物。或者，HBr的消除還可以在不采用溶劑的條件下在13(TC下進行3h。實施例4.3<formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula>4-6a將49.7g(0.15mol)的異構(gòu)體純的全平伏4-溴-2-(4-溴苯基)-5-甲基四氫吡喃4-5與27.8g(0.225mol)的DBN在200ml甲苯中在回流下攪拌4h。然后將該混合物冷卻至(TC，并將鹽沉淀物過濾除去，將濾液濃縮并采用甲苯/庚烷(1:1)通過硅膠過濾。將濾液蒸發(fā)并將殘余物從乙醇中結(jié)晶。得到唯一的異構(gòu)體是4，5-二氫-5-曱基四氫吡喃4-6a;收率(沒有最優(yōu)化)15.6g(73%)。實施例4.4<formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula>4-8a類似于實施例4.3，4-7(異構(gòu)體混合物2，4-順式2，4-反式=85:15;32.9g，0.107mol)得到4-8a，收率(沒有最優(yōu)化)89%。實施例4.5類似于實施例4.3，4-9(異構(gòu)體純2，4-順式)得到4-10a，收率(沒有最優(yōu)化)93%。實施例4.6<formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula>將23.0g(0.0556mol)的4-溴四氫吡喃4-11(異構(gòu)體混合物)與10.36g(0.0834mol)的DBN在60ml曱苯中在回流下攪拌3h。然后將該混合物冷卻至室溫，加入400ml水，并將該混合物用稀石克酸在攪拌下酸化。在蒸發(fā)和采用曱苯/庚烷混合物(1:1)通過硅膠過濾后，所分離出的有機相得到17.8g(96%)的包含4-12a、4-12b和其它的二氫吡喃衍生物的異構(gòu)體混合物，其中4-12a是主要異構(gòu)體。實施例4.7<formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula>將47.32g(0.1mol)的溴代四氫吡喃4-13(異構(gòu)體混合物2，4-順式2，4-反式=86:14)與14.9g(0.12mol)的DBN—起在150ml甲苯中在攪拌下回流加熱2.5h。在冷卻后，將該混合物用水/稀硫酸和曱苯消化，并將有機相用NaHC03溶液和水洗滌，干燥并蒸發(fā)。殘余物包含4-14a作為主要產(chǎn)物(89%)并將其采用曱苯/庚烷(3:7)通過硅膠進行過濾。兩個洗脫級分中的第二個，在蒸發(fā)和從庚烷中重結(jié)晶后，得到20.7g(53%)的二氫吡喃4-14a。實施例4.8<formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula>將81.3g(0.25mol)的酯4-15與37.3g(0.3mol)的DBN一起在400ml曱苯中在攪拌下回流加熱2.5h。在冷卻后，加入稀硫酸，并隨后將有機相干燥、蒸發(fā)并采用甲苯/庚烷(3:7)通過硅膠進行過濾。主要級分包括39.6g(65%)的二氫吡喃4-16a。實施例4.9Br4-174-18a將22.3g(0.05mol)的4-17(異構(gòu)體混合物2,5-順式:2，5-反式=42:58)與9.31g(0.075mol)的DBN—起在75ml曱苯中在回流下攪拌3h。在用稀硫酸和甲苯進行水性整理后，將有機相用NaHC03溶液和水洗滌，干燥并蒸發(fā)。釆用甲苯將該殘余物通過硅膠進行過濾，得到10,43g(57%)的二氫吡喃4-18a。實施例4.10將22.5g(0.04mol)的4-19(異構(gòu)體混合物2，5-順式:2，5-反式=25:75)與7.5g(0.06mol)的DBN—起在100ml甲苯中在回流下攪拌4h。在用稀硫酸和曱苯進行水性整理和干燥后，將有機相通過硅膠進行過濾并蒸發(fā)。從乙醇中重結(jié)晶該殘余物。4-20a的收率(沒有最優(yōu)化)10.7g(55%)。實施例4.11<formula>formulaseeoriginaldocumentpage35</formula>4-214-22將100g(219mmol)的溴代四氫吡喃4-21在氮氣下溶解于165ml甲苯中，加入38.5ml的DBN，并將該混合物在沸騰下加熱5小時。隨后向冷卻的批料中加入200ml水，將其用稀硫酸酸化。有機相用300ml庚烷稀釋，分離出，用碳酸氫鈉溶液洗滌并蒸發(fā)。將獲得的殘余物通過硅膠(甲苯)，得到57.1g的化合物4-22(含量60%;收率41%)。實施例5—GWP2:得自實施例4.1-4.10的式III的二氫吡喃的氫化將6mmo1的二氫吡喃11Ia(和/或IIIb)(得自實施例4.1-4.11)與0.6mmol的三(三苯基膦)銠(I)氯化物(Wilkinson催化劑)和曱苯和乙醇或曱醇的混合物一起引入到壓力高壓釜中。在通過注入10巴氮氣和卸壓3次進4于脫氣后，將60巴氫氣注入，并將該混合物加熱至80。C。約20h后，讓該混合物冷卻，以定量收率得到四氫吡喃I。式I的反式-2，5-異構(gòu)體與順式-2，5-異構(gòu)體的異構(gòu)體比例在每種情況下為約3:1。關(guān)于通過GWP2荻得的式II的四氫吡喃衍生物的反應(yīng)條件和收率的進一步細節(jié)示于表6中。實施例6—GWP3:式II的卣化的四氫吡喃的制備初始將0.1mol式V的醛和0.1mol的式IV的高烯丙醇引入到100ml二氯甲烷中。將0.05mol至0.06mol的以固體形式的Lewis酸加入到該混合物中。當(dāng)反應(yīng)完全時(TLC檢查)，將該反應(yīng)混合物通過硅膠進行過濾或者進行水性整理。在這種情況下，將1QGml水滴加到該混合物中，并然后加入30ml濃鹽酸。將該混合物攪拌直到相分離完全。將水、鹽酸和庚烷加入到有機相中，并在沉降后分離出水相。將水相用二氯甲烷萃取，并將有機相合并并蒸發(fā)。通過在硅膠上色譜分離、結(jié)晶或蒸餾進一步純化殘余物。關(guān)于通過GWP3獲得的式II的四氫吡喃衍生物的反應(yīng)條件和收率的詳細數(shù)據(jù)示于表2中。實施例7—GWP4:式II的鹵化的四氫吡喃的制備初始將0.05mol至0.055mol的Lewis酸引入到100ml二氯曱烷中并通過攪拌懸浮。然后將式V的醛(0.1mol)分份引入。隨后加入式IV的高烯丙醇(0.1至0.11mol)。當(dāng)反應(yīng)完全時(TLC檢查)，將該反應(yīng)混合物通過硅膠進行過濾或者進行水性整理一如在上述GWP3部分中所述。關(guān)于通過G肝4荻得的式I的四氫吡喃衍生物的反應(yīng)條件和收率的詳細數(shù)據(jù)示于表3中。實施例8—GWP5:式II的卣化的四氫吡喃的制備初始將0.1mol式V的酪、0.1mol的式IV的高烯丙醇和0.5至5raolX的Lewis酸在(TC至室溫的溫度下引入到100ml二氯甲烷中。然后將氣態(tài)氫卣酸在外部冷卻下通入至飽和。然后將該反應(yīng)混合物在攪拌下加入到飽和碳酸氫鈉水溶液中。分離出有機相，將其干燥并蒸發(fā)。殘余物通過在硅膠上色譜分離、結(jié)晶或蒸餾進行純化。關(guān)于通過GWP5獲得的式II的四氬吡喃4汙生物的反應(yīng)條件和收率的詳細數(shù)據(jù)示于表4中。實施例9—GWP6:式II的卣化的四氫吡喃的制備將在水中或水醋酸中的1.5摩爾當(dāng)量的飽和氫卣酸溶液在攪拌下加入到0.1M式V的醛和式IV的高烯丙醇在二氯甲烷中的溶液中，其中任選加入0.5至5mo"/。的Lewis酸。當(dāng)反應(yīng)完全時(TLC檢查)，將該反應(yīng)混合物如在GWP3中所述的那才羊整理。關(guān)于通過GWP6獲得的式II的四氫吡喃衍生物的反應(yīng)條件和收率的詳細數(shù)據(jù)示于表5中。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>表2<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table>*異構(gòu)體比例具有全平伏排列的異構(gòu)體與所有其它立體異構(gòu)體的比例表3<table>tableseeoriginaldocumentpage41</column></row><table>*異構(gòu)體比例具有全平伏排列的異構(gòu)體與所有其它立體異構(gòu)體的比例<table>tableseeoriginaldocumentpage42</column></row><table>*異構(gòu)體比例具有全平伏排列的異構(gòu)體與所有其它立體異構(gòu)體的比例表5<table>tableseeoriginaldocumentpage43</column></row><table>被38/47:a;表6<table>tableseeoriginaldocumentpage44</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage45</column></row><table>編底物ni四氮p比喃3污生物iI的收率％異構(gòu)體比例*反應(yīng)時間反應(yīng)溫度'c氛飛壓力(巴)WUkinson催化劑的量fIU)l。/作為如下形式分離15二氬p比喊衍生物晶體，C67N13516二氮他喃衍生物油，SmB74N106I17二氫p比喃衍生物晶體，C75Nm18二氫吡喃衍生物晶體，C70N10219二氫吡喃衍生物晶體，C60SmA(A)(54)SmA67N190.420二氫吡喃「》〈;〈;,晶體，C83N(83)21二氫吡喃衍生物晶體，C35N66I200680017968.9il溢步被41/47M*異構(gòu)體比例具有全平伏排列的異構(gòu)體與所有其它立體異構(gòu)體的比例物質(zhì)表征在表1-5中示出的四氫吡喃衍生物I和II通過核磁共振光鐠(NMR)或質(zhì)傳的表征如下進行。參照下式進行所表征的實施例的'H-NMR光譜中的質(zhì)子指定，所述實施例都處于主要異構(gòu)體2-、2,5-和2，4，5-取代的2H-3，4，5，6-四氫吡喃衍物的全平伏椅式構(gòu)象。X-H化或卣素(Cl、Br)11=1156或取代基R'=取代基表1的四氫p比喃4汙生物I所述信號位置相對于四甲基硅烷(-O)以ppm計引述，耦合常數(shù)J的大小以赫茲(Hz)表示?？s寫s表示單峰，d表示雙峰，t表示三重峰，q表示四重峰和m表示多重峰。這些數(shù)據(jù)也適用于其它表中所列舉的NMR光語。所用的溶劑是CDCh，除非另外指明。la/b)250MHz力-NMR光傳4個芳香H:AB-q,中心6,89，對于四氫吡喃基取代的兩個鄰位H:d7.10J=8;對于酚基的2個鄰位H:d6.52J=8;H2a:dd4.28.J=12,2;H6e:dm3.97.J=12，4;H6a:t3.15.J=12;H3e,H4e,H5a和H3a:m1.57-1.94;H4a:dq1.22'J=12,4;CH3:d0.75J=7熔點91°C2a/b)300MHz屮—NMR光i普4個芳香H:AB-q，中心6.88,對于四氫吡喃基取代的兩個鄰位H:d7.15.J=8;對于酚0H基的2個鄰位H:dd6.60J=8;H2a:dd4.20.J=12,2;H6e:dm4.07'J=12,4;H6a:t3.20.J=12,;H3e:dm1.99.J=12，？；H4edm1.80.J=12;H3a,H5a:m1.50-1.75;側(cè)鏈CH2和H":m1.1-1.3;CH3:t0.92.J-7。熔點92°C3)250MHz力-NMR光傳4個芳香H:AB-q，中心6.95，對于四氫吡喃基取代的兩個鄰位H:d7.20.J-8;對于酚0H基的2個鄰位H:d6.70.J=8;H2a:dd4.20.J=12,2;H6e:dm4.07.J=12,4;H2add4.20;H6a:t3.20.J=12;H3e:dm1.99.J=12;H4e:dm1.80.J=12，3;H3a和H5am1.50-1.75;2個側(cè)鏈CH2的4個H和H4a:m1.10-1.30;CH3:t0.92J-7。熔點94°C4a/b)250MHzH-纖光譜4個芳香H:AB-q，中心6.95，對于四氬吡喃基取代的兩個鄰位H:d7.20.J=8;對于酚OH基的2個鄰位H:d6.70J=8;H2add4.20.J=12,2;H6e:dm4.06J=12,4;H6a:t3.18J=12;H3e:dm1.97J=12;H4e:dm1.82J=12;H5a和Ik:ml.53-1.74;3個CH2基團的6個側(cè)鏈H和H4a:ml.05-1.45;CH3:t0.90J=7。熔點87°C6)400MHz力一證光譜芳香H2h2:t7.32'J=8(鄰位H和間位F耦合)；其余4個芳香h.m7.18;H2a:dd4.28J=12,2;H6e:dm4-04J=12，？;H6a:t3.18'J=12;H3e和H4e:m1.86-2.0;H5a:m1.78;H3a:dq1.60■J=12,4;H4a:dq1.32.J=12,4;CH3:d0.86J=77)250MHz力_腿光譜~<^)~芳香H2h2:t7.32'J=8(鄰位H和間位F耦合)；其余4個芳香h'm7.18;H2a:dd4.28.J=12,2;H6e:dm4.09-J=12，4;h6a:t3.20.J=12;h化和h化:mL83一2-12;h》h5a:m1.47—L80;3個側(cè)鏈CH2基團的6個H和仏a:m1.05-1.40;CH3:t0.87J-7。表2中的四氫吡喃衍生物IIla/b)250MHz力-NMR光語4個芳香H:AB-q,中心7.33;對于溴取代的兩個鄰位H:d7.46-J=8;對于四氫吡喃基取代的2個鄰位H:d7.19.J=8;H2a,H4a,H6e:m4.08-4.33;H6a:dt3.57J二12,2;H3e:ddd2.44.J=12,4,2;H5e，H5a:m2.08-2.28;H3a:q1.98J=122)500MHz力-NMR光語4個芳香H:AB-q;中心7.09;對于四氫吡喃基取代的兩個鄰位H:d7.15.J=8;對于酚OH基的2個鄰位H:d6.75.J=8;H2a:dd4.25.J=12，2;H6e:dd4.18'J=12,4;H4a:dt4.02.J=12，4;H6a:t3.27.J=12;H3e:ddd2.47.J=12,4,2;H3a:q2.22.J=12;Hsa和CHz側(cè)鏈的1個H:ml.93;側(cè)鏈的另外1個H:m1.23;CH3:t0.93J=7。3)250MHz力-腿光譜4個芳香H:AB-q，中心6.95;對于四氫吡喃基取代的兩個鄰位H:d7.15J=8;對于酚OH基的2個鄰位H:d6.75.J=8;H2a:dd4.27.J=12，2;H4a:dt4.15'J=12,4;H6e:dd4.08J=12,2;H6a:t3.26.J=12;H3e:ddd2.45-J=12,4，2;H3a:q2.10(J=12);Hsa和CH2側(cè)鏈的1個H:m1.68-1.98;兩個側(cè)鏈CH基團的另外3個H:ml.10-1.53;CH3:t0.90'J=7。熔點104°C4)250MHz力-NMR光謙4個芳香H:AB-q;中心6.99;對于四氫吡喃基取代的兩個鄰位H:d7.20J=8;對于酚0H基的2個鄰位H:d6.78.J=8;H2a:dd4.30.J=12'2;H6e和H4a:m4.10-4.25;H6a:t3.28.J=12;H3e:ddd2.48J=12,4,2;H3a:q2.17.J=12;H5a和CH2側(cè)鏈的1個H:ml.72-2.00;3個側(cè)鏈CH2基團的另外5個H:m1.15-1.50;CH3:t0.95J=7。6)250MHz力-腿光謙苯基芐基基團的5個芳香H:m7.28-7.45,第二個苯環(huán)的4個芳香H:AB-q，中心7.10;其中對于四氫吡喃基取代的兩個鄰位H:d7.26'J=8;對于0-節(jié)基的2個鄰位H:d6.94.J=8;千基CH2基團的2個H:s5.06;H2a:dd4.28.J=12,2;H6e:dd4,07.J=12,4;H4a:dt3.98.J=12，4;H6a:t3.22.J=12;H3e:ddd2.48.J=12，4,2;H3a:q2.18.J=12;H5a:m2.07;CH3:d1.03J=77)250MHz力-腿光語苯基節(jié)基基團的5個芳香H:m7.30-7.47,第二個苯環(huán)的4個芳香H:AB-q，中心7.09;其中對于四氫吡喃基取代的兩個鄰位H:d7.25'J=8;對于0-千基的2個鄰位H:d6.93.J=8;千基CH2基團的2個H:s5.05;H2a:dd4.27.J=12,2;Hge:dd4.19.J=12,4;H4a:dt4.03.J=12,4;H6a:t3.26.J=12;H3e:ddd2.50.J=12,4,2;H3a:q2.18.J=12;H5a和CH2側(cè)鏈的1個H:m1.83-2.0;所述CH2側(cè)鏈的第二個H:m1.12-1.38;CH3:t0.93J=7。8)250MHz力-NMR光謙苯基爺基基團的5個芳香H:m7.29-7.44，第二個苯環(huán)的4個芳香H:AB-q,中心7.09;其中對于四氬吡喃基取代的兩個鄰位H:d7.25■J=8;對于0-節(jié)基的2個鄰位H:d6.93.J=8;節(jié)基CH2基團的2個H:s5.05;H2a:dd4.26.J=12，2;Hee:dd4.17.J=12,4;H4a:dt4.02-J=12，4;H6a:t3.25J=12;H3e:ddd2.48'J=12,4,2;H3a:q2.20J=12;H5a和CH2側(cè)鏈的1個H:ml.78-2.05;3個側(cè)鏈012基團的5個H:m1.IO-I.45;CH3:t0.90J=7。9)400MHz力-NMR光謙芳香H2h2:t7.35.j=s(鄰位耦合和間位F耦合)；其余4個芳香H.m7.09-7.26;H2a:dd4.40'J=12,2;H6e:dd4.10.J=12,4;H4a:dt3.78.J=12,4;H6a:t3.25.J=12;H3e:ddd2.43.J=12，4,2;H3a和H5a:m1.83-2.20;CH3:d1.07.J=711)400MHz力一NMR光語芳香H2h2:t7.38j=8(鄰位耦合和間位F耦合)；其余4個芳香H:m7.10-7.23;H2a:dd4.37.J=12，2;H6e:dd4.12.J=12，4;H4a:dt3.93.J=12,4;H6a:t3.25.J=12;H3e:ddd2.55.J=12，4，2;H3a:q2.14.J=12;H5a:m2.08;CH3:d1.07-J=712)質(zhì)譜分子峰M460，462:不明顯；369，371:(M-91)-千基290:369,371-Br;289:369，371-HBr;91:Ph-CH2'(基峰)得自表3的四氬吡喃衍生物II1)NMR光譜與表2中的編號9的相同。2)力-NMR光語與表2中的編號4的相同。得自表4的四氬吡喃衍生物IIla)^-NMR光傳與表2中的編號la的相同。lb)^-NMR光譜與表4中的編號la的相同。3)250MHz力-NMR光鐠芳香H2<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>h2:t7.36.J=8(鄰位耦合和間位F耦合)；其余2個芳香H.m7.10-7'25;H2a:dd430,J=12'2;H6e:dd4.08.J=12，4;H4a:dt3.88.J=12，4;H6a:t3.20J=12;H3e:ddd2.48.J=12，4，2;H3a和H5a:m1.95-2.17;CH3:d1.04■J=75)質(zhì)譜414，412:分子峰；333:M-Br;332:M-HBrBr289,287:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>(M-C9H17/125)207:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage52</formula>;55:基峰ZV37表5的四氬p比喃4汙生物11表5的la、lb、lc的'H-NMR光譜與表2中的編號la的相同。表6的四氬吡喃4汙生物I表6的實施例14-23的制備類似于該表的化合物1-13。因為它們在分子結(jié)構(gòu)中包含3或4個環(huán)，它們可以結(jié)晶并因此通過結(jié)晶純化至>99.5%的含量。在此與晶體的收率相比更多地注意純度。這些化合物的熔融和相的性質(zhì)因此使得可以實現(xiàn)明確的表征而不用復(fù)雜的NMR光語證據(jù)。所有這些化合物的NMR光譜是可得的并與所指出的結(jié)構(gòu)相符。權(quán)利要求1.制備式I的四氫吡喃衍生物的方法，id="icf0001"file="S2006800179689C00011.gif"wi="131"he="10"top="5"left="5"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="no"/>其特征在于，將式II的四氫吡喃衍生物進行取代基X1的還原消除，id="icf0002"file="S2006800179689C00012.gif"wi="132"he="17"top="5"left="5"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="no"/>其中，在式I和II中，a、b、c、d、e和f各自彼此獨立地表示0或1，其中a+b+c+d+e+f等于0、1、2、3或4；R1在每種情況下獨立地表示H、鹵素、-CN、具有1至15個C原子的烷基，該烷基是未取代的或者被-CN單取代或者被鹵素單或多取代，其中另外地，在這些基團中的一個或多個CH2基團可以各自彼此獨立地被-C≡C-、-CH＝CH-、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-O-或-O-CO-以在所述鏈中的氧原子彼此不直接相連的方式替代；R2在每種情況下獨立地表示H、鹵素、-CN、-NCS、-NO2、-OH、-SF5、-O-芳烷基、具有1至15個C原子的烷基，該烷基是未取代的或者被-CN單取代或者被鹵素、OH或-O-芳烷基單或多取代，其中另外地，在這些基團中的一個或多個CH2基團可以各自彼此獨立地被-C≡C-、-CH＝CH-、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-CO-O-或-O-CO-以在所述鏈中的氧原子彼此不直接相連的方式替代；A1、A2、A3、A4、A5和A6各自彼此獨立地，也經(jīng)旋轉(zhuǎn)或成鏡像地，表示id="icf0003"file="S2006800179689C00013.gif"wi="97"he="38"top="5"left="5"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="no"/>id="icf0004"file="S2006800179689C00021.gif"wi="107"he="73"top="5"left="5"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="no"/>Z1在每種情況下獨立地表示單鍵、具有1至6個碳原子的亞烷基橋，該亞烷基橋是未取代的或者被F和/或Cl單或多取代，或者表示-CH2O-、-OCH2-，并且，如果A2不是亞環(huán)己基或亞環(huán)己烯基環(huán)，則Z1還可以表示-CF2O-；Z2在每種情況下獨立地表示單鍵、具有1至6個碳原子的亞烷基橋，該亞烷基橋是未取代的或者被F和/或Cl單或多取代；Z3、Z4、Z5和Z6各自彼此獨立地表示單鍵、具有1至6個碳原子的亞烷基橋，該亞烷基橋是未取代的或者被F和/或Cl單或多取代，或者表示-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-，其中-CF2O-橋不通過其O原子直接連接至亞環(huán)己基或亞環(huán)己烯基環(huán)上；n1、n2和n3彼此獨立地各自為0、1、2、3或4；Y1、Y2、Y3、Y4、Y5和Y6各自彼此獨立地表示H、鹵素、-CN、C1-6烷烴基、C2-6烯基、C2-6炔基、-OC1-6烷烴基、-OC2-6烯基或-OC2-6炔基，其中脂肪族基團是未取代的或者被鹵素單或多取代；和W1在每種情況下獨立地表示-CH2-、-CF2-或-O-；其中在式II中X1表示氯、溴或碘；其中式II的化合物不是4-氯-2-己基-5-(7-甲氧基羰基庚基)四氫吡喃。2.根據(jù)權(quán)利要求l的方法，其特征在于，Ai和A'彼此獨立地表示A3、A4、A5和Y彼此獨立地表示3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其特征在于，Z〗和Z2各自是單鍵；和Z3、Z4、zs和zs彼此獨立地表示單鍵、-CF20-或-OCH2-。4.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，在式II中的X〗是溴或氯。5.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，式II的化合物在2-和5-位上各帶有非氫的取代基，并且這些取代基具有彼此成反式的構(gòu)型。6.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，在式II中的X'是溴。7.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，(a+b+c+d+e+f)>1,特別是l、2或3。8.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，在有機錫氫化物或有機硅氫化物的存在下進行所述還原消除。9.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，所述有機錫氫化物是三丁基錫氫化物。10.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，所述有機硅氬化物是三(三曱基曱硅烷基)硅烷。11.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，X'是溴，并且通過在堿的存在下在催化劑上與氫進行反應(yīng)而進行所述還原消除。12.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，所述催化劑是非均相過渡金屬催化劑。13.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，所述堿是叔胺，特別是三乙胺。14.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，將式II的化合物在第一步(A)中轉(zhuǎn)化成式IIIa和/或IIIb的一種或多種二氫吡喃衍生物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>z其中a、b、c、d、e、f、R1、R2、A1、A2、A3、A4、A5、AZ4、Z5、Z6如權(quán)利要求1中所定義；并在第二步(B)中將其轉(zhuǎn)化成式I的四氫吡喃衍生物。15.根據(jù)前述權(quán)利要求中一項或多項的方法，其特征在于，式II的化合物通過式IV的高烯丙醇與式V的醛或其縮醛或水合物在包含至少一個氯、溴或碘原子的至少一種Lewis酸的存在下和/或在包含至少一個氯、溴或碘離子的Br6nsted酸的存在下反應(yīng)而獲得<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>其中a、b、c、d、e、f、R1、R2、A1、A2、A3、A4、Z3、Z4、Z5、Z^蟲立地如權(quán)利要求1中所定義。IVdOHvA5、A6、Z1、Z2全文摘要本發(fā)明涉及制備式(I)的四氫吡喃衍生物的方法，其特征在于，將式(II)的四氫吡喃衍生物進行取代基X¹的還原消除，其中X¹表示氯、溴或碘。其余的取代基在權(quán)利要求書中定義。文檔編號C07D309/08GK101180287SQ200680017968公開日2008年5月14日申請日期2006年5月10日優(yōu)先權(quán)日2005年5月25日發(fā)明者D·本辛格,E·珀奇,S·萊曼,W·賓德爾申請人:默克專利股份有限公司